[實用新型]用于3D成像的激光陣列、設備及激光投影裝置

有效

• 申請號: 201720489039.3
• 申請日: 2017-05-04
• 公開（公告）號: CN207134608U
• 公開（公告）日: 2018-03-23
• 發明（設計）人: 王兆民;閆敏;許星
• 申請（專利權）人: 深圳奧比中光科技有限公司
• 主分類號: H01S5/42
• 分類號: H01S5/42;G03B15/02;G03B35/00
• 代理公司: 深圳新創友知識產權代理有限公司44223
• 代理人: 江耀純

1.一種用于3D成像的激光陣列，其特征在于，包括：在半導體襯底上以二維陣列形式排列的多個VCSEL光源；所述二維陣列包括多個子陣列，所述子陣列共用同一個圓心。

2.如權利要求1所述的激光陣列，其特征在于，所述子陣列分布的區域包括扇形區域和/或環形區域。

3.如權利要求1所述的激光陣列，其特征在于，所述二維陣列包括由所述子陣列通過同一個中心點旋轉到其他區域后在該區域產生一個復制的子陣列。

4.如權利要求1所述的激光陣列，其特征在于，所述二維陣列中相鄰的兩個子陣列之間包括：部分相互重疊、存在無所述VCSEL光源的間隔區域、邊緣重合的一種或多種情況。

5.如權利要求1所述的激光陣列，其特征在于，所述子陣列數量不小于2時，所述子陣列之間大小、分布區域形狀、旋轉角度三方面中的至少一個方面不同。

6.如權利要求1所述的激光陣列，其特征在于，所述子陣列中VCSEL光源的排列為不規則圖案。

7.如權利要求1所述的激光陣列，其特征在于，所述子陣列中VCSEL光源的數量不超過24，所述二維陣列中VCSEL光源的數量不超過576。

8.如權利要求1所述的激光陣列，其特征在于，所述子陣列的圓心角包括15°、30°、45°、60°、90°或120°。

9.一種激光投影裝置，其特征在于，包括：

權利要求1～8任一所述的激光陣列；

透鏡，用于接收且匯聚由所述激光陣列發射的光束；

斑點圖案生成器，用于將所述光束進行分束后向空間中發射斑點圖案光束；

所述透鏡為單個透鏡、微透鏡陣列中的一種或組合；

所述斑點圖案生成器為微透鏡陣列、衍射光學元件、光柵中的一種或組合。

10.一種3D成像設備，其特征在于，包括：

權利要求9所述的激光投影裝置，用于向空間中發射結構光圖案光束；

圖像采集裝置，用于采集由所述結構光圖案光束照射在目標物體上所形成的結構光圖像；

處理器，接收所述結構光圖像并根據三角法原理計算出所述目標物體的深度圖像。