[實用新型]一種濺射裝置的制程反應室及濺射裝置

有效

• 申請號: 201720541487.3
• 申請日: 2017-05-16
• 公開（公告）號: CN207632874U
• 公開（公告）日: 2018-07-20
• 發明（設計）人: 龍俊舟;封鐵柱;楊弘;馬山州
• 申請（專利權）人: 武漢新芯集成電路制造有限公司
• 主分類號: C23C14/14
• 分類號: C23C14/14;C23C14/34;H01L21/67
• 代理公司: 上海申新律師事務所 31272
• 代理人: 俞滌炯

1.一種濺射裝置的制程反應室，包括：

反應室主體，所述反應室主體內設有一氣體源以及一起輝面，所述起輝面朝向所述氣體源，其特征在于，所述氣體源與所述起輝面之間具有一預設距離，所述起輝面上設有粗糙層；所述預設距離為2mm。

2.根據權利要求1所述的制程反應室，其特征在于，所述反應室主體包括相互平行設置的兩個側壁板以及連接所述兩個側壁板的底部板，所述反應室主體內設有制程空間，所述兩個側壁板中的一個側壁板上設有孔洞，所述孔洞的內壁頂部設有所述氣體源，所述孔洞的內壁底部平行連接有所述起輝面，所述底部板位于所述制程空間內的一側連接有基材。

3.根據權利要求2所述的制程反應室，其特征在于，所述制程反應室還包括：

上蓋組件，所述上蓋組件包括連接所述兩個側壁板的頂部板，所述頂部板位于所述制程空間內的一側連接有靶材；

電源，所述電源連接所述靶材；

點燃裝置，所述點燃裝置連接所述氣體源。

4.根據權利要求1所述的制程反應室，其特征在于，所述粗糙層為噴砂面。

5.根據權利要求3所述的制程反應室，其特征在于，所述靶材通過靶材連接件連接于所述頂部板。

6.根據權利要求2所述的制程反應室，其特征在于，所述基材通過基材連接件連接于所述底部板。

7.根據權利要求2所述的制程反應室，其特征在于，所述起輝面與所述兩個側壁板中的一個側壁板相互垂直設置。

8.一種濺射裝置，其特征在于，所述濺射裝置包括如權利要求1-7中任意一項所述的制程反應室。