[實用新型]地下井式輻照裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720402195.1
• 申請日: 2017-04-17
• 公開（公告）號: CN206907505U
• 公開（公告）日: 2018-01-19
• 發(fā)明（設計）人: 宋世鵬
• 申請（專利權）人: 北京輻照加速器技術有限公司
• 主分類號: G21K5/10
• 分類號: G21K5/10;G21K5/00
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 李景輝

技術領域

本實用新型涉及放射照射領域，一種地下井式輻照裝置。

背景技術

輻照加工技術廣泛地應用于工業(yè)、環(huán)保、農業(yè)、食品和醫(yī)療衛(wèi)生等領域。其中，在農產品生產領域，利用電離輻射的多種效應，可以殺死農產品中的害蟲、細菌；可以抑制農產品細胞的代謝，大大延長農產品的保鮮期和貨價期。現(xiàn)有的加速器輻照裝置包括加速器室和輻照室。加速器單獨安裝在加速器室中，一般選用功率較大的加速器，達幾十至上百千瓦，體積龐大，非常笨重，占地面積大，建筑成本高。

綜上所述，現(xiàn)有技術中存在以下問題：加速器占地面積大，建筑成本高。

實用新型內容

本實用新型提供一種地下井式輻照裝置，以解決加速器占地面積大，建筑成本高的問題。

為此，本實用新型提出一種地下井式輻照裝置，所述地下井式輻照裝置包括：

地下井，包括：位于地面的井口和設置在地面之下與井口連通的井筒；

加速器，設置在所述地下井的井筒中，所述加速器的照射方向朝向所述井口；

機房，設置在地面上并且所述地下井的井口位于所述機房內，所述機房由側壁和頂板圍成；

屏蔽層，設置在所述機房的側壁和頂板上；

出入門，設置在所述機房的側壁上；

軌道，設置在地面上，經過所述地下井的井口和所述出入門，并延伸到所述機房之外；

運貨車，設置在所述軌道上。

進一步的，所述井筒中還設有支撐所述加速器并對所述加速器的周向定位的支撐托架。

進一步的，所述井筒的底部設有支撐所述加速器的輔助支撐座，所述輔助支撐座位于所述支撐托架的下方。

進一步的，所述機房的頂板上設有安裝所述加速器的吊裝環(huán)，所述吊裝環(huán)位于所述井口的正上方。

進一步的，所述機房為長方體形。

進一步的，所述機房的側壁包括：左側壁、右側壁、前側壁和后側壁，所述出入門設置在所述右側壁上，所述軌道垂直所述左側壁和右側壁。

進一步的，所述右側壁的外側設有控制所述加速器和運貨車的控制柜。

進一步的，所述井口與所述右側壁的距離大于所述井口與所述左側壁的距離。

本實用新型在地面之下挖出地下井，在地下井內放置加速器，對地面之上的物品進行輻照，對地面的輻射較少，減少了地面屏蔽層的厚度，減小了地面的占地，而且加速器位于地下，對地面之上的輻射較小，既節(jié)約了占地和空間，又減小了輻射。本實用新型尤其適合平原地區(qū)使用。

附圖說明

圖1為本實用新型的地下井式輻照裝置結構示意圖。

附圖標號說明：

1地下井 11井口 13井筒

2加速器

3機房 31左側壁 32右側壁 33控制柜

4軌道 5運貨車6支撐托架 7支撐座 8吊裝環(huán)

具體實施方式

為了對本實用新型的技術特征、目的和效果有更加清楚的理解，現(xiàn)對照附圖說明本實用新型。

如圖1所示，本實用新型的地下井式輻照裝置包括：

地下井1，包括：位于地面的井口11和設置在地面之下與井口連通的井筒13；

加速器2，設置在所述地下井的井筒13中，所述加速器的照射方向朝向所述井口11，即向上輻照；向上發(fā)射電子或X射線進行輻照加工；加速器2可以采用功率大于10KW的電子加速器，因為加速器設置在地下，對地面的輻射較小，當然，加速器也可以采用小型的直線加速器，其產生的電子束能量是5～10MeV，束流功率為2～10KW，這樣，直線加速器的體積較小；

機房3，設置在地面上并且所述地下井的井口11位于所述機房3內，所述機房由側壁和頂板圍成；

屏蔽層，設置在所述機房的側壁和頂板上，用于屏蔽輻射，例如屏蔽層由鎢，鉛，鐵等材料制成；

出入門，設置在所述機房的側壁上；

軌道4，設置在地面上，經過所述地下井的井口11和所述出入門，并延伸到所述機房1之外；

運貨車5，設置在所述軌道4上，裝著物品在軌道4上移動。使用時，在機房外裝上待輻照的物品，然后打開出入門，使運貨車5沿著軌道4到達井口上方，然后關閉出入門，控制加速器對運貨車5上的物品進行輻照。輻照后，再將運貨車5上的物品通過軌道4運出出入門，到達機房之外。