[實用新型]一種薄膜制備裝置有效
| 申請號: | 201720462083.5 | 申請日: | 2017-04-27 |
| 公開(公告)號: | CN206746918U | 公開(公告)日: | 2017-12-15 |
| 發明(設計)人: | 吳志軍 | 申請(專利權)人: | 江蘇拓邦環保科技有限公司 |
| 主分類號: | B05C1/10 | 分類號: | B05C1/10;B05C11/02;B05C11/10 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 薄膜 制備 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種薄膜制備裝置,特別是反滲透膜或納濾膜制備裝置。
背景技術
反滲透膜、納濾膜等薄膜在水處理過程中發揮著極為重要的作用,已在家庭和工業場合被廣泛采用,并且未來仍有著十分廣闊的應用前景。因此,這些薄膜的制備工藝無疑是重要的,如何高效率、高質量地制備出合乎需要的薄膜,是本領域的技術人員必須面對的問題。現有技術中,通常是采用將基材浸入油相液中的方式來制備反滲透膜或納濾膜,這種方式不容易控制油相液的涂覆量和成膜涂覆時間,因而會影響到薄膜的生產效率和質量。
實用新型內容
基于上述現狀,本實用新型的主要目的在于提供一種薄膜制備裝置,其能方便、快速地制備出諸如反滲透膜、納濾膜等薄膜,并且成膜流體的涂覆量和成膜時間便于實現精確控制。
為實現上述目的,本實用新型采用的技術方案如下:
一種薄膜制備裝置,用于在基材上涂覆成膜流體以形成薄膜,所述薄膜制備裝置包括基材輸送機構、涂覆機構和膜厚調節機構,其中,所述涂覆機構和所述膜厚調節機構彼此間隔開,所述基材輸送機構用于輸送所述基材順次經過所述涂覆機構和所述膜厚調節機構,所述涂覆機構用于向所述基材上涂覆成膜流體,所述膜厚調節機構用于刮除所述基材上的一部分成膜流體。
優選地,所述涂覆機構包括水平設置的涂覆輥,所述涂覆輥的外表面上設置有沿縱向延伸的流體出口。
優選地,所述涂覆輥的至少一端設置有流體入口,所述流體入口與所述流體出口之間在所述涂覆輥的內部保持相通。
優選地,所述流體出口的寬度為5~10mm。
優選地,所述涂覆輥為圓柱體,所述流體出口位于所述圓柱體的最高的母線處。
優選地,所述涂覆機構還包括第一高度調節機構,以用于調節所述涂覆輥到所述基材的距離。
優選地,所述涂覆輥到所述基材的距離在0~30mm的范圍內可調。
優選地,所述膜厚調節機構包括水平設置的膜厚調節輥,所述膜厚調節輥在旋轉過程中刮除一部分成膜流體。
優選地,所述膜厚調節機構還包括第二高度調節機構,以用于調節所述膜厚調節輥到所述基材的距離。
優選地,所述膜厚調節輥到所述基材的距離在-20~20mm的范圍內可調。
優選地,所述膜厚調節機構和所述涂覆機構中的至少一者包括水平位置調節機構,以用于調節所述膜厚調節機構與所述涂覆機構之間的距離。
優選地,所述膜厚調節機構與所述涂覆機構之間的距離在3000~4500mm的范圍內可調。
優選地,還包括風刀組件,所述風刀組件設置在所述膜厚調節機構的下游側。
優選地,所述薄膜制備裝置為反滲透膜制備裝置或納濾膜制備裝置,并且其中,所述成膜流體為油相液。
本實用新型的薄膜制備裝置能夠實現成膜流體的涂覆量、成膜時間、以及薄膜厚度的精確控制,從而方便地制備出性能指標滿足要求的薄膜,特別是反滲透膜或納濾膜,制備效率高,成膜質量好。
附圖說明
以下將參照附圖對根據本實用新型的薄膜制備裝置的優選實施方式進行描述。圖中:
圖1為根據本實用新型的一種優選實施方式的薄膜制備裝置的主要部分的主視示意圖;
圖2為圖1的俯視示意圖;
圖3為圖2中的A區域的局部放大視圖。
具體實施方式
本實用新型針對反滲透膜、納濾膜等的制備需求,提供了一種薄膜制備裝置,用于在基材上涂覆成膜流體以形成薄膜。容易理解的是,本實用新型的薄膜制備裝置不僅可以用于制備反滲透膜、納濾膜等薄膜,而且同樣可以用于制備其他類型的薄膜。
如圖1-2所示,本實用新型所述的薄膜制備裝置包括基材輸送機構1、涂覆機構2和膜厚調節機構3,其中,所述涂覆機構2和所述膜厚調節機構3彼此間隔開,所述基材輸送機構1用于輸送所述基材(未示出)順次經過所述涂覆機構2和所述膜厚調節機構3,例如從所述涂覆機構2和所述膜厚調節機構3的下方經過,所述涂覆機構2用于向所述基材上(例如向基材的上側表面)涂覆成膜流體,所述膜厚調節機構3用于刮除所述基材上的一部分成膜流體。成膜流體在基材表面上完成成膜反應后,即可得到所需要的薄膜。
本實用新型的薄膜制備裝置在具體工作時,通過控制涂覆機構2的涂覆速度(例如成膜流體的輸出速度)、或者控制基材輸送機構1的輸送速度,便可以方便地控制成膜流體在基材上的涂覆量,而通過設置涂覆機構2與膜厚調節機構3之間的距離,又可以方便地控制成膜涂覆時間,從而可高效率、高質量地制備出所需要的薄膜。
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