[實用新型]工件清洗裝置有效
| 申請號: | 201720446068.1 | 申請日: | 2017-04-25 |
| 公開(公告)號: | CN206731698U | 公開(公告)日: | 2017-12-12 |
| 發明(設計)人: | 李立升 | 申請(專利權)人: | 東莞市華升真空鍍膜科技有限公司 |
| 主分類號: | B08B3/12 | 分類號: | B08B3/12;B08B13/00 |
| 代理公司: | 深圳市順天達專利商標代理有限公司44217 | 代理人: | 李琴 |
| 地址: | 523820 廣東省東莞市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 工件 清洗 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及工件的表面處理,更具體地說,涉及一種工件清洗裝置。
背景技術
為了使得金屬工件的性能得到改善,通常會在金屬工件的表面進行真空鍍膜。在真空鍍膜前,對金屬工件的表面進行預清洗處理是十分重要的步驟,該步驟對鍍膜后的膜基結合力有著重要的影響。對于金屬工件的表面而言,通常需要采用除銹工作液和抗氧化工作液進行除銹和抗氧化處理。經過一段時間的使用后,工作液中的溶質不斷消耗,相應的工作液的濃度必然不斷下降。如果不進行監控,很難保證對工件進行清洗的品質。常規的做法是,每清洗一定數量的工件以后,整槽更換工作液。這樣的做法效率較低且成本較高,在未更換工作液之前,工作液的有效成分逐漸減少,清洗的能力逐漸下降,不能起到充分的清洗作用而影響品質。
實用新型內容
本實用新型要解決的技術問題在于,針對現有技術中的上述缺陷,提供一種工件清洗裝置,能夠對工作液的濃度進行監控,保證工件的品質。
本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是:構造一種工件清洗裝置,包括至少一個用于容納工作液的工作液槽,所述工件清洗裝置還包括:
用于容納補充液的補充液槽,與所述工作液槽連接;
用于控制補充液槽內的補充液流入所述工作液槽內的補充液電動閥門,設置在所述工作液槽和對應的補充液槽之間;
用于定時對所述工作液的濃度進行測定的對應測定裝置,設置在所述工作液槽內;
與所述測定裝置連接、以驅動所述測定裝置浸入或離開所述工作液的驅動裝置;以及
用于根據所述測定裝置的測定結果控制所述補充液電動閥門的控制器,所述控制器與所述驅動裝置、測定裝置、以及補充液電動閥門電連接。
根據本實用新型所述的工件清洗裝置,所述工件清洗裝置還包括靠近所述工作液槽底部的工作液電動閥門,所述工作液電動閥門與所述控制器電連接。
根據本實用新型所述的工件清洗裝置,所述工作液槽是除銹工作液槽,所述測定裝置是PH值測定裝置。
根據本實用新型所述的工件清洗裝置,所述工作液槽是抗氧化工作液槽,所述測定裝置是電導率測定裝置。
根據本實用新型所述的工件清洗裝置,所述驅動裝置包括電機、與所述電機連接的掛繩、以及設置在所述工作液槽的頂緣上且供所述掛繩纏繞的定滑輪。
根據本實用新型所述的工件清洗裝置,所述工作液槽和對應的補充液槽連接為一體且共用槽壁,所述補充液電動閥門設置在所述槽壁上。
根據本實用新型所述的工件清洗裝置,所述工作液槽和對應的補充液槽通過管道相互連接;所述補充液電動閥門設置在所述工作液槽或補充液槽上且與所述管道連接,或者所述補充液電動閥門設置在所述管道內。
根據本實用新型所述的工件清洗裝置,所述補充液電動閥門為單向閥。
根據本實用新型所述的工件清洗裝置,所述工件清洗裝置包括兩個工作液槽、以及對應的兩個補充液槽,兩個工作液槽的其中一個是除銹工作液槽,另一個是抗氧化工作液槽。
實施本實用新型的工件清洗裝置,具有以下有益效果:可以自動監測工作液的濃度,當工作液的濃度過低時,自動提供補充液,以增加工作液的濃度,保證工作液的清洗能力進而保證工件的品質。
附圖說明
下面將結合附圖及實施例對本實用新型作進一步說明,附圖中:
圖1是本實用新型中工件清洗裝置的示意圖。
具體實施方式
為了使本實用新型的目的、技術方案及優點更加清楚明白,以下結合附圖及實施例,對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解,此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型,并不用于限定本實用新型。
圖1是本實用新型中工件清洗裝置100的示意圖。如圖1所示,本實用新型的工件清洗裝置100包括至少一個工作液槽101、以及與工作液槽101連接的對應的補充液槽102。其中該工作液槽101可以呈立方體形,其頂部可以開口,在工作液槽101內設置有超聲裝置109;補充液槽102也可以呈立方體形,其頂部也可以開口。該工作液槽101和對應的補充液槽102可以連接為一體,且共用槽壁103;也可以通過管道相互連接,該管道包括設置在補充液槽102上的入口、以及設置在工作液槽101上的出口。在工作液槽101內裝有第一濃度的工作液,在補充液槽102內裝有第二濃度的補充液,工作液和補充液為相同的溶液,且第二濃度高于第一濃度。
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