[實用新型]一種浮法平板玻璃粘錫貧氧去除裝置有效
| 申請號: | 201720368431.2 | 申請日: | 2017-04-10 |
| 公開(公告)號: | CN207143123U | 公開(公告)日: | 2018-03-27 |
| 發明(設計)人: | 彭壽;葛承全;張沖;劉堯龍;槽志強;張治民 | 申請(專利權)人: | 蚌埠玻璃工業設計研究院;中國建材國際工程集團有限公司 |
| 主分類號: | C03C23/00 | 分類號: | C03C23/00;C03B35/16 |
| 代理公司: | 安徽省蚌埠博源專利商標事務所34113 | 代理人: | 尹杰 |
| 地址: | 233010 安徽*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 平板玻璃 粘錫貧氧 去除 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及平板玻璃浮法生產技術領域,特別涉及一種浮法平板玻璃粘錫貧氧去除裝置。
背景技術
在浮法平板玻璃工藝中,主要工序為原料配比、熔窯熔化、錫槽成型、退火窯退火、冷端切裁等,熔窯與錫槽之間用流液道聯接,錫槽與退火窯之間用過渡輥臺聯接,錫槽是成型設備,用于盛裝熔化的錫液,熔化的玻璃液進入錫槽,成型的平板玻璃出口錫槽,成型原理是將玻璃液漂浮在錫液上攤平而形成平板玻璃。
由于錫液易氧化,因此須向錫槽內注入氮氣與氫氣混合的保護氣體,使錫槽內始終保持正壓,保護氣體從錫槽頂蓋注入,從錫槽進出口吹出及縫隙滲出。
在實際使用中,總是會有少量氧氣反向滲入錫槽內,使錫液氧化,在錫槽內產生多種化學反應。在高溫及貧氧環境下,錫液易氧化生成氧化亞錫(SnO)氣體,飄向末端的低溫區后,在溫度降至870℃以下后,氧化亞錫氣體會變成含錫化合物的固體粉末;在高溫及富氧環境下,錫液易氧化生成氧化錫(SnO2)固體粉末;氧化亞錫及氧化錫還可被還原成細小錫滴;這些含錫物脫落到平板玻璃帶上,就會造成平板玻璃帶上表面污染。
隨著電子顯示產業的發展,使用浮法工藝制造電子顯示用平板玻璃已成為趨勢。但是,用浮法工藝制造出的平板玻璃,與錫液接觸的下表面會微量殘留粘錫,用作電子產品時會影響玻璃電學性能,因而有必要去除殘留粘錫。
高頻感應加熱器通過電磁感應原理,利用電磁渦流對金屬及非金屬進行急速、非接觸加熱,尤其適用于物體表面加熱。對非金屬物體加熱,電磁工作頻率240MHZ及以上,能使其內部分子原子每秒振動、磨擦上億次之多的微波加熱。對金屬物體加熱,電磁工作頻率為幾千赫茲(KHZ)至幾百千赫茲以上,常用作金屬構件加熱及貴金屬冶煉。例如,使用微波爐,使用兩只同樣瓷杯,一只空著,一只裝水,同時加熱1分鐘后,空杯不熱,裝水杯及水均熱,那是因為微波可穿透瓷杯加熱水,而水又加熱瓷杯。從中可知,使用特定電磁頻率,可快速加熱特定物質,而不加熱或慢加熱其它物質。
經廣泛檢索現階段尚未發現一種較為理想的去除平板玻璃上殘留粘錫的裝置,由于高頻感應加熱器的特有性質,申請人設計一種浮法平板玻璃粘錫貧氧去除裝置。
實用新型內容
本實用新型的目的是為了解決現階段在浮法玻璃工藝中存在的殘留粘錫,影響后續產品電學性能的缺點,而提出的一種浮法平板玻璃粘錫貧氧去除裝置。
為了實現上述目的,本實用新型采用了如下技術方案:
一種浮法平板玻璃粘錫貧氧去除裝置,包括一組托輥,在托輥上傳動托舉平板玻璃帶,其特征在于:在托輥之間設有用于氧化的氧化區域,在氧化區域內設有密封罩,平板玻璃帶從密封罩中間穿過,在密封罩內設有一組高頻感應加熱器,在高頻感應加熱器和平板玻璃帶之間設有氣體通道,在平板玻璃兩側的密封罩上均設有一個進氣管和一組管道,在每個進氣管上均連接進氣閥,在密封罩上均連接反滲閥。
在上述技術方案的基礎上,可以有以下進一步的技術方案:
所述高頻感應加熱器設置在所述平板玻璃帶的上方或下方。
在連接所述進氣閥的管道內通入保護氣體。
所述密封罩、進氣閥、管道和反滲閥均為非金屬材料。
所述密封罩每側的所述進氣管均設置在相應所述管道的中間。
本實用新型的優點在于:本裝置在錫槽和切裁之間設置高頻感應加熱器,通過調整電磁工作頻率,實現對金屬錫加熱而不對非金屬玻璃加熱,氧化粘錫,在貧氧狀態下,使用高頻感應加熱器,急速加熱粘錫至氧化溫度以上,使粘錫氧化生成氧化亞錫氣體被吹出后,溫度會降至870℃以下,變成固體粉末而落下,使得氧化錫與玻璃分離。
附圖說明
圖1是本實用新型的基本結構示意圖。
具體實施方式
為了使本實用新型更加清楚明白,以下結合附圖對本裝置詳細說明,此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型,并不用于限定本實用新型。
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