[實用新型]一種對位裝置及蒸鍍設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720376582.2
• 申請日: 2017-04-11
• 公開（公告）號: CN206616265U
• 公開（公告）日: 2017-11-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 鐘全;蔣國;封建林
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 北京同達(dá)信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11291
• 代理人: 郭潤湘

1.一種對位裝置，用于玻璃基板的對位，其特征在于，所述對位裝置包括沿所述玻璃基板周向分布的至少四個對位機構(gòu)、以及設(shè)置于所述至少四個對位機構(gòu)頂部的冷卻板機構(gòu)，其中：

每個對位機構(gòu)包括底座、能夠沿所述底座的延伸方向滑動地安裝于所述底座的滑塊；所述底座朝向玻璃基板的一端設(shè)置有用于支撐所述玻璃基板的支撐面；所述滑塊背離所述玻璃基板的一側(cè)表面與水平面形成的開口朝向所述玻璃基板的夾角為銳角；

所述冷卻板機構(gòu)包括冷卻板以及設(shè)置于所述冷卻板、且與所述滑塊一一對應(yīng)抵接的驅(qū)動組件，所述驅(qū)動組件用于驅(qū)動所述滑塊朝向所述玻璃基板滑動。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對位裝置，其特征在于，沿所述底座的延伸方向，所述底座設(shè)置有滑軌，所述滑塊安裝于所述滑軌。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對位裝置，其特征在于，沿所述底座的延伸方向，所述底座的頂面設(shè)置有滑槽；所述滑塊底面設(shè)置有與所述滑槽配合的凸起。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對位裝置，其特征在于，沿所述底座的延伸方向，所述底座的頂面設(shè)置有至少一個滑桿，所述滑塊設(shè)置有與每個滑桿一一對應(yīng)的導(dǎo)向孔。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對位裝置，其特征在于，每個所述對位機構(gòu)還包括設(shè)置于所述底座和所述滑塊之間的彈性件，所述彈性件用于使所述滑塊朝向背離所述玻璃基板的方向移動。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的對位裝置，其特征在于，所述彈性件為彈簧。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項所述的對位裝置，其特征在于，所述驅(qū)動組件包括一端設(shè)置于所述冷卻板的驅(qū)動件、以及與相互對應(yīng)的滑塊滾動配合的滾輪，所述滾輪能夠繞其軸心線旋轉(zhuǎn)地安裝于所述驅(qū)動件的另一端。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的對位裝置，其特征在于，所述驅(qū)動件能夠調(diào)節(jié)位置地設(shè)置于所述冷卻板朝向所述玻璃基板的一側(cè)表面。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的對位裝置，其特征在于，所述對位裝置包括沿所述玻璃基板周向均勻分布的八個對位機構(gòu)。

10.一種蒸鍍設(shè)備，包括蒸鍍腔體，其特征在于，還包括如權(quán)利要求1-9任一項所述的對位裝置，所述對位裝置設(shè)置于所述蒸鍍腔體內(nèi)。