[實用新型]高溫、真空環境工件旋轉支承盤的精確定位與控制系統

有效

• 申請號: 201720492571.0
• 申請日: 2017-05-05
• 公開（公告）號: CN206839929U
• 公開（公告）日: 2018-01-05
• 發明（設計）人: 高貴斌
• 申請（專利權）人: 北京中科科美科技股份有限公司
• 主分類號: B25B11/00
• 分類號: B25B11/00
• 代理公司: 北京紐樂康知識產權代理事務所(普通合伙)11210
• 代理人: 徐娟

1.一種高溫、真空環境工件旋轉支承盤的精確定位與控制系統，包括真空腔室(8)，支承公轉盤(5)，所述支承公轉盤(5)通過傳動機構(11)安裝在腔室底盤(3)上，所述傳動機構(11)下方連接有電機(12)，其特征在于，所述腔室底盤(3)的真空外一側安裝有激光測距傳感器(1)，所述腔室底盤(3)上安裝有與所述激光測距傳感器(1)對應的玻璃觀察窗(2)；所述支承公轉盤(5)上固定安裝有用于觸發所述激光測距傳感器(1)的開關觸發塊(4)以及用于支撐并帶動工件(7)旋轉的工件卡具(6)。

2.根據權利要求1所述的一種高溫、真空環境工件旋轉支承盤的精確定位與控制系統，其特征在于，所述激光測距傳感器(1)安裝在所述腔室底盤(3)真空外一側與工序一工位(10)以及工序二工位(9)位置對應處。

3.根據權利要求2所述的一種高溫、真空環境工件旋轉支承盤的精確定位與控制系統，其特征在于，所述開關觸發塊(4)通過螺栓安裝在所述支承公轉盤(5)上。