[實用新型]用于基板處理腔室的蓋體以及處理腔室

有效

• 申請號: 201720463376.5
• 申請日: 2017-04-28
• 公開（公告）號: CN207834248U
• 公開（公告）日: 2018-09-07
• 發明（設計）人: 伯納德·L·黃
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;趙靜

1.一種用于基板處理腔室的蓋體，其特征在于，包含：

蓋構件，所述蓋構件具有第一表面和與所述第一表面相對的第二表面；

通過所述蓋構件的中央開口，其中所述中央開口的內輪廓包含具有第一直徑的第一段、具有第二直徑的第二段，和具有第三直徑的第三段，其中所述第二段被設置在所述第一段和所述第三段之間，且所述第一直徑從所述第二段朝向所述蓋構件的所述第一表面逐漸增加，且其中所述第一段具有相對于所述中央開口的軸線成角度的內表面；和

溝槽，所述溝槽沿著所述第一表面中的封閉路徑形成，所述溝槽具有形成在所述溝槽的內表面中的凹槽。

2.如權利要求1所述的蓋體，其特征在于，所述第一段的所述內表面的所述角度在30°和60°之間。

3.如權利要求1所述的蓋體，其特征在于，所述凹槽具有斜角，所述斜角沿著相對于所述溝槽的底表面的方向以一角度延伸，所述角度在15°和45°之間。

4.如權利要求1所述的蓋體，其特征在于，所述蓋構件是由火焰拋光的石英制成。

5.如權利要求1所述的蓋體，其特征在于，所述蓋構件由石英制成且所述蓋構件的所述第二表面被火焰拋光。

6.如權利要求5所述的蓋體，其特征在于，所述蓋構件的所述第二表面具有在2埃與150埃之間的平均表面粗糙度。

7.如權利要求1所述的蓋體，其特征在于，所述蓋構件是由非火焰拋光的石英制成。

8.一種處理腔室，其特征在于，包含：

主體；

基板支撐組件，所述基板支撐組件設置在所述主體內部；

覆蓋所述主體的蓋體，所述蓋體包含：

板，所述板具有第一表面和與所述第一表面相對的第二表面；

通過所述板的中央開口，其中所述中央開口的一部分具有朝向所述第一表面增加的內徑；和

溝槽，形成在所述第一表面中；和

氣體耦合嵌件，所述氣體耦合嵌件設置在中央開口內且具有經成形以匹配所述中央開口的所述內徑的漸縮形凸緣；和

間隔環，所述間隔環設置在所述蓋體和所述氣體耦合嵌件之間的界面處，其中所述間隔環具有與所述蓋體和所述氣體耦合嵌件之間的界面匹配的形狀。

9.如權利要求8所述的處理腔室，其特征在于，所述溝槽具有形成在所述溝槽的內表面中的凹槽。

10.如權利要求9所述的處理腔室，其特征在于，所述凹槽被斜切以便所述內表面的一部分沿著相對于所述溝槽的底表面的方向以一角度延伸，所述角度在15°和45°之間。

11.如權利要求8所述的處理腔室，其特征在于，所述板的所述第二表面具有在2埃與150埃之間的平均表面粗糙度。