[實用新型]一種大角度離軸聚焦平面透鏡有效
| 申請號: | 201720370199.6 | 申請日: | 2017-04-11 |
| 公開(公告)號: | CN206818898U | 公開(公告)日: | 2017-12-29 |
| 發明(設計)人: | 余豪;林良昭;李驍盈;吳瀚韜 | 申請(專利權)人: | 華南師范大學 |
| 主分類號: | G02B3/02 | 分類號: | G02B3/02;G02B1/00 |
| 代理公司: | 廣州番禺容大專利代理事務所(普通合伙)44326 | 代理人: | 劉新年 |
| 地址: | 510000 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 角度 聚焦 平面 透鏡 | ||
技術領域
本實用新型涉及微納光學器件,具體涉及一種大角度離軸聚焦平面透鏡。
背景技術
在高度集成的光學系統中,具有小外形尺寸和優良光學性能的光學器件是非常重要的。隨著納米制造技術的出現,越來越多的緊湊光學系統被提出來,平面透鏡由于其特有的聚焦能力和超薄特性,受到了研究人員的青睞,已經成為成像系統、醫學診斷、通信和光譜測量方面不可或缺的組件。作為典型的代表,電解質表面透鏡具有光損耗非常低的特點,例如基于金屬納米片的等離子體透鏡,已經被設計出來,通過設計金屬納米狹縫來控制出射光束。然而,這些透鏡由于聚焦調制方法的缺陷,其實際工作距離被嚴格限制在近場區域,同時,大角度的聚焦能力也還有待改善,因而限制了其應用場合??梢?,現有技術尚存在不足之處。
實用新型內容
有鑒于此,有必要針對上述的問題,提供一種基于有機鈣鈦礦(CH3NH3PbI3)超材料的大角度離軸聚焦平面透鏡。
為實現上述目的,本實用新型采取以下的技術方案:
本實用新型的大角度離軸聚焦平面透鏡,包括襯底層,設置于所述襯底層上方的金屬納米片組,所述金屬納米片組有序地間隔排列在所述襯底層上,使襯底層上形成一序列狹縫,所述狹縫內填充有機鈣鈦礦(CH3NH3PbI3)超材料。
進一步的,所述襯底層材料為二氧化硅材料。
進一步的,所述納米片厚度為150nm-800nm,寬度為200-400nm。
本實用新型設計的納米片厚度可以實現在光波波長為380nm-760nm的范圍內實現聚焦。
作為優選的,所述納米片組厚度為450nm,寬度為250nm。
進一步的,所述納米片組為金納米片組或銀納米片組。
作為優選的,所述納米片組為金納米片組。采用金納米片組由于其色散關系的影響,在可見光波段其對旁斑抑制效果更明顯。
進一步的,所述狹縫寬度設置為80nm-350nm。
作為優選的,所述狹縫寬度設置為150nm。在該寬度下實現聚焦對旁斑的抑制效果較好。
可以理解的是,所述有機鈣鈦礦填充的厚度應該是與金屬納米片組的厚度相一致。
當入射光通過寬度顯著小于入射波長的狹縫時,基模(TM0)產生的相位延遲可以由Re(β)h計算出來,h和β的關系如下:
其中,Re表示實部,h表示狹縫的厚度,β表示有機鈣鈦礦材料的色散,k0自由空間傳輸函數,w是納米縫隙的孔徑,εd,εm分別是絕緣體(有機鈣鈦礦材料)和金屬的介電常數。
與普通透鏡類似,當具有圓偏振(CPL)的橫磁波(TM)從二氧化硅襯底穿過狹縫進入上空氣介質時,由相位調制帶來的干涉作用對遠場聚焦起到主要的作用,可以實現按照設計目標提出的聚焦效果。根據等效光程原理,從透鏡中心為原點的橫向相位分布函數可以表示為:
其中n是任意整數,λ是工作波長,而f是設計的焦距。因此,只要不同位置的相移滿足(2)式,就可以實現所要求設計的聚焦距離。
本實用新型的有益效果為:
本實用新型通過平面透鏡中的金屬-有機鈣鈦礦薄膜具有強激子-等離子體耦合效應,帶來很高的折射率和很低的散射損失,當入射光透過各個狹縫時,利用透射光的相關相移來控制光束的相位調制,進而實現光束的聚焦。本實用新型的平面透鏡具有廣角成像的能力。
附圖說明
圖1是本實用新型提供的平面透鏡的結構示意圖。其中,(a)是平面透鏡的示意圖;(b)是單個狹縫的截面圖。
圖2是本實用新型提供的平面透鏡的性能示意圖。其中,(a)表示聚焦距離為20μm時平面透鏡的透射場光強分布圖;(b)表示聚焦距離為30μm時平面透鏡的透射場光強分布圖;(c)表示聚焦距離為40μm時平面透鏡的透射場光強分布圖;(a)-(c)圖中的虛線表示工作波長為700nm時焦平面所在位置;(d)表示(a)-(c)圖中不同焦距時z軸方向的光強分布;(e)表示(a)-(c)圖中不同焦距時x軸方向的透射光強分布。
圖3是本實用新型提供的焦距為40μm的平面透鏡在不同入射角度時的聚焦性能。其中(a)-(d)為632.8nm的入射光分別以角度為15度、30度、45度、60度入射時的透射光強分布圖。
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