[實用新型]用于光學元件的激光預處理裝置

有效

• 申請號: 201720533803.2
• 申請日: 2017-05-15
• 公開（公告）號: CN206981987U
• 公開（公告）日: 2018-02-09
• 發明（設計）人: 蔣一嵐;欒曉雨;王海軍;廖威;陳靜;張麗娟;張傳超;蔣曉龍;白陽;袁曉東;周海
• 申請（專利權）人: 中國工程物理研究院激光聚變研究中心
• 主分類號: B23K26/00
• 分類號: B23K26/00;B23K26/064;B23K26/70
• 代理公司: 北京遠大卓悅知識產權代理事務所(普通合伙)11369
• 代理人: 鄭健

1.一種用于光學元件的激光預處理裝置，其特征在于，包括：

用于發出激光的激光光源；

依次設置在激光傳輸方向上的分光劈板、反射鏡、光束整形系統和放置待處理光學元件的電動平移臺；

其中，激光光源發出的激光經分光劈板之后經反射鏡傳輸至光束整形系統，光束整形系統對激光進行光束整形，將本身高斯分布的激光光斑整形成平頂均勻分布的方光斑，最后輻照到光學元件表面來對光學元件進行激光預處理。

2.如權利要求1所述的用于光學元件的激光預處理裝置，其特征在于，還包括：

用于檢測激光能量的激光能量計，其設置在所述分光劈板的反射光方向上；

用于產生準直光的準直光源，其設置在所述反射鏡反射面的入射光方向上；所述準直光源產生的準直光經反射鏡反射之后將與激光同軸，便于肉眼觀察激光所輻照到的位置。

3.如權利要求1所述的用于光學元件的激光預處理裝置，其特征在于，所述的激光光源為紫外準分子激光器。

4.如權利要求1所述的用于光學元件的激光預處理裝置，其特征在于，所述的反射鏡為鍍有對355nm波長減反且對632nm波長高反薄膜的反射鏡，且與激光光束成45°放置。

5.如權利要求2所述的用于光學元件的激光預處理裝置，其特征在于，所述的準直光源為氦氖激光器。

6.如權利要求1所述的用于光學元件的激光預處理裝置，其特征在于，所述的光束整形系統包括依次位于激光光路上的復眼透鏡組、倍率切換結構和會聚透鏡組；所述的復眼透鏡組用于勻滑激光入射光束，再經倍率切換機構和會聚透鏡組聚焦后形成矩形的平頂能量分布。

7.如權利要求6所述的用于光學元件的激光預處理裝置，其特征在于，所述的倍率切換結構包括：六邊形的手動轉盤結構，其六個面分別作為一個輸入端，使手動轉盤結構實現六種輸入和輸出；所述六個面的兩個相對面的方向上安裝了兩個不同倍率的擴束器，組成兩個擴束鏡組，另一個相對面的方向上安裝直通孔；其中，直通孔對應的兩個面倍率一致，擴束器分別由兩端輸入，形成兩種倍率；六個輸入端可以通過手動轉盤結構轉動實現五檔的倍率切換，從而輸出五種不同面積的光斑。