[實(shí)用新型]吸收性介質(zhì)復(fù)折射率測(cè)量裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720358520.9 | 申請(qǐng)日: | 2017-04-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN206638585U | 公開(公告)日: | 2017-11-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張秋長(zhǎng);羅天舒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廈門大學(xué)嘉庚學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | G01N21/41 | 分類號(hào): | G01N21/41;G01N21/01 |
| 代理公司: | 福州元?jiǎng)?chuàng)專利商標(biāo)代理有限公司35100 | 代理人: | 蔡學(xué)俊 |
| 地址: | 363105 福建省漳州*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 吸收性 介質(zhì) 折射率 測(cè)量 裝置 | ||
1.一種吸收性介質(zhì)復(fù)折射率測(cè)量裝置,其特征在于:包括激光發(fā)射器、尖劈形吸收性介質(zhì)、CCD探測(cè)器、示波器與轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu),所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括直桿、與直桿一端固定連接的第一平臺(tái)及與直桿另一端鉸接的第二平臺(tái),所述激光發(fā)射器放置在第一平臺(tái)上,尖劈形吸收性介質(zhì)放置在第二平臺(tái)上;CCD探測(cè)器設(shè)置第二平臺(tái)的后方,接收激光發(fā)射器直接射出的光束或經(jīng)尖劈形吸收性介質(zhì)折射后的光束并將光信號(hào)輸送至示波器進(jìn)行實(shí)時(shí)顯示。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸收性介質(zhì)復(fù)折射率測(cè)量裝置,其特征在于:所述第二平臺(tái)的上端面設(shè)置有擋板,所述擋板中部設(shè)置有開口,直桿與第二平臺(tái)的鉸接點(diǎn)與所述開口在豎直方向上重合。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的吸收性介質(zhì)復(fù)折射率測(cè)量裝置,其特征在于:所述第二平臺(tái)的下側(cè)面設(shè)置刻度盤,所述直桿上設(shè)置有緊貼所述刻度盤的指針。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的吸收性介質(zhì)復(fù)折射率測(cè)量裝置,其特征在于:所述激光發(fā)射器和尖劈形吸收性介質(zhì)間還設(shè)置有擴(kuò)束器對(duì)激光進(jìn)行擴(kuò)束。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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