[實用新型]雙光束激光加工系統

有效

• 申請號: 201720575830.6
• 申請日: 2017-05-23
• 公開（公告）號: CN206764154U
• 公開（公告）日: 2017-12-19
• 發明（設計）人: 趙裕興;單吉
• 申請（專利權）人: 蘇州德龍激光股份有限公司
• 主分類號: B23K26/38
• 分類號: B23K26/38;B23K26/064
• 代理公司: 江蘇圣典律師事務所32237
• 代理人: 王玉國

1.雙光束激光加工系統，其特征在于：依光路方向設置有：

激光器，輸出光束；

擴束單元，對激光器發出的光束進行擴束并根據需要改變擴束光斑的大小；

第一反射單元，將擴束后光束射入衰減模組；

衰減模組，改變擴束后激光的偏振態以及將入射光分成平行方向和垂直方向的兩束光；

第二反射單元，將分光后的垂直方向光入射至偏光裝置；

偏光裝置，重新匯聚兩束光并使兩束光分別偏移一角度；

掃描單元，將光束進行聚焦。

2.根據權利要求1所述的雙光束激光加工系統，其特征在于：所述激光擴束單元為布置于激光器出射端光路上的擴束鏡(B)。

3.根據權利要求1所述的雙光束激光加工系統，其特征在于：所述第一反射單元包含依光路方向依次布置的第一反射鏡(C1)和第二反射鏡(C2)。

4.根據權利要求1所述的雙光束激光加工系統，其特征在于：所述衰減模組包含三只偏振玻片以及一只偏光立方體分光器，第一偏振玻片(D1)位于偏光立方體分光器(E1)入射光口，第二偏振玻片(D2)、第三偏振玻片(D3)分別位于偏光立方體分光器(E1)的兩個出光口。

5.根據權利要求4所述的雙光束激光加工系統，其特征在于：所述第一偏振玻片(D1)改變入射光束的偏振態，調節光束中P偏光與S偏光的比例使得兩方向的光強相當，偏光立方體分光器(E1)根據光的偏振態將光分成兩個互相垂直的方向出射，P偏光從平行方向出射并由第三偏振玻片(D3)再次偏振，S偏光從垂直方向出射并由第二偏振玻片(D2)再次偏振，可分別旋轉第二偏振玻片(D2)、第三偏振玻片(D3)使得兩個方向的光強分別至最大直至相當。

6.根據權利要求1所述的雙光束激光加工系統，其特征在于：所述第二反射單元包含依光路方向依次布置的第三反射鏡(C3)和第四反射鏡(C4)。

7.根據權利要求1所述的雙光束激光加工系統，其特征在于：所述偏光裝置包含兩只圓楔形棱鏡和一只偏光立方體分光器，第一圓楔形棱鏡(F1)和第二圓楔形棱鏡(F2)分別位于偏光立方體分光器(E2)的兩個入射光口，通過旋轉圓楔形棱鏡可改變光的角偏移方向。

8.根據權利要求7所述的雙光束激光加工系統，其特征在于：衰減模組出來的垂直方向的光束經反射單元反射后進入第二圓楔形棱鏡(F2)使光束偏移一角度，進入偏光立方體分光器(E2)；衰減模組出來的水平方向光束進入第一圓楔形棱鏡(F1)并偏移同樣的角度進入偏光立方體分光器(E2)，光束沿原來方向從偏光立方體分光器(E2)出射。

9.根據權利要求1所述的雙光束激光加工系統，其特征在于：所述掃描單元包含依光路方向依次布置的振鏡(G)和場鏡(H)，偏光裝置出射的兩束光同時射到振鏡(G)的鏡片上，由場鏡(H)聚焦至加工對象上。

10.根據權利要求9所述的雙光束激光加工系統，其特征在于：所述振鏡(G)為入光口孔徑20mm以上的振鏡。