[實用新型]一種用于精密磨削加工的行星式研磨裝置

有效

• 申請號: 201720427534.1
• 申請日: 2017-04-22
• 公開（公告）號: CN206839830U
• 公開（公告）日: 2018-01-05
• 發明（設計）人: 鄒俊;朱紅波;劉海;肖群凱
• 申請（專利權）人: 湖南磨王科技智造有限責任公司
• 主分類號: B24B37/07
• 分類號: B24B37/07;B24B37/34;B24B55/02;B24B41/00
• 代理公司: 北京志霖恒遠知識產權代理事務所(普通合伙)11435
• 代理人: 馮曉欣

技術領域

本實用新型涉及研磨加工技術領域，具體為一種用于精密磨削加工的行星式研磨裝置。

背景技術

精密磨削加工技術，已經成為現代機械制造業最重要的發展方向之一。在提高產品的性能、質量和發展高新技術中起著至關重要的作用。像石英晶體、石墨、藍寶石、光學水晶、玻璃、鈮酸鋰、硬質合金、不銹鋼、粉灰冶金等金屬材料的平面研磨和拋光，由于精密加工難度大，要求精度高，傳統的研磨裝置不能滿足其要求。

現有的研磨裝置其上研磨盤重量可達1～2噸，在高速旋轉時，研磨盤所受到的壓力不均衡，在研磨工件時會產生振動現象，導致研磨力度變化，最終影響加工產品的研磨質量，而且在研磨過程中由于研磨產生的發熱和旋轉部件的摩擦，需要冷卻以避免在連續操作長時間周期時損壞工件以及將被研磨的設備保持在冷卻溫度下，現有技術的冷卻方法采用冷卻液進行冷卻，而由于工件高速旋轉，會導致液體噴濺，冷卻液回收利用率低，成本增加。

實用新型內容

本實用新型的目的是針對以上問題，提供一種用于精密磨削加工的行星式研磨裝置，該裝置結構簡單，研磨精度高，不易產生振動，冷卻效果好。

為實現以上目的，本實用新型采用的技術方案是：一種用于精密磨削加工的行星式研磨裝置，它包括機殼1；所述機殼1上設置有下銅盤2，位于下銅盤2上方的正對位置設置有研磨組件，所述研磨組件包括驅動電機11、氣缸14、壓力平衡補償器15、中心轉軸6以及上銅盤3；所述驅動電機11上設置有的直齒輪10與固定在中心轉軸6上的圓柱齒輪9相嚙合，帶動上銅盤3及設置在上銅盤3上的上盤蓋4轉動；所述上盤蓋4上設置有流液環7，流液環7的內圈上設置有擋水罩8；所述的中心轉軸6通過軸套固定有上連接板12和下連接板13，所述氣缸14和壓力平衡補償器15設置在下連接板13底部，氣缸14的推桿與上連接板12固定設置。

進一步的，所述上盤蓋4上設置有多個噴淋頭401，冷卻液的噴灑方向均朝向圓心位置。

進一步的，所述機殼1上設置有水鍋組件18，所述水鍋組件18的出液口處連接有錐形彎頭181。

進一步的，所述的水鍋組件18上設置有齒圈托架16，所述機殼1上連接有可繞齒圈托架16轉動的中盤17，所述中盤17與下銅盤2固定連接。

進一步的，所述中盤17設置為起導流作用的錐度結構。

進一步的，所述圓柱齒輪9的外側設置有合蓋5，所述合蓋5固定于下連接板13上。

本實用新型的有益效果：

1.本實用新型裝置通過在連接板上增設壓力平衡補償器，用來產生一個向上的壓力平衡高速旋轉時研磨盤的自重，在加工過程中，可使精度大幅度提升，并減去微振動，延長齒輪及電機的使用壽命。

2.該裝置減少了電機響應的滯后性，實現研磨盤上升下降的平穩順暢。

3.噴淋頭的朝向保證了高速研磨時，工件及研磨設備的均勻冷卻，并有效防止液體飛濺。

附圖說明

圖1為本實用新型裝置的立體結構視圖。

圖2為本實用新型裝置的右視示意圖。

圖3為本實用新型裝置的俯視示意圖。

圖4為本實用新型裝置的后視示意圖。

圖5為圖3中B-B的剖視示意圖。

圖6為圖1中A處的局部放大示意圖。

圖7為具體顯示中盤錐形結構的立體示意圖。

圖中所述文字標注表示為：1、機殼；2、下銅盤；3、上銅盤；4、上盤蓋；5、合蓋；6、中心轉軸；7、流液環；8、擋水罩；9、圓柱齒輪；10、直齒輪；11、驅動電機；12、上連接板；13、下連接板；14、氣缸；15、壓力平衡補償器；16、齒圈托架；17、中盤；18、水鍋組件；101、排液出口；181、錐形彎頭；401、噴淋頭。

具體實施方式

為了使本領域技術人員更好地理解本實用新型的技術方案，下面結合附圖對本實用新型進行詳細描述，本部分的描述僅是示范性和解釋性，不應對本實用新型的保護范圍有任何的限制作用。