[實用新型]一種爆堆塊度分布無陰影垂直攝像裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720508683.0 | 申請日： | 2017-05-09 |
| 公開（公告）號： | CN206862355U | 公開（公告）日： | 2018-01-09 |
| 發(fā)明（設計）人： | 彭锃琳;黃鴻飛;李鈺珩;沈樹遠;羅開發(fā) | 申請（專利權(quán)）人： | 武漢大學 |
| 主分類號： | G01C11/00 | 分類號： | G01C11/00;G01B11/02 |
| 代理公司： | 武漢科皓知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(特殊普通合伙)42222 | 代理人： | 薛玲 |
| 地址： | 430072 湖*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 爆堆塊度 分布 陰影 垂直 攝像 裝置 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種爆堆塊度分布無陰影垂直攝像裝置，其特征在于：包括攝像機、鏡頭、圓形透明刻度盤、激光發(fā)射接收器，以及連接所述刻度盤和所述鏡頭的圓筒，所述刻度盤通過圓筒固定在鏡頭前，并與鏡頭面平行，所述刻度盤表面上相互垂直的兩個方向標有刻度，所述激光發(fā)射接收器固定在圓筒的外側(cè)，并且激光發(fā)射接收器的工作平面與刻度盤在同一平面內(nèi)；還包括鏡面條帶，所述鏡面條帶為表面標有刻度的條狀矩形。
2.如權(quán)利要求1所述的一種爆堆塊度分布無陰影垂直攝像裝置，其特征在于：所述圓筒一端的孔徑與所述刻度盤的外徑相匹配，另一端的孔徑與所述鏡頭的外徑相匹配。
3.如權(quán)利要求2所述的一種爆堆塊度分布無陰影垂直攝像裝置，其特征在于：所述刻度盤的刻度范圍為0～10cm。
4.如權(quán)利要求3所述的一種爆堆塊度分布無陰影垂直攝像裝置，其特征在于：所述鏡面條帶的刻度范圍為0～100cm。
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