[實用新型]激光除膠設備有效
| 申請號: | 201720588044.X | 申請日: | 2017-05-24 |
| 公開(公告)號: | CN206975397U | 公開(公告)日: | 2018-02-06 |
| 發明(設計)人: | 胡小強 | 申請(專利權)人: | 昆山國顯光電有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/82 | 分類號: | G03F1/82 |
| 代理公司: | 上海波拓知識產權代理有限公司31264 | 代理人: | 楊波 |
| 地址: | 215300 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 激光 設備 | ||
技術領域
本實用新型涉及面板制造技術領域,特別涉及一種激光除膠設備。
背景技術
在顯示面板的制造過程中,制作IC芯片(Integrated Circuit,集成電路)是不可缺少的步驟。在制作IC芯片期間,掩膜版(Photo Mask)包含了整個硅片的芯片圖形特征,是光刻復制圖形的基準和藍本,掩膜版上的任何缺陷都會對最終圖形精度產生嚴重的影響,掩膜版質量的優劣直接影響光刻圖形的質量。由此,在掩膜版被損壞后,需要進行修復。
在現有技術中,在修復掩膜版時,難以將掩膜版上的膜連同膠一起從掩膜版本體上一起剝離下來,甚至會造成有較多的膠體殘留。這些殘留的膠體難以被去除,造成修復掩膜版的工作量較大。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種激光除膠設備,以實現快速除去殘留的膠體,進而減小修復掩膜版的工作量。
本實用新型解決其技術問題是采用以下的技術方案來實現的。
本實用新型提供一種激光除膠設備,包括除膠裝置,除膠裝置包括激光器和吸附管,激光器的鏡頭和吸附管的吸附口聚攏到一起。
進一步地,還包括承載臺,激光器的鏡頭和吸附管的吸附口處于承載臺的同側。
進一步地,設置有多個吸附管,多個吸附管環繞設置在激光器的周圍。
進一步地,除膠裝置還包括吸附泵,吸附泵通過連接管連接至吸附管。
進一步地,連接管為多個,每個吸附管通過一個連接管連接至吸附泵。
進一步地,連接管及吸附泵均為多個,每個吸附管通過一個連接管連接至一個吸附泵。
進一步地,激光除膠設備還包括支撐架,支撐架用于固定激光器及吸附管。
進一步地,激光除膠設備還包括與除膠裝置協同工作的自動光學檢測裝置,自動光學檢測裝置包括探測鏡頭。
進一步地,自動光學檢測裝置還包括拍攝鏡頭。
本實用新型提供的激光除膠設備,通過在激光器周圍環繞設置多個吸附管,在激光器發出激光對掩膜版上的膠體進行軟化的同時,該多個吸附管同步吸附被軟化的膠體,使得軟化后的膠體迅速脫離掩膜版。這樣,膠體在激光照射和吸附管的抽力吸附的共同作用下,可被容易地去除,進而減小了修復掩膜版的工作量。此外,吸附管的抽力吸附還可以避免被激光軟化后的膠體在掩膜版上發生位置轉移而需要激光器多次照射的情況,從而提高了生產效率。
附圖說明
圖1為本實用新型第一實施例中激光除膠設備的局部結構框圖。
圖2為本實用新型第一施例中激光除膠設備的局部結構示意圖。
圖3為本實用新型第二施例中激光除膠設備的局部結構框圖。
圖4為本實用新型第二施例中激光除膠設備的局部結構示意圖。
具體實施方式
更進一步闡述本實用新型為達成預定實用新型目的所采取的技術方式及功效,以下結合附圖及實施例,對本實用新型的具體實施方式、結構、特征及其功效,詳細說明如后。
圖1為本實用新型第一實施例中激光除膠設備的局部結構框圖,圖2為本實用新型第一實施例中激光除膠設備的局部結構示意圖。請參考圖1和圖2,本實施例提供一種激光除膠設備,包括除膠裝置10和承載臺11,該除膠裝置10包括激光器12和吸附管13,激光器12和吸附管13均位于承載臺11的同側。本實施例中,該除膠裝置10特別適用于去除掩膜版30上的膠體20。
請結合圖2,吸附管13的吸附口靠近激光器12的鏡頭并朝向掩膜版30上的膠體20,激光器12用于軟化掩膜版30上的膠體20,吸附管13用于吸附掩膜版30上軟化后的膠體20。
本實施例中,激光除膠設備還包括吸附泵14,吸附泵14通過連接管15連接至吸附管13。吸附管13及連接管15均為多個,每個吸附管13通過一個連接管15連接至吸附泵14。在其他實施例中,吸附管13、連接管15及吸附泵14均為多個,每個吸附管13通過一個連接管15連接至一個吸附泵14。
如圖1所示,除膠裝置10還包括第一控制器11,第一控制器11與激光器12及吸附泵14電性連接,該第一控制器11用于控制激光器12的激光強度及吸附泵14的吸附力。
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G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





