[實用新型]VCSEL陣列光源、激光投影裝置及3D成像設備

有效

• 申請號: 201720532344.6
• 申請日: 2017-05-15
• 公開（公告）號: CN206908092U
• 公開（公告）日: 2018-01-19
• 發明（設計）人: 王兆民;閆敏;許星
• 申請（專利權）人: 深圳奧比中光科技有限公司
• 主分類號: H01S5/42
• 分類號: H01S5/42;G03B21/20;G02B27/22
• 代理公司: 深圳新創友知識產權代理有限公司44223
• 代理人: 江耀純

1.一種VCSEL陣列光源，其特征在于，包括：

半導體襯底；

多個VCSEL光源以二維陣列的形式排列在所述半導體襯底上；

所述二維陣列包括多個子陣列，

所述子陣列相互之間至少存在平移、旋轉、鏡像、縮放關系中的一種或多種。

2.如權利要求1所述的VCSEL陣列光源，其特征在于，所述子陣列分布在規則區域和/或不規則區域內。

3.如權利要求2所述的VCSEL陣列光源，其特征在于，所述規則區域包括多邊形區域或圓形區域。

4.如權利要求1所述的VCSEL陣列光源，其特征在于，構成所述二維陣列的相鄰的兩個所述子陣列之間：部分相互重疊、存在無VCSEL光源的間隔區域、邊緣重合的一種或多種情況。

5.如權利要求1所述的VCSEL陣列光源，其特征在于，所述子陣列中所述VCSEL光源的以不規則二維圖案排列在所述半導體襯底上。

6.如權利要求1所述的VCSEL陣列光源，其特征在于，所述半導體襯底由多個子襯底組成，所述子襯底上相應的排列了所述VCSEL光源的所述子陣列。

7.一種VCSEL陣列光源，其特征在于，包括：

半導體襯底；

多個VCSEL光源以二維陣列的形式排列在所述半導體襯底上；

所述二維陣列包括多個子陣列，

所述子陣列的大小、分布形狀、光源數量中的至少一個方面不同。

8.一種激光投影裝置，其特征在于，包括：

權利要求1～7任一所述的VCSEL陣列光源；

至少一個透鏡，用于接收且匯聚由所述激光陣列發射的光束；

斑點圖案生成器，用于將所述光束進行擴束后向空間中發射斑點圖案光束；

所述透鏡為單個透鏡、微透鏡陣列中的一種或組合；

所述斑點圖案生成器為微透鏡陣列、DOE、光柵中的一種或多種組合。

9.一種3D成像設備，其特征在于，包括：

權利要求8述的激光投影裝置，用于向空間中發射結構光圖案光束；

圖像采集裝置，用于采集由所述結構光圖案光束照射在目標物體上所形成的結構光圖像；

處理器，接收所述結構光圖像并根據三角法原理計算出所述目標物體的深度圖像。