[實用新型]一種可吸引氣囊上、下潴留分泌物的氣管導管

有效

• 申請號: 201720403269.3
• 申請日: 2017-04-17
• 公開（公告）號: CN207545590U
• 公開（公告）日: 2018-06-29
• 發明（設計）人: 曾能永
• 申請（專利權）人: 欽州市第二人民醫院
• 主分類號: A61M16/04
• 分類號: A61M16/04
• 代理公司: 桂林市持衡專利商標事務所有限公司 45107
• 代理人: 廖世傳

本實用新型提一種可吸引氣囊上、下潴留分泌物的氣管導管，包括中空的管體，設置于管體插入端的氣囊，以及與氣囊連通的氣囊通道；所述管體為彎曲的弧形管，弧形背側管壁設置氣囊上通路和氣囊下通路；所述氣囊上通路的頭端貼靠于氣囊外壁，且端部位于氣囊上部的上側；所述氣囊下通路從管體外壁與氣囊內壁之間穿過氣囊，端部止于氣囊下間隙與管體末端之間。本實用新型設置末端位于氣囊上下兩側的氣囊上通路、氣囊下通路來吸附氣囊上下兩側的分泌物，通過對通路末端以及起始端的設計，能達到上下兩側較為完整的清理，可較好地解決導管工作時，上氣道分泌物潴留在氣囊上間隙和氣囊下間隙，進而引起呼吸道相關疾病的問題。

技術領域

本實用新型涉及氣管導管技術領域，具體為一種可吸引氣囊上、下潴留分泌物的氣管導管。

背景技術

目前臨床工作中，絕大多數留置管體患者均為臥位，咽喉部不能及時引流的含有大量細菌的分泌物在重力作用逐漸溢過聲門流入氣管，并潴留在氣管插管、氣囊上部與氣管壁之間的氣囊上間隙。該部位的分泌物易隨著咳嗽、呼吸、體位變化、管體移位等動作及氣囊上下壓力變化，從氣囊與氣管壁之間間隙進入氣囊下間隙及左右肺。此外，由于氣囊對管體下段的懸空支撐，使得管體下端并不緊貼氣管壁，且管體外徑較氣管小，對來自雙肺分泌物往外排出存在較大阻礙，部分分泌物通過患者咳嗽或盲插入吸痰管吸引排出體外，仍有部分被潴留在氣囊下，因重力作用尤其易潴留在氣囊下、氣管導管和氣管后壁之間形成的氣囊下間隙。大量研究表明，氣囊上下分泌物是導致呼吸機相關性肺炎的常見原因，一旦發生呼吸機相關肺炎，會明顯增加患者死亡率、住院時間、住院費用、家庭及社會負擔。

目前，臨床普遍采取的方法是反復用一次性吸痰管從鼻孔或口腔盲插吸引上氣道分泌物以減少分泌物溢過聲門進入氣管，及將吸痰管插入管體吸引下氣道分泌物，由于該方法吸引時間短暫，吸引精確性低，只能起到暫時性減少上下呼吸道分泌物作用，不能很好的預防上氣道分泌物溢過聲門進入氣管，對位置較深較隱秘的氣囊上下間隙分泌物則無法吸引清除。

對于氣囊上間隙分泌物的引流，目前相關技術是用附帶于管體壁內的引流管路對氣囊上間隙潴留物進行持續或間斷負壓引流以減少氣囊上分泌物，因引流管路設計在管體壁內，內腔直徑較小，阻力較大，分泌物易堵塞，開口在管體壁上，絕大多數留置管體患者均為斜臥或平臥位，引流管開口在管體壁無法吸引氣囊上間隙較低洼處的分泌物，這也是氣囊上分泌物仍然有較多往氣囊下間隙流入并產生呼吸機相關性肺炎的重要原因之一。對于流到氣囊下間隙及從雙肺外排到此的分泌物，目前無相關報道解決這一問題。

發明內容

本實用新型提供一種可吸引氣囊上、下潴留分泌物的氣管導管，解決導管工作時，分泌物潴留在氣囊上間隙和氣囊下間隙，進而引起呼吸道相關疾病的問題。

為實現上述技術目的，達到上述技術效果，本實用新型通過以下技術方案解決上述問題：

一種可吸引氣囊上、下潴留分泌物的氣管導管，包括中空的管體，設置于管體插入端的氣囊，以及與氣囊連通的氣囊通道；所述管體為彎曲的弧形管，弧形背側管壁設置氣囊上通路和氣囊下通路；所述氣囊上通路的頭端貼靠于氣囊外壁，且端部位于氣囊上部的上側；所述氣囊下通路從氣囊內壁與管體外壁之間穿過，端部止于氣囊下間隙與管體末端之間。

上述方案在普通氣管插管導管或氣管切開導管的管壁外側設置兩條具有形變能力的通路，氣囊上通路與管體之間的夾角在氣囊膨脹增加時逐漸增大上翹，通過該通路可吸引氣囊上方氣管后壁低洼處的潴留物，防止因引流管過長負壓吸引時長時間吸附氣管后壁粘膜致粘膜損傷；氣囊下通路穿過氣囊后止于氣囊下間隙與管體末端之間，其端部在氣囊下部的支撐下接觸氣管后壁粘膜，吸附氣囊下間隙的潴留物，防治引流管末端完全觸碰粘膜導致吸引損傷粘膜。

進一步的，為了避免上下兩氣囊通路因負壓吸引致端部緊貼粘膜或痰栓所致的堵塞，所述氣囊上通路、氣囊下通路插入端開有側孔。