[實用新型]一種等離子體氧化拋光系統

有效

• 申請號: 201720417642.0
• 申請日: 2017-04-20
• 公開（公告）號: CN206967172U
• 公開（公告）日: 2018-02-06
• 發明（設計）人: 沈新民;涂群章;何曉暉;李治中;唐建;張曉南;王新晴;殷勤;王東;白攀峰
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍理工大學
• 主分類號: B24B1/00
• 分類號: B24B1/00;B24B27/033;B24B41/00;B24B55/00
• 代理公司: 蘇州翔遠專利代理事務所(普通合伙)32251
• 代理人: 王華

1.一種等離子體氧化拋光系統，其特征在于，所述系統包括氦氣罐（1），所述氦氣罐（1）通過氣管連接水瓶（3），所述接水瓶（3）通過氣管連通拋光工作室，所述拋光工作室包括水平設置的旋轉臺（7），所述旋轉臺（7）上設置有拋光塊（6），所述拋光塊（6）的上表面上放置樣品（8），所述樣品（8）上方固定連接旋轉電機（5），所述旋轉臺（7）的上表面還連接電極（9），所述旋轉臺（7）和電極（9）分別通過導線連接手動匹配器（11），所述手動匹配器（11）連接射頻電源（12）。

2.根據權利要求1所述的等離子體氧化拋光系統，其特征在于，所述氦氣罐（1）和水瓶（3）之間設有流量計（2）。

3.根據權利要求1所述的等離子體氧化拋光系統，其特征在于，所述接水瓶（3）與拋光工作室之間安裝有露點儀（4）。

4.根據權利要求1所述的等離子體氧化拋光系統，其特征在于，所述旋轉臺（7）周圍安裝有玻璃罩（10）。

5.根據權利要求1所述的等離子體氧化拋光系統，其特征在于，所述拋光塊（6）與電極（9）設置在旋轉臺（7）上相互對稱的位置上。

6.根據權利要求1所述的等離子體氧化拋光系統，其特征在于，所述樣品（8）為RB-SiC。

7.根據權利要求1所述的等離子體氧化拋光系統，其特征在于，所述旋轉臺（7）為二維電動平臺。

8.根據權利要求1所述的等離子體氧化拋光系統，其特征在于，所述拋光塊（6）為CeO₂。