[實用新型]一種雙穩態電潤濕基板結構及顯示裝置

有效

• 申請號: 201720494879.9
• 申請日: 2017-05-05
• 公開（公告）號: CN206848585U
• 公開（公告）日: 2018-01-05
• 發明（設計）人: 吳昊;鄧小文;周國富
• 申請（專利權）人: 華南師范大學;深圳市國華光電科技有限公司;深圳市國華光電研究院
• 主分類號: G02B26/00
• 分類號: G02B26/00
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司44205
• 代理人: 唐致明

1.一種雙穩態電潤濕基板結構，包括下基板，其特征在于，所述下基板包括基板和依次設置于所述基板上的導電層、疏水絕緣層和圍成像素格陣列的像素墻結構，所述各個像素格的導電層包括第一電極區、第二電極區和設置于兩者之間的無電極區，所述疏水絕緣層上對應各個無電極區的位置設有不連續親水圍堰，將每個像素格分成對應第一電極區、第二電極區的第一區域和第二區域。

2.根據權利要求1所述的雙穩態電潤濕基板結構，其特征在于，所述不連續親水圍堰設有不少于一個的間隙。

3.根據權利要求1或2所述的雙穩態電潤濕基板結構，其特征在于，所述無電極區的邊緣形狀包括弧形、曲線形、直線形或折線形。

4.根據權利要求3所述的雙穩態電潤濕基板結構，其特征在于，在豎直方向上，所述不連續親水圍堰與無電極區的重合面積至少為無電極區的80％。

5.根據權利要求4所述的雙穩態電潤濕基板結構，其特征在于，所述每個第一電極區的面積不大于每個像素格面積的三分之一。

6.根據權利要求5所述的雙穩態電潤濕基板結構，其特征在于，所述親水圍堰的材料與像素墻的材料相同。

7.根據權利要求6所述的雙穩態電潤濕基板結構，其特征在于，所述親水圍堰的高度為200nm～50μm。

8.根據權利要求7所述的雙穩態電潤濕基板結構，其特征在于，所述親水圍堰的寬度為1μm～50μm。

9.根據權利要求2所述的雙穩態電潤濕基板結構，其特征在于，所述間隙的寬度小于30μm。

10.一種雙穩態電潤濕顯示裝置，其特征在于，包括權利要求1至9任一項所述的雙穩態電潤濕基板結構。