[實(shí)用新型]動(dòng)態(tài)地形演示裝置及地理教具有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720404813.6 | 申請(qǐng)日: | 2017-04-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN207052193U | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-02-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 丁偉;王正道;牛路遙;崔迪 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京中教啟星科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G09B25/06 | 分類號(hào): | G09B25/06 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11371 | 代理人: | 梁香美 |
| 地址: | 100193 北京市海*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 動(dòng)態(tài) 地形 演示 裝置 地理 教具 | ||
1.一種動(dòng)態(tài)地形演示裝置,其特征在于,包括模型料、高度掃描模塊和投影裝置;
所述模型料用于被塑造為用于表示地形的形狀;
所述高度掃描模塊用于掃描所述模型料被塑造后的形狀的高度;
所述投影裝置用于根據(jù)所述模型料被塑造后的形狀的不同的高度區(qū)間,分別投射不同的影像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的動(dòng)態(tài)地形演示裝置,其特征在于,所述投影裝置用于根據(jù)所述模型料被塑造后的形狀的不同的高度區(qū)間,向各個(gè)高度區(qū)間內(nèi)分別投射不同顏色的光。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的動(dòng)態(tài)地形演示裝置,其特征在于,所述投影裝置用于根據(jù)所述模型料被塑造后的形狀的不同的高度區(qū)間,向各個(gè)高度區(qū)間的邊界處分別投射不同顏色的光。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的動(dòng)態(tài)地形演示裝置,其特征在于,所述高度掃描模塊包括距離傳感器;
所述距離傳感器用于測(cè)定所述模型料被塑造后的形狀的外表面上各點(diǎn)的高度值。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的動(dòng)態(tài)地形演示裝置,其特征在于,所述動(dòng)態(tài)地形演示裝置包括箱體;
所述模型料包括沙體;所述沙體設(shè)置在所述箱體內(nèi),所述沙體用于被塑造為用于表示地形的形狀。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的動(dòng)態(tài)地形演示裝置,其特征在于,動(dòng)態(tài)地形演示裝置包括地下水模型;
所述地下水模型包括地下水流道、承壓水井和自流水井;
所述地下水流道為弧狀管路,所述承壓水井和所述自流水井分別與所述地下水流道連通,且所述承壓水井的開(kāi)口高于地下水流道的承壓水位,所述自流水井的開(kāi)口低于地下水流道的承壓水位;
所述箱體由透明材質(zhì)制成,所述地下水模型設(shè)置在所述箱體的側(cè)壁上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的動(dòng)態(tài)地形演示裝置,其特征在于,所述動(dòng)態(tài)地形演示裝置包括第一轉(zhuǎn)盤和第二轉(zhuǎn)盤;
所述模型料設(shè)置在所述第一轉(zhuǎn)盤上,所述第一轉(zhuǎn)盤能夠帶動(dòng)所述模型料被塑造后的形狀繞所述第一轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線在水平面內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng);
所述第二轉(zhuǎn)盤與所述投影裝置連接,用于在所述第一轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),帶動(dòng)所述投影裝置繞所述第二轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線在水平面內(nèi)與所述模型料被塑造后的形狀同步轉(zhuǎn)動(dòng)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的動(dòng)態(tài)地形演示裝置,其特征在于,所述動(dòng)態(tài)地形演示裝置包括顯示裝置;
所述顯示裝置用于根據(jù)所述模型料被塑造的用于表示地形的形狀,顯示該地形的虛擬圖像。
9.一種地理教具,其特征在于,包括根據(jù)權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的動(dòng)態(tài)地形演示裝置。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的地理教具,其特征在于,所述地理教具包括機(jī)架;
所述模型料、所述高度掃描模塊和所述投影裝置均設(shè)置在所述機(jī)架上,所述投影裝置和所述高度掃描模塊分別位于所述模型料的上方,且所述機(jī)架的底部設(shè)有萬(wàn)向輪。
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