[實(shí)用新型]一種通用型高精度平面沖擊波發(fā)生器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720567181.5 | 申請(qǐng)日: | 2017-05-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN206862215U | 公開(公告)日: | 2018-01-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張濤;伍星;高志鵬;劉藝;楊佳;劉雨生;劉高旻;張福平;賀紅亮 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國工程物理研究院流體物理研究所 |
| 主分類號(hào): | F42B3/00 | 分類號(hào): | F42B3/00;F42B33/00 |
| 代理公司: | 成都九鼎天元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司51214 | 代理人: | 徐靜,沈強(qiáng) |
| 地址: | 621000 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 通用型 高精度 平面 沖擊波 發(fā)生器 | ||
1.一種通用型高精度平面沖擊波發(fā)生器,其特征在于,包括點(diǎn)轉(zhuǎn)線裝置、線轉(zhuǎn)面裝置、主藥板組件、衰減層,所述點(diǎn)轉(zhuǎn)線裝置、線轉(zhuǎn)面裝置、主藥板組件、衰減層依次相連;
所述點(diǎn)轉(zhuǎn)線裝置包括點(diǎn)轉(zhuǎn)線基板、設(shè)置在點(diǎn)轉(zhuǎn)線基板內(nèi)的點(diǎn)轉(zhuǎn)線藥槽、設(shè)置在點(diǎn)轉(zhuǎn)線藥槽內(nèi)的點(diǎn)轉(zhuǎn)線藥板,所述點(diǎn)轉(zhuǎn)線藥槽包括與導(dǎo)爆管相配合的第一導(dǎo)爆槽、與第一導(dǎo)爆槽連通的第二導(dǎo)爆槽、與第二導(dǎo)爆槽連通的第三導(dǎo)爆槽、與第一導(dǎo)爆槽平行的第四導(dǎo)爆槽,所述第三導(dǎo)爆槽與第二導(dǎo)爆槽相互垂直,所述第一導(dǎo)爆槽依次通過第二導(dǎo)爆槽、第三導(dǎo)爆槽與第四導(dǎo)爆槽連通;
所述線轉(zhuǎn)面裝置包括線轉(zhuǎn)面基板、設(shè)置在線轉(zhuǎn)面基板內(nèi)的若干個(gè)線轉(zhuǎn)面藥槽、設(shè)置在線轉(zhuǎn)面藥槽內(nèi)的線轉(zhuǎn)面藥板,所述線轉(zhuǎn)面藥槽包括與第四導(dǎo)爆槽連通的第五導(dǎo)爆槽、與第五導(dǎo)爆槽連通的第六導(dǎo)爆槽,所述第五導(dǎo)爆槽與第六導(dǎo)爆槽相互垂直;
所述主藥板組件包括主基板、設(shè)置在主基板上的主藥板,所述第六導(dǎo)爆槽與主藥板連通;
所述點(diǎn)轉(zhuǎn)線藥板、線轉(zhuǎn)面藥板、主藥板均采用同種炸藥制成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述通用型高精度平面沖擊波發(fā)生器,其特征在于,所述第一導(dǎo)爆槽與第二導(dǎo)爆槽的之間的夾角為135°。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述通用型高精度平面沖擊波發(fā)生器,其特征在于,所述點(diǎn)轉(zhuǎn)線裝置的邊緣設(shè)置有第一連接件,所述點(diǎn)轉(zhuǎn)線裝置的第一連接件通過螺栓或螺桿或螺釘與線轉(zhuǎn)面裝置相連。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述通用型高精度平面沖擊波發(fā)生器,其特征在于,所述線轉(zhuǎn)面裝置的邊緣設(shè)置有第二連接件,所述線轉(zhuǎn)面裝置的第二連接件通過螺栓或螺桿或螺釘依次與主藥板組件、衰減層相連。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述通用型高精度平面沖擊波發(fā)生器,其特征在于,所述點(diǎn)轉(zhuǎn)線藥板、線轉(zhuǎn)面藥板、主藥板均采用等靜壓壓裝制備而成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述通用型高精度平面沖擊波發(fā)生器,其特征在于,還包括與點(diǎn)轉(zhuǎn)線裝置相配合的雷管套。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-4、6任一項(xiàng)所述通用型高精度平面沖擊波發(fā)生器,其特征在于,所述點(diǎn)轉(zhuǎn)線基板、線轉(zhuǎn)面基板、主基板分別采用具有延展性的有色金屬制備而成。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述通用型高精度平面沖擊波發(fā)生器,其特征在于,所述有色金屬為LY12。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-4、6、8任一項(xiàng)所述通用型高精度平面沖擊波發(fā)生器,其特征在于,所述衰減層采用惰性材料制備而成。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國工程物理研究院流體物理研究所,未經(jīng)中國工程物理研究院流體物理研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201720567181.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





