[實用新型]一種激光清洗機的輸出結構有效
| 申請號: | 201720562007.1 | 申請日: | 2017-05-18 |
| 公開(公告)號: | CN206794281U | 公開(公告)日: | 2017-12-26 |
| 發明(設計)人: | 唐新華 | 申請(專利權)人: | 佛山市森楠激光設備有限公司 |
| 主分類號: | B08B7/00 | 分類號: | B08B7/00;B23K26/064;B23K26/073 |
| 代理公司: | 廣州嘉權專利商標事務所有限公司44205 | 代理人: | 王國標 |
| 地址: | 528000 廣東省佛山市南海區*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 激光 清洗 輸出 結構 | ||
技術領域
本實用新型涉及激光工程技術領域,特別涉及一種激光清洗機的輸出結構。
背景技術
激光清洗機是集激光、光學、機械、電子和計算機等技術于一體的光機電算一體化設備。它利用高能量密度的激光束照射工件表面,使表面的污物、銹斑或涂層發生瞬間蒸發或剝離,從而達到潔凈化的工藝過程。激光清洗技術實用、高效、無損傷、無污染,在污垢、銹斑、油漆、橡膠、塑料、殘留的溶劑和粘結劑等方面是傳統清洗方法所不及的,具有廣闊的應用前景。
現有的激光清洗機的輸出結構一般利用光束準直系統將光纖輸出的激光準直,準直后的光束通過X軸掃描振鏡和Y軸掃描振鏡打到場鏡上,從而在清洗工件表面形成線形光斑。
但是,目前的激光清洗機輸出的光束的能量均匯集到一個點上,通過振鏡掃描形成一個焦點面,當清洗工件的表面不是平整的時候,由于輸出的光束的大部分能量均集中在一個焦點面上,因此清洗的效果不太理想。而且由于X軸掃描振鏡和Y軸掃描振鏡對光路的入射角有一定要求,因此現有的激光清洗機的輸出結構一般占用空間較大。
實用新型內容
本實用新型的目的是提供一種對于不平整工件表面清洗效果好和對空間占用需求較小的激光清洗機的輸出結構。
本實用新型解決其技術問題的解決方案是:一種激光清洗機的輸出結構,包括準直系統、X軸掃描振鏡、場鏡,還包括長焦深激光透鏡和折疊光路結構,所述長焦深激光透鏡位于準直系統和X軸掃描振鏡之間,所述折疊光路結構包括第一、二、三硅基片,所述第一硅基片將從長焦深激光透鏡出來的激光反射到第二硅基片,所述第二硅基片將激光反射到第三硅基片,所述第三硅基片將激光反射到X軸掃描振鏡上,所述X軸掃描振鏡將激光反射到場鏡上。
進一步,所述第一、二、三硅基片均以45度角反射其入射光。
進一步,所述第一、二、三硅基片的反射率大于99.9%。
進一步,所述場鏡前面還設有保護片,所述保護片的透光率大于99.9%。
進一步,所述準直系統包括聚焦透鏡和準直透鏡,所述聚焦透鏡的后焦點和準直透鏡的前焦點重合。
本實用新型的有益效果是:從激光發射器發出的激光通過準直系統進行準直后,通過長焦深激光透鏡對激光束進行整形,長焦深激光透鏡內部設有衍射光柵,通過衍射改變光路,使激光產生一個很長的焦點,同時保持較窄的寬度。把傳統的激光光斑進行拉長,使其具有長的焦深。從而使得輸出的光束的能量在清洗工件表面上下均勻地分布,提高清洗的效果。而且,采用折疊光路結構將激光的入射方向做合理的改變,使得體積較大的準直系統、長焦深激光透鏡、X軸掃描振鏡、場鏡均可以橫向排列,方便激光清洗機的外殼構造,降低整個激光清洗機的體積。
附圖說明
為了更清楚地說明本實用新型實施例中的技術方案,下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單說明。顯然,所描述的附圖只是本實用新型的一部分實施例,而不是全部實施例,本領域的技術人員在不付出創造性勞動的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他設計方案和附圖。
圖1是激光清洗機的輸出結構示意圖;
圖2是準直系統的光路結構示意圖。
具體實施方式
以下將結合實施例和附圖對本實用新型的構思、具體結構及產生的技術效果進行清楚、完整地描述,以充分地理解本實用新型的目的、特征和效果。顯然,所描述的實施例只是本實用新型的一部分實施例,而不是全部實施例,基于本實用新型的實施例,本領域的技術人員在不付出創造性勞動的前提下所獲得的其他實施例,均屬于本實用新型保護的范圍。另外,文中所提到的所有聯接/連接關系,并非單指構件直接相接,而是指可根據具體實施情況,通過添加或減少聯接輔件,來組成更優的聯接結構。本發明創造中的各個技術特征,在不互相矛盾沖突的前提下可以交互組合。
實施例1,參考圖1和圖2,一種激光清洗機的輸出結構,包括外殼a7、準直系統a1、X軸掃描振鏡a4、場鏡a5,所述外殼a7內設有空腔,所述準直系統a1、X軸掃描振鏡a4、場鏡a5沿著激光方向依次安裝在空腔內,還包括長焦深激光透鏡a2和折疊光路結構,所述長焦深激光透鏡a2位于準直系統a1和X軸掃描振鏡a4之間,所述折疊光路結構包括第一、二、三硅基片a31、a32、a33,所述第一硅基片a31將從長焦深激光透鏡a2出來的激光反射到第二硅基片a32,所述第二硅基片a32又將激光反射到第三硅基片a33,所述第三硅基片a33將激光反射到X軸掃描振鏡a4上,所述X軸掃描振鏡a4將激光反射到場鏡a5上。
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