[實用新型]處理冶煉廢水的系統有效
| 申請號： | 201720536235.1 | 申請日： | 2017-05-15 |
| 公開（公告）號： | CN206940625U | 公開（公告）日： | 2018-01-30 |
| 發明（設計）人： | 郭方穎;王紅軍;祝云章;紀宏巍;王琰 | 申請（專利權）人： | 江西瑞林稀貴金屬科技有限公司 |
| 主分類號： | C02F9/06 | 分類號： | C02F9/06;C02F103/16 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙)11201 | 代理人： | 趙天月 |
| 地址： | 331100 江西省*** | 國省代碼： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 處理 冶煉 廢水 系統 | ||
1.一種處理冶煉廢水的系統，其特征在于，包括：
調節池，所述調節池具有冶煉廢水入口和廢水出口；
中和裝置，所述中和裝置具有廢水入口、鐵鹽入口、堿性藥劑入口和中和后液出口，且在所述中和后液出口處設置有pH計自動控制裝置，所述廢水入口與所述廢水出口相連；
一次氧化裝置，所述一次氧化裝置具有中和后液入口、空氣入口、軟化劑入口和一次氧化后液出口，所述中和后液入口與所述中和后液出口相連；
濃密機，所述濃密機具有一次氧化后液入口、上清液出口和第一底渣出口，所述一次氧化后液入口與所述一次氧化后液出口相連；
電化學處理裝置，所述電化學處理裝置具有上清液入口、第二底渣出口和含有第一絮凝團的后液出口，所述上清液入口與所述上清液出口相連；
二次氧化裝置，所述二次氧化裝置具有含有第一絮凝團的后液入口以及二次氧化后液出口，所述含有第一絮凝團的后液入口與所述含有第一絮凝團的后液出口相連；
絮凝裝置，所述絮凝裝置具有二次氧化后液入口、絮凝劑入口和含有第二絮凝團的后液出口，所述二次氧化后液入口與所述二次氧化后液出口相連；
澄清裝置，所述澄清裝置具有含有第二絮凝團的后液入口、第三底渣出口和澄清廢水出口，所述含有第二絮凝團的后液入口與所述含有第二絮凝團的后液出口相連；
中間水槽，所述中間水槽具有澄清廢水入口和中間水槽廢水出口，所述澄清廢水入口與所述澄清廢水出口相連；
過濾裝置，所述過濾裝置具有中間水槽廢水入口、第四底渣出口和過濾液出口，所述中間水槽廢水入口與所述中間水槽廢水出口相連。
2.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述第二底渣出口與所述濃密機相連。
3.根據權利要求1或2所述的系統，其特征在于，所述第三底渣出口與所述濃密機相連。
4.根據權利要求3所述的系統，其特征在于，所述第四底渣出口與所述濃密機相連。
5.根據權利要求1或4所述的系統，其特征在于，進一步包括：
壓濾機，所述壓濾機具有底渣入口、濾液出口和濾渣出口，所述底渣入口與所述第一底渣出口相連。
6.根據權利要求5所述的系統，其特征在于，進一步包括：
渣槽，所述渣槽與所述第二底渣出口、所述第三底渣出口和所述第四底渣出口中的至少之一相連，并且所述渣槽與所述濃密機相連。
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