[實用新型]防水的工業廢氣處理設備電場組件有效
| 申請號: | 201720450552.1 | 申請日: | 2017-04-26 |
| 公開(公告)號: | CN206660912U | 公開(公告)日: | 2017-11-24 |
| 發明(設計)人: | 張坤;周朔民;周炫佑;王明強 | 申請(專利權)人: | 重慶市耕爵環保科技有限公司 |
| 主分類號: | B01D53/32 | 分類號: | B01D53/32 |
| 代理公司: | 重慶市前沿專利事務所(普通合伙)50211 | 代理人: | 王瑩 |
| 地址: | 405200 重慶*** | 國省代碼: | 重慶;85 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 防水 工業 廢氣 處理 設備 電場 組件 | ||
技術領域
本實用新型屬于工業廢氣處理設備技術領域,具體地講,特別涉及一種防水的工業廢氣處理設備電場組件。
背景技術
目前,隨著社會和技術的進步,人們的安全環保意識得到提高,人們對于工業廢氣的排放要求也越來越高,各種工業廢氣處理設備應運而生。其中,低溫等離子體工業廢氣處理設備因其適用性廣、操作方便、處理效率高而受到廣泛關注。現有低溫等離子體工業廢氣處理設備往往采用針狀、齒狀、線狀或者錐形結構構成其中一個電極,采用筒狀或板狀結構構成另一個電極。這樣形成的電場強度弱、電場分布不均勻,廢氣處理效果差、效率低。并且,電極的結構復雜,裝配操作麻煩、生產成本高。
申請人2016年12月2日向專利局提交了名為“工業廢氣處理設備的電場組件”的實用新型專利申請,公開了一種如下所述的電場組件:包括左右相對布置的兩塊負極板,在兩塊所述負極板之間垂直固定有至少一個負極筒,所述負極板正對負極筒筒口的部位空缺,在每一所述負極筒內均穿設有同軸的正極桿,在每一所述正極桿上均套裝有至少一個正極片,在每一所述負極板的外側均布置有正極板,所述正極板和負極板之間通過絕緣柱連接,所述正極桿的兩端均穿過對應的正極板并通過外螺母鎖緊,從而提供了一種結構簡單、生產成本低、形成高強度電場的電場組件。這種電場組件在運用到特定設備上時需要豎向安裝,也即負極筒呈豎立狀態,這樣一來,在外殼防水不佳有雨水自上而下落在電場組件上時,絕緣柱容易短路,造成設備不能正常運行。
實用新型內容
本實用新型所要解決的技術問題在于提供一種防水的工業廢氣處理設備電場組件。
本實用新型的技術方案如下:一種防水的工業廢氣處理設備電場組件,包括左右相對布置的兩塊負極板,在兩塊所述負極板之間垂直固定有至少一個負極筒,所述負極板正對負極筒筒口的部位空缺,在每一所述負極筒內均穿設有同軸的正極桿,在每一所述正極桿上均套裝有至少一個正極片,在每一所述負極板的外側均布置有正極板,所述正極板和負極板之間通過至少一個絕緣柱連接,所述正極桿的兩端均穿過對應的正極板并通過外螺母鎖緊,在其中一塊正極板與緊挨的絕緣柱之間墊裝有與正極板平行的防水蓋,在另一正極板所對應的負極板與緊挨的絕緣柱之間也墊裝有與負極板平行的防水蓋,每一所述防水蓋的外緣均向對應的絕緣柱方向彎折。
所述絕緣柱的兩端均通過螺釘與對應的正極板或者負極板鎖緊。
每一正極板與對應負極板之間的絕緣柱均呈矩陣分布有四個。
有益效果:本實用新型通過在絕緣柱與對應的正極板或者負極板之間設置防水蓋,并且防水蓋的外緣向對應的絕緣柱方向彎折,從而提供了一種防水的工業廢氣處理設備電場組件,利用防水蓋對絕緣柱進行遮蔽,避免雨水直接落在絕緣柱上,有效地避免了絕緣柱的短路,提高了設備的安全性,具有構思巧妙、結構簡單、改造容易、改造成本低等特點。
附圖說明
圖1為本實用新型的結構示意圖。
圖2為圖1的左視圖。
圖3為圖2的A-A剖視圖。
圖4為圖3的J部放大圖。
圖中標記如下:防水蓋1、絕緣柱2、正極板3、負極板4、正極桿5、負極筒6。
具體實施方式
下面結合附圖,通過對本實用新型的具體實施方式作進一步的描述,使本實用新型的技術方案及其有益效果更加清楚、明確。
如圖1、圖2、圖3和圖4所示,本實用新型包括左右相對布置的兩塊負極板4,在兩塊所述負極板4之間垂直固定有至少一個負極筒6,所述負極板4正對負極筒6筒口的部位空缺。在每一所述負極筒6內均穿設有同軸的正極桿5,在每一所述正極桿5上均套裝有至少一個正極片。在每一所述負極板4的外側均布置有正極板3,所述正極板3和負極板4之間通過至少一個絕緣柱2連接,所述正極桿5的兩端均穿過對應的正極板3并通過外螺母鎖緊,這些均與現有技術相同,在此不做贅述。在其中一塊正極板3與緊挨的絕緣柱2之間墊裝有與正極板3平行的防水蓋1,在另一正極板3所對應的負極板4與緊挨的絕緣柱2之間也墊裝有與負極板4平行的防水蓋1。每一所述防水蓋1的外緣均向對應的絕緣柱2方向彎折。所述絕緣柱2的兩端均通過螺釘與對應的正極板3或者負極板4鎖緊。每一正極板3與對應負極板4之間的絕緣柱2均呈矩陣分布有四個。
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