[實(shí)用新型]一種大電流高速高可靠性NPN型功率晶體管有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720591954.3 | 申請日: | 2017-05-25 |
| 公開(公告)號: | CN207068865U | 公開(公告)日: | 2018-03-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 龔利汀;龔利貞 | 申請(專利權(quán))人: | 無錫固電半導(dǎo)體股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L29/73 | 分類號: | H01L29/73;H01L29/06 |
| 代理公司: | 無錫市大為專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙)32104 | 代理人: | 曹祖良 |
| 地址: | 214028 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電流 高速 可靠性 npn 功率 晶體管 | ||
1.一種大電流高速高可靠性NPN型功率晶體管,包括N+型襯底(9),所述N+型襯底(9)的正面設(shè)有N-型集電區(qū)(8),所述N+型襯底(9)背面設(shè)有背面金屬層(10),用于引出晶體管的集電極;所述N-型集電區(qū)(8)中間形成有P型基區(qū)(7),其特征在于,所述P型基區(qū)(7)深入到N-型集電區(qū)(8)內(nèi),深度為10μm,所述P型基區(qū)(7)上連接有基極金屬層(1),用于引出晶體管的基極,所述N-型集電區(qū)(8)邊緣形成有N+型中止環(huán)(11),所述N+型中止環(huán)(11)深入到N-型集電區(qū)(8)內(nèi),所述P型基區(qū)(7)內(nèi)設(shè)有N+型發(fā)射區(qū)(5),所述N+型發(fā)射區(qū)(5)周圍設(shè)有N+型增阻環(huán)(6),所述N+型增阻環(huán)(6)設(shè)在P型基區(qū)(7)內(nèi),所述N+型發(fā)射區(qū)(5)上連接有發(fā)射極金屬層(2),用于引出晶體管的發(fā)射極;所述N-型集電區(qū)(8)表面覆蓋有氧化層(4),所述基極金屬層(1)和發(fā)射極金屬層(2)間通過氧化層(4)隔離,所述氧化層(4)上覆蓋有表面鈍化層(3),所述表面鈍化層(3)對應(yīng)P型基區(qū)(7)和N+型發(fā)射區(qū)(5)各開一個(gè)窗口,分別用于引出基極金屬層(1)和發(fā)射極金屬層(2)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大電流高速高可靠性NPN型功率晶體管,其特征在于:N+型增阻環(huán)(6)上設(shè)有氧化層(4),N+型增阻環(huán)(6)上的氧化層(4)包裹在基極金屬層(1)內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大電流高速高可靠性NPN型功率晶體管,其特征在于:所述N+型發(fā)射區(qū)(5)、N+型增阻環(huán)(6)和N+型中止環(huán)(11)同時(shí)形成,且結(jié)深和摻雜濃度相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大電流高速高可靠性NPN型功率晶體管,其特征在于:所述基極金屬層(1)和發(fā)射極金屬層(2)為同一制造層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大電流高速高可靠性NPN型功率晶體管,其特征在于:所述氧化層(4)為二氧化硅層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大電流高速高可靠性NPN型功率晶體管,其特征在于:所述表面鈍化層(3)為磷硅玻璃膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大電流高速高可靠性NPN型功率晶體管,其特征在于:所述基極金屬層(1)和發(fā)射極金屬層(2)的材料均為鋁,所述背面金屬層(10)的材料包括銀。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大電流高速高可靠性NPN型功率晶體管,其特征在于:所述晶體管的面積為4.15mm*4.15mm,電流為16~18A。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的





