[實用新型]透射式輻射成像系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720379844.0
• 申請日: 2017-04-12
• 公開（公告）號: CN206648976U
• 公開（公告）日: 2017-11-17
• 發(fā)明（設計）人: 郭近賢;曹艷鋒;劉錚;王春雷;馮志濤;王彥華
• 申請（專利權）人: 北京君和信達科技有限公司
• 主分類號: G01N23/04
• 分類號: G01N23/04
• 代理公司: 北京展翼知識產(chǎn)權代理事務所(特殊普通合伙)11452
• 代理人: 屠長存

1.一種透射式輻射成像系統(tǒng)，其特征在于，包括：

輻射源，用于向被檢測物體發(fā)射用于成像的輻射束；

多個探測器陣列，每個探測器陣列包括一個或多個探測器，不同的探測器陣列適于設置在不同的位置，用于接收以不同角度從所述被檢測物體透射的輻射束；以及

輻射束調制裝置，用于對所述輻射源發(fā)射的輻射束進行調制，以使得所述輻射源具有多種發(fā)射模式，其中，不同發(fā)射模式下入射到所述被檢測物體上的輻射束的入射角度或入射角度組合不同，并且不同發(fā)射模式下接收到輻射束的探測器陣列或探測器陣列組合不同。

2.根據(jù)權利要求1所述的透射式輻射成像系統(tǒng)，其特征在于，所述輻射束調制裝置包括：

屏蔽體，所述屏蔽體上設有狹縫，所述輻射源發(fā)射的輻射束能夠通過所述狹縫出射出去；

控制裝置，用于控制所述屏蔽體繞所述輻射源旋轉，以使得所述狹縫具有多個位置狀態(tài)，所述多個位置狀態(tài)與所述多個探測器陣列一一對應，從每個位置狀態(tài)下的狹縫出射的輻射束的出射方向基本上垂直于與其對應的探測器陣列的探測面，并且基本上過所述探測面的中心。

3.根據(jù)權利要求1所述的透射式輻射成像系統(tǒng)，其特征在于，所述輻射束調制裝置包括：

屏蔽體，所述屏蔽體上設有與所述多個探測器陣列一一對應的狹縫，所述輻射源發(fā)射的輻射束能夠通過所述狹縫出射出去，從每個所述狹縫出射的輻射束的出射方向基本上垂直于與其對應的探測器陣列的探測面，并且基本上過所述探測面的中心；

遮擋裝置，用于控制從所述屏蔽體上的狹縫出射的輻射束的遮擋狀態(tài)。

4.根據(jù)權利要求3所述的輻射成像系統(tǒng)，其特征在于，所述遮擋裝置包括：

準直器，所述準直器上設有一個或多個準直縫，通過移動所述準直器，改變所述準直器上的準直縫與所述屏蔽體上的狹縫的對準狀態(tài)，

其中，從所述輻射源出射的輻射束能夠依次從處于對準狀態(tài)的狹縫和準直縫出射出去。

5.根據(jù)權利要求4所述的輻射成像系統(tǒng)，其特征在于，所述準直器包括一個或多個固定部分和一個或多個活動部分，

通過移動一個或多個所述活動部分，在一個或多個所述活動部分和一個或多個所述固定部分之間形成與所述屏蔽體上的一個或多個所述狹縫對準的準直縫。

6.根據(jù)權利要求3所述的輻射成像系統(tǒng)，其特征在于，所述遮擋裝置包括：

擋塊，通過移動所述擋塊，控制從所述屏蔽體上的狹縫出射的輻射束的遮擋狀態(tài)。

7.根據(jù)權利要求6所述的輻射成像系統(tǒng)，其特征在于，還包括：

準直器，所述準直器上設有與所述屏蔽體上的狹縫一一對應的準直縫，所述擋塊設置在所述屏蔽體和所述準直器之間。

8.根據(jù)權利要求7所述的輻射成像系統(tǒng)，其特征在于，還包括：

副屏蔽體，設置在所述擋塊兩側，用于屏蔽輻射束入射到所述擋塊后產(chǎn)生的散射輻射束。

9.根據(jù)權利要求1所述的透射式輻射成像系統(tǒng)，其特征在于，在所述輻射束調制裝置的調制作用下，所述輻射源具有兩種發(fā)射模式，

第一種發(fā)射模式下入射到所述被檢測物體上的第一輻射束的入射角度與所述被檢測物體的長度方向垂直，

第二種發(fā)射模式下入射到所述被檢測物體上的第二輻射束與所述第一輻射束之間的夾角5°≤α≤10°。

10.根據(jù)權利要求1至9中任何一項所述的透射式輻射成像系統(tǒng)，其特征在于，還包括：

圖像處理裝置，用于對所述多個探測器陣列中不同探測器陣列接收到的輻射束進行處理以形成不同視角下的掃描圖像。

11.根據(jù)權利要求1至9中任何一項所述的透射式輻射成像系統(tǒng)，其特征在于，所述輻射源能夠繞預定的轉軸在預定的角度范圍內進行旋轉，以使得所述輻射源在旋轉過程中能夠發(fā)射適于被不同探測器陣列接收到的輻射束。