[實用新型]平面兩用控制點裝置及其應用的測量系統有效
| 申請號: | 201720432708.3 | 申請日: | 2017-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN206787490U | 公開(公告)日: | 2017-12-22 |
| 發明(設計)人: | 徐家楨;姜國國;宋巧林;王朝暉;居海兵;郭強;徐榮;劉娟 | 申請(專利權)人: | 中國核工業第五建設有限公司 |
| 主分類號: | G01B11/00 | 分類號: | G01B11/00;G01B11/02;G01B11/26;G01C5/00 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司31100 | 代理人: | 郭蔚 |
| 地址: | 201512 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 平面 兩用 控制 裝置 及其 應用 測量 系統 | ||
1.平面兩用控制點裝置,其特征在于,包括:
一埋入部和一靶座部,所述靶座部的底部連接所述埋入部,所述靶座部的頂部中央開設一凹槽;
一保護部,包括一保護套和相配合的一蓋板,所述保護套設在所述靶座部的外周,所述蓋板和所述保護套可以活動連接。
2.根據權利要求1所述的平面兩用控制點裝置,其特征在于,
所述保護套為中空圓柱狀,其上緣設內螺紋,所述蓋板呈圓盤狀,所述蓋板設外側螺紋,所述蓋板的頂部設一操作孔。
3.根據權利要求2所述的平面兩用控制點裝置,其特征在于,
所述埋入部呈至少一外伸的長腿形。
4.根據權利要求3所述的平面兩用控制點裝置,其特征在于,
所述操作孔呈內六角形。
5.一種應用權利要求1至4中任一項所述裝置的測量系統,所述系統進一步包括:
一靶球;
一全站儀對中部,包括一對中頂部和一嵌設部,所述嵌設部設在所述對中頂部下方,所述嵌設部可活動插入所述靶座部的所述凹槽;
其中,所述對中頂部呈半圓球狀,其頂點設十字部,所述十字部的中心點至所述靶座部頂面的距離L與所述凹槽圓心到內側壁的長度r與所述靶球半徑R滿足:
R2=L2+r2。
6.根據權利要求5所述的測量系統,其特征在于,
所述全站儀對中部的側邊沿著豎軸方向設有凹口部。
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