[實(shí)用新型]一種多晶鑄錠用高效坩堝有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720463478.7 | 申請(qǐng)日: | 2017-04-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN206916253U | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-01-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙科巍;朱遠(yuǎn)國(guó);張波;方茜;梁玲;呂濤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 山西潞安太陽(yáng)能科技有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | C30B28/06 | 分類號(hào): | C30B28/06;C30B29/06 |
| 代理公司: | 太原市科瑞達(dá)專利代理有限公司14101 | 代理人: | 李富元 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 多晶 鑄錠 高效 坩堝 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及硅片生產(chǎn)領(lǐng)域,具體是一種多晶鑄錠用高效坩堝。
背景技術(shù)
太陽(yáng)能多晶電池分硅料、鑄錠、硅片、電池片、組件五大制造階段。在多晶鑄錠時(shí)多采用的是定向凝固的方法,即將硅料按照工藝要求裝入陶瓷坩堝后,經(jīng)過(guò)真空處理后進(jìn)行加熱,硅料經(jīng)過(guò)熔化為液態(tài)硅,通過(guò)工藝控制使其從底部開(kāi)始形核長(zhǎng)晶從而鑄成多晶硅錠,在經(jīng)過(guò)退火、冷卻處理處理后制成最終成品。
目前的多晶鑄錠用陶瓷坩堝,在晶硅體的形核過(guò)程中,熔融狀態(tài)的硅料自發(fā)形核并生長(zhǎng),形成的晶核均勻性較差,導(dǎo)致后期長(zhǎng)晶過(guò)程中產(chǎn)生較多的位錯(cuò)及其他缺陷,硅片晶粒分布不均勻,其光電轉(zhuǎn)換效率普遍偏低。
隨著光伏產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,傳統(tǒng)多晶硅鑄錠技術(shù)已無(wú)法滿足市場(chǎng)對(duì)光伏產(chǎn)品品質(zhì)的需求,高質(zhì)量高轉(zhuǎn)換效率的太陽(yáng)能電池是行業(yè)一直追求的目標(biāo)。
為獲得質(zhì)量較好的的硅錠質(zhì)量,業(yè)內(nèi)多采用半熔高效鑄錠工藝,相對(duì)于傳統(tǒng)的定向凝固多晶硅鑄錠,半熔工藝就是先將特定的籽晶鋪設(shè)于石英坩堝底部,籽晶通常為高純硅粉、尺寸均勻的顆粒料、細(xì)小的原生碎料或碎硅片,在后續(xù)的硅料熔化過(guò)程中,通過(guò)工藝控制,使物料在坩堝內(nèi)從頂部向底部垂直熔化,最終留有一定高度籽晶不被完全熔化,未被熔化的籽晶能夠降低或避免晶體形核階段由坩堝底部直接異質(zhì)形核的概率,并在后續(xù)的晶體生長(zhǎng)過(guò)程中作為晶體生長(zhǎng)的晶核,解決了現(xiàn)有的硅晶體自發(fā)形核容易導(dǎo)致非均勻形核和晶核品質(zhì)低的問(wèn)題,降低或消除了晶體形核所克服的勢(shì)壘引起的晶體缺陷,獲得晶粒均勻、效率較高的多晶硅錠。這種方法生產(chǎn)周期長(zhǎng)、籽晶控制難度大,其在1500℃以上的高溫下,邊緣區(qū)域籽晶難以控制,導(dǎo)致邊角位置的硅片電池轉(zhuǎn)換效率和中心區(qū)域有較大差距,離散度較大,并且底部籽晶占據(jù)一部分位置和較長(zhǎng)低少子壽命區(qū)域,導(dǎo)致硅錠合格率較低,生產(chǎn)成本高。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是:如何提供一種坩堝,使所產(chǎn)硅錠的晶核尺寸均勻且可控,從而減少后期長(zhǎng)晶過(guò)程中的晶體缺陷,提高硅錠光電轉(zhuǎn)換效率,增加硅錠產(chǎn)出率,降低生產(chǎn)周期和加工成本。
本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是:一種多晶鑄錠用高效坩堝,在陶瓷坩堝的底部有一層MoSi2顆粒層,在陶瓷坩堝的內(nèi)側(cè)壁和MoSi2顆粒層上表面有一層氮化硅。
作為一種優(yōu)選方式:MoSi2顆粒層厚度為1.5mm,內(nèi)側(cè)壁氮化硅涂層厚度為0.15mm,MoSi2顆粒層上表面氮化硅涂層3厚度為0.08mm。
作為一種優(yōu)選方式:MoSi2顆粒純度大于99.99%,粒徑為0.3-0.8mm。
本實(shí)用新型的有益效果是:所產(chǎn)硅錠的晶核尺寸均勻且可控,減少了后期長(zhǎng)晶過(guò)程中的晶體缺陷,硅錠電池轉(zhuǎn)換效率可提高0.2-0.3%,硅錠產(chǎn)出率可增加3-5%,縮短生產(chǎn)周期和降低加工成本。
附圖說(shuō)明
圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;
其中,1、氮化硅涂層,2、MoSi2顆粒層,3、陶瓷坩堝。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型提供的一種多晶鑄錠用高效坩堝,包括普通陶瓷坩堝、MoSi2顆粒層、氮化硅涂層,陶瓷坩堝底部鍍有均勻分布的高純MoSi2顆粒層。
G6陶瓷坩堝(1045mm×1045mm×540mm),其形狀如圖1所示,MoSi2顆粒層2厚度為1.5mm,側(cè)壁氮化硅涂層厚度為0.15mm,底壁氮化硅涂層厚度為0.08mm。
通過(guò)相同多晶鑄錠爐及相同鑄錠及電池工藝,采用上述陶瓷坩堝和常規(guī)坩堝進(jìn)行生產(chǎn),所得硅錠的生產(chǎn)周期短、紅區(qū)長(zhǎng)度少、硅錠合格率較高、電池轉(zhuǎn)換效率高,具體結(jié)果如下表:
本實(shí)用新型的生產(chǎn)步驟如下:
(1)選擇普通的鑄錠用陶瓷坩堝;
(2)分選合適的MoSi2顆粒;
(3)在坩堝底部用毛刷涂一層高純陶瓷粘結(jié)劑;
(4)均勻撒上準(zhǔn)備好的MoSi2顆粒;
(5)再涂一層高純陶瓷粘結(jié)劑,放置兩小時(shí);
(6)將硅溶膠、純水、氮化硅粉按照1:5:10混合后進(jìn)行充分?jǐn)嚢瑁瑢?duì)坩堝加熱并保持至60-80℃時(shí)進(jìn)行噴涂,底壁噴涂6遍,側(cè)壁噴涂12遍;
(7)對(duì)坩堝進(jìn)行100℃低溫?zé)Y(jié)3小時(shí)。
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