[實(shí)用新型]氣體分析器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720370692.8 | 申請(qǐng)日: | 2017-04-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN206906240U | 公開(公告)日: | 2018-01-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 卡米爾·黑費(fèi)斯 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 西門子公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/31 | 分類號(hào): | G01N21/31 |
| 代理公司: | 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司11240 | 代理人: | 余剛,李慧 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氣體 分析器 | ||
1.一種用于測(cè)量測(cè)量氣體(7)中的兩種氣體成分的氣體分析器,其特征在于,所述氣體分析器具有:
第一發(fā)光二極管(1),所述第一發(fā)光二極管射出具有在第一氣體成分的吸收譜線的范圍中的第一波長(zhǎng)的光;
第二發(fā)光二極管(2),所述第二發(fā)光二極管射出具有在第二氣體成分的吸收譜線的范圍中的第二波長(zhǎng)的光;
分光器(3);
能由所述測(cè)量氣體(7)流過的測(cè)量室(5);
測(cè)量探測(cè)器(6);
基準(zhǔn)探測(cè)器(4);和
控制和評(píng)估裝置(8),所述控制和評(píng)估裝置用于交替地驅(qū)控所述第一發(fā)光二極管(1)和所述第二發(fā)光二極管(2)并且用于評(píng)估由所述測(cè)量探測(cè)器(6)和所述基準(zhǔn)探測(cè)器(4)提供的關(guān)于所述第一氣體成分和所述第二氣體成分的測(cè)量結(jié)果(9)的信號(hào),其中,
所述分光器(3)在具有底面、頂面和四個(gè)側(cè)面的方形的金屬塊(14)中布置在兩個(gè)孔(17,18)的交叉范圍中,所述孔在分別相對(duì)置的所述側(cè)面之間延伸,
所述第一發(fā)光二極管(1)和所述第二發(fā)光二極管(2)在兩個(gè)相互鄰接的側(cè)面上分別對(duì)著所述孔(17,18)布置,并且所述測(cè)量室(5)和所述基準(zhǔn)探測(cè)器(4)在所述金屬塊(14)的兩個(gè)剩余的相互鄰接的側(cè)面上分別對(duì)著所述孔布置,
所述測(cè)量室(5)構(gòu)造為由金屬制成的縱向延伸兩側(cè)開放的空心體(21),所述空心體具有用于所述測(cè)量氣體(7)的兩個(gè)在側(cè)面的通道開口,
所述測(cè)量探測(cè)器(6)保持在由金屬制成的、包含第一開口(29)的探測(cè)器塊(28)上,并且
方形的所述金屬塊(14)和所述探測(cè)器塊(28)經(jīng)由拉桿(34)相互連接,并且所述測(cè)量室(5)在所述金屬塊和所述探測(cè)器塊之間夾緊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體分析器,其特征在于,
所述拉桿(34)在形成所述測(cè)量室(5)的所述空心體(21)的外壁中的槽(37)中延伸。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氣體分析器,其特征在于,
形成所述測(cè)量室(5)的所述空心體(21)構(gòu)造為空心型材體。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氣體分析器,其特征在于,
方形的所述金屬塊(14)在所述金屬塊的頂面上包含伸入到兩個(gè)所述孔(17,18)的所述交叉范圍中的第二開口(19),并且所述分光器(3)安裝在插入到所述第二開口(19)中的插入物(20)中。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氣體分析器,其特征在于,
方形的所述金屬塊(14)在所述金屬塊的頂面上包含伸入到兩個(gè)所述孔(17,18)的所述交叉范圍中的第二開口(19),并且所述分光器(3)安裝在插入到所述第二開口(19)中的插入物(20)中。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氣體分析器,其特征在于,
所述第一發(fā)光二極管(1)和所述第二發(fā)光二極管(2)保持在第一板(10,11)上,所述第一板直接地或在中間放置間隔框(12,13)的狀態(tài)下安裝在方形的所述金屬塊(14)的相應(yīng)的所述側(cè)面上。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣體分析器,其特征在于,
所述第一發(fā)光二極管(1)和所述第二發(fā)光二極管(2)保持在第一板(10,11)上,所述第一板直接地或在中間放置間隔框(12,13)的狀態(tài)下安裝在方形的所述金屬塊(14)的相應(yīng)的所述側(cè)面上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氣體分析器,其特征在于,
所述測(cè)量探測(cè)器(6)和所述基準(zhǔn)探測(cè)器(4)分別保持在第二板(27,15)上,所述第二板直接或在中間放置間隔框的狀態(tài)下安裝在方形的所述金屬塊(14)的相應(yīng)的所述側(cè)面上或者所述探測(cè)器塊的背離所述測(cè)量室(5)的一側(cè)上。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的氣體分析器,其特征在于,
所述測(cè)量探測(cè)器(6)和所述基準(zhǔn)探測(cè)器(4)分別保持在第二板(27,15)上,所述第二板直接或在中間放置間隔框的狀態(tài)下安裝在方形的所述金屬塊(14)的相應(yīng)的所述側(cè)面上或者所述探測(cè)器塊的背離所述測(cè)量室(5)的一側(cè)上。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氣體分析器,其特征在于,
在所述金屬塊(14)的朝向所述第一發(fā)光二極管(1)和所述第二發(fā)光二極管(2)的側(cè)面上的所述孔(17,18)中插入有瞄準(zhǔn)儀透鏡(30,31)。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





