[實用新型]一種應用光譜儀來量測電漿氣體解離狀態的量測裝置有效
| 申請號： | 201720482868.9 | 申請日： | 2017-05-03 |
| 公開（公告）號： | CN207300868U | 公開（公告）日： | 2018-05-01 |
| 發明（設計）人： | 潘瑞寶 | 申請（專利權）人： | 富蘭登科技股份有限公司 |
| 主分類號： | G01N21/25 | 分類號： | G01N21/25 |
| 代理公司： | 北京金智普華知識產權代理有限公司11401 | 代理人： | 巴曉艷 |
| 地址： | 中國臺灣新*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 應用 光譜儀 來量測電漿 氣體 解離 狀態 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種應用光譜儀來量測電漿氣體解離狀態的量測裝置，其特征在于，包含：
一主路徑，供半導體積體電路制造時，進行電漿輔助沉積、薄膜蝕刻及改變材料表面；
結合于該主路徑之第二路徑，供容置反應氣體；
偵測件及光譜儀量測氣體解離狀態裝置，設于主路徑與第二路徑之間，藉由該偵測件偵測管體內之氣體解離狀態，并由光譜儀量測氣體解離狀態裝置計算出解離相對量值。
2.根據權利要求1所述的一種應用光譜儀來量測電漿氣體解離狀態的量測裝置，其特征在于，主路徑與第二路徑之間以管體連結，該偵測件及光譜儀量測氣體解離狀態裝置設于該管體。
3.根據權利要求1所述的一種應用光譜儀來量測電漿氣體解離狀態的量測裝置，其特征在于，該偵測件及光譜儀量測氣體解離狀態裝置設于該主路徑內。
4.根據權利要求1所述的一種應用光譜儀來量測電漿氣體解離狀態的量測裝置，其特征在于，該偵測件及光譜儀量測氣體解離狀態裝置設于該第二路徑內。
5.根據權利要求1所述的一種應用光譜儀來量測電漿氣體解離狀態的量測裝置，其特征在于，該偵測件及光譜儀量測氣體解離狀態裝置設于流體路徑。
6.根據權利要求1所述的一種應用光譜儀來量測電漿氣體解離狀態的量測裝置，其特征在于，該偵測件及光譜儀量測氣體解離狀態裝置可設置在電漿源設備、電漿氣體腔室及電控統之裝置中。
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