[實用新型]一種可去除干擾物的適用于HIV抗體的檢測裝置有效
| 申請號: | 201720562350.6 | 申請日: | 2017-05-19 |
| 公開(公告)號: | CN206740773U | 公開(公告)日: | 2017-12-12 |
| 發明(設計)人: | 魏金枝;李月影;岳曉燕 | 申請(專利權)人: | 正元盛邦(天津)生物科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N33/569 | 分類號: | G01N33/569;G01N33/543 |
| 代理公司: | 天津濱??凭曋R產權代理有限公司12211 | 代理人: | 王雨杰 |
| 地址: | 300457 天津市濱海新區開發區洞*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 去除 干擾 適用于 hiv 抗體 檢測 裝置 | ||
技術領域
本實用新型屬于HIV抗體檢測領域,尤其是涉及一種可去除干擾物的適用于HIV抗體的檢測裝置。
背景技術
人類免疫缺陷病毒(Human Immunodeficiency Virus,簡稱HIV),即艾滋病(AIDS,獲得性免疫缺陷綜合征)病毒,是造成人類免疫系統缺陷的一種病毒。1981年,人類免疫缺陷病毒在美國首次發現。它是一種感染人類免疫系統細胞的慢病毒,屬逆轉錄病毒的一種。
HIV通過破壞人體的T淋巴細胞,進而阻斷細胞免疫和體液免疫過程,導致免疫系統癱瘓,從而致使各種疾病在人體內蔓延,最終導致艾滋病。由于HIV的變異極其迅速,難以生產特異性疫苗,至今無有效治療方法,對人類健康造成極大威脅。因而對HIV感染的診斷則是艾滋病預防控制工作的關鍵,診斷發現傳染源才能更有效地控制艾滋病傳播。
HIV抗體檢測是AIDS檢測中最常用的方法,目前根據血清學反應和病毒核酸序列測定,全球流行的HIV可分為2型:HIV-1型和HIV-2型,產生的相應的抗體主要有HIV-1和HIV-2兩種抗體。通常通過血液對HIV抗體進行檢測,及早發現被檢測者是否感染了HIV。HIV抗體檢測有多種方法,如凝聚法、間接免疫熒光法、酶聯免疫吸附實驗(ELISA)、膠體金免疫結合實驗、蛋白印跡法等。目前應用最為普遍的是酶聯免疫吸附實驗(ELISA),該方法靈敏度高,可進行大規模的人群篩選,但檢測時必須由專業人員操作,還必須配合一定的儀器和設備使用,操作時間較長,無法當場出結果,不利于病人追蹤。而我國一些邊遠地區受條件限制,無法使用ELISA法進行有效的篩選。
膠體金免疫層析技術是在酶免疫結合實驗的基礎上發展起來的一種固相標記免疫測定技術。通過血液中HIV抗體檢測就可快速判斷被檢測者是否感染HIV,具有靈敏度高,操作簡單,檢測時間短,檢測不受地域限制等優點,是較為理想的檢測方法。
免疫檢測法中能夠改變被檢測物濃度或改變被檢物與相應檢測抗體結合能力的物質,均可能對檢測結果造成干擾。內源性干擾因素包括自身抗體、異嗜性抗體、人抗動物抗體及其他一些結合蛋白等。脂血、交叉反應及一些分析前變異、基質效應、甚至檢測的設備不同也可對免疫檢測造成干擾。這些干擾可引起許多檢測結果的假性升高或降低,包括激素、腫瘤標志物、藥物、肌鈣蛋白和病原微生物的血清學檢測等,進而影響臨床對疾病的診斷和治療的評估。由于各種干擾因素會導致免疫檢測的假陽性或假陰性結果,進而引起臨床對疾病的誤診誤判,甚至錯誤的治療,因此臨床和實驗室都必須對免疫檢測中的干擾因素給予足夠的重視。
當加入某些抗干擾物質后,比如動物IgG,可以消除部分影響,但是,加入的動物IgG又會對檢測本身的抗原抗體反應產生影響,因此需要設計一種引入消除干擾物質,去除干擾,而又不會影響檢測本身的抗原抗體反應的檢測裝置。
發明內容
有鑒于此,本實用新型旨在提出一種可去除干擾物的適用于HIV抗體的檢測裝置,以解決上述技術問題。
為達到上述目的,本實用新型的技術方案是這樣實現的:
一種可去除干擾物的適用于HIV抗體的檢測裝置,所述檢測裝置包括加樣板、檢測卡和標記磁珠;
所述加樣板上設有若干用于放置檢測卡的卡槽,所述卡槽的底部設有磁鐵;
所述檢測卡包括卡殼底、卡殼蓋和試劑條,所述卡殼蓋蓋合于卡殼底的頂端,所述卡殼蓋的上表面設有視窗和圓形的加樣孔,所述卡殼底的上表面設有用于放置試劑條的放置區,所述試劑條包括硝酸纖維素膜、膠體金結合墊、樣品墊和吸水濾紙,所述放置區包括設置于樣品墊左右兩側的豎直擋板,設置于吸水濾紙左右兩側的圍欄,設置于試劑條下方的若干支撐板和設置于試劑條前后兩端的用于固定試劑條的U型擋板;
所述標記磁珠位于樣品墊的上表面,所述標記磁珠的外表面依次包被有抗干擾物質層和待測樣品層,所述標記磁珠與磁鐵的位置相對應。
進一步地,所述抗干擾物質為IgG。
進一步地,所述卡殼蓋的下表面均勻設有三個壓板,所述壓板與卡殼蓋的下表面相垂直。
進一步地,所述加樣孔的底端固定設有導流罩,所述導流罩的形狀為從上到下直徑逐漸減小的圓臺形,所述導流罩的底端位于樣品墊的上方。
進一步地,所述卡殼底的厚度為0.5-1mm。
進一步地,所述樣品墊的下方還設有傾斜支板,所述傾斜支板沿層析方向向上傾斜設置,傾斜支板與卡殼底表面的夾角為4-6°;所述傾斜支板較高的一端高度與支撐板高度相等。
進一步地,兩側的豎直擋板之間的寬度大于加樣孔的直徑;
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