[實用新型]一種用于光學元件的光軸調節裝置

有效

• 申請號: 201720365260.8
• 申請日: 2017-04-10
• 公開（公告）號: CN206649203U
• 公開（公告）日: 2017-11-17
• 發明（設計）人: 蔣延標;秦明海;王正興;陳雷華
• 申請（專利權）人: 蘇州東輝光學有限公司
• 主分類號: G02B7/00
• 分類號: G02B7/00
• 代理公司: 廣州市紅荔專利代理有限公司44214
• 代理人: 關家強,吳偉文

技術領域

本實用新型涉及光學元件領域，具體涉及一種光學元件的光軸調節裝置。

背景技術

在隔離器、環形器、梳狀濾波器等一些無緣器件中會用到隔離器或者旋光器，隔離器或旋光器需要調節光軸，一般是圓形的，即圓形磁環。常規調節隔離器或旋光器的光軸的做法是在圓形磁環兩邊放置兩個墊塊固定，該方法粘接不牢固，在調節光軸過程中，圓形磁環常會移動或晃動，可靠性差，導致調節效果不好。

實用新型內容

針對上述現有技術的不足，本實用新型的主要目的是提供一種用于光學元件的光軸調節裝置，該光軸調節裝置是帶有圓弧型承載面的承載臺，該承載臺能有效固定圓形磁環，方便調節光軸。

為實現上述目的，本實用新型公開的技術方案是：一種用于光學元件的光軸調節裝置，所述光軸調節裝置包括：承載臺、磁環，所述承載臺上設有凹槽，所述凹槽的寬度小于所述磁環的外徑；所述凹槽的深度大于所述磁環的壁厚；所述凹槽呈圓柱面弧形凹槽。

優選的，所述承載臺的高度在0.5-2.5mm之間。

優選的，所述磁環的內徑在0.5-2.0mm之間。

優選的，所述磁環的外徑在1.0-3.0mm之間。

優選的，所述凹槽的深度在0.05-1.0mm之間。

優選的，所述凹槽的長度在0.3-1.5mm之間。

優選的，所述磁環的壁厚在0.2-1.0mm之間。

本實用新型的有益效果是：本實用新型所述的光學元件的光軸調節裝置通過承載臺上的凹槽的合理設置，能夠使磁環穩定的固定在承載臺上，方便光學元件調節光軸；并且磁環可以順暢的旋轉角度，利于光軸調節；磁環在承載臺上粘結穩固，可靠性好。

附圖說明

圖1是本實用新型用于光學元件的光軸調節裝置的一較佳實施例的結構示意圖；

圖2是圖1的另一角度示意圖；

圖3是圖1的俯視示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型的較佳實施例進行詳細闡述，以使本實用新型的優點和特征能更易于被本領域技術人員理解，從而對本實用新型的保護范圍做出更為清楚明確的界定。

請參考附圖1-3，本實用新型實施例包括：

實施例1：一種用于光學元件的光軸調節裝置，所述光軸調節裝置包括：承載臺1、磁環2，承載臺1上設有凹槽3，凹槽3的寬度小于磁環2的外徑；凹槽3的深度大于磁環2的壁厚b；凹槽3呈圓柱面弧形凹槽。

實施例2：本實施例與實施例1的不同之處在于，本實施例中，承載臺1的高度在0.5-2.5mm之間。磁環2的內徑在0.5-2.0mm之間。磁環2的外徑在1.0-3.0mm之間。凹槽3的深度在0.05-1.0mm之間。凹槽3的長度在0.3-1.5mm之間。磁環2的壁厚在0.2-1.0mm之間。

實施例3：本實施例與實施例1的不同之處在于，本實施例中，承載臺1的高度在1.0-2.5mm之間。磁環2的內徑在0.8-1.8mm之間。磁環2的外徑在1.2-2.5mm之間。凹槽3的深度在0.2-1.0mm之間。凹槽3的長度在0.5-1.2mm之間。磁環2的壁厚在0.5-1.0mm之間。

實施例4：一種用于光學元件的光軸調節裝置，所述光軸調節裝置包括：承載臺1、磁環2，承載臺1上設有凹槽3，凹槽3的寬度小于磁環2的外徑；凹槽3的深度大于磁環2的壁厚b；凹槽3呈圓柱面弧形凹槽。本實施例中，承載臺1的高度為2mm，磁環2的內徑為1.5mm。凹槽3的深度為0.8mm。凹槽3的長度為0.8mm。磁環2的壁厚為0.2mm。

實施例5：一種用于光學元件的光軸調節裝置，所述光軸調節裝置包括：承載臺1、磁環2，承載臺1上設有凹槽3，凹槽3的寬度小于磁環2的外徑；凹槽3的深度大于磁環2的壁厚b；凹槽3呈圓柱面弧形凹槽。本實施例中，承載臺1的高度為2.5mm，磁環2的內徑為1mm。凹槽3的深度為1mm。凹槽3的長度為1mm。磁環2的壁厚為0.5mm。

以上所述僅為本實用新型的實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內。