[實用新型]天線結構和通訊裝置

有效

• 申請號: 201720354918.5
• 申請日: 2017-04-06
• 公開（公告）號: CN206834321U
• 公開（公告）日: 2018-01-02
• 發明（設計）人: 盧永春;吳新銀;李盼;徐健
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01Q1/36
• 分類號: H01Q1/36;H01Q1/38;H01Q1/50;H01Q1/08
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所11105
• 代理人: 焦玉恒

1.一種天線結構，其特征在于，包括：

第一襯底基板；

第二襯底基板；

介電層，設置在所述第一襯底基板和所述第二襯底基板之間；

多個第一電極，間隔設置在所述第一襯底基板靠近所述介電層的一側；

多個第二電極，間隔設置在所述第二襯底基板靠近所述介電層的一側；以及

多個第一緩沖塊，設置在所述第一電極與所述第一襯底基板之間，

其中，所述第一緩沖塊與所述第一電極至少部分直接接觸。

2.根據權利要求1所述的天線結構，其特征在于，還包括：

多個第二緩沖塊，設置在所述第二電極與所述第二襯底基板之間，

其中，所述第二緩沖塊與所述第二電極至少部分直接接觸。

3.根據權利要求2所述的天線結構，其特征在于，所述第一電極和/或所述第二電極包括至少一個彎曲形電極。

4.根據權利要求2所述的天線結構，其特征在于，每個所述第一電極和所述第一襯底基板之間包括至少一個所述第一緩沖塊，每個所述第二電極和所述第二襯底基板之間包括至少一個所述第二緩沖塊。

5.根據權利要求4所述的天線結構，其特征在于，每個所述第一電極和所述第一襯底基板之間包括多個間隔設置的所述第一緩沖塊，每個所述第二電極和所述第二襯底基板之間包括多個間隔設置的所述第二緩沖塊。

6.根據權利要求2-5中任一項所述的天線結構，其特征在于，所述第一緩沖塊和/或第二緩沖塊的橫截面形狀包括矩形、半圓形和梯形中的至少之一。

7.根據權利要求1-5中任一項所述的天線結構，其特征在于，所述介電層包括液晶。

8.根據權利要求1-5中任一項所述的天線結構，其特征在于，還包括：

擋墻，

其中，所述擋墻設置在所述第二襯底基板靠近所述第一襯底基板的一側并向所述第一襯底基板延伸且位于相鄰的所述第一電極之間的區域，或者設置在所述第一襯底基板靠近所述第二襯底基板的一側并向所述第二襯底基板延伸且位于相鄰的所述第二電極之間的區域。

9.根據權利要求8所述的天線結構，其特征在于，所述第一緩沖塊和所述擋墻包括相同的材料。

10.根據權利要求2-5中任一項所述的天線結構，其特征在于，所述第一緩沖塊的材料的黏度大于所述第一襯底基板的黏度，所述第二緩沖塊的材料的黏度大于所述第二襯底基板的黏度。

11.根據權利要求2-5中任一項所述的天線結構，其特征在于，所述第一緩沖塊的材料的彈性模量小于所述第一襯底基板的彈性模量，所述第二緩沖塊的材料的彈性模量小于所述第二襯底基板的彈性模量。

12.根據權利要求2-5中任一項所述的天線結構，其特征在于，所述第一緩沖塊和/或所述第二緩沖塊的材料的黏度大于1000Pa·s。

13.根據權利要求2-5中任一項所述的天線結構，其特征在于，所述第一緩沖塊和/或所述第二緩沖塊的材料包括聚二甲基硅氧烷。

14.根據權利要求2-5中任一項所述的天線結構，其特征在于，還包括：

第一控制電極，設置在所述第一襯底基板與所述第一緩沖塊之間，并與所述第一電極電連接；以及

第二控制電極，設置在所述第二襯底基板與所述第二緩沖塊之間，并與所述第二電極電連接。

15.根據權利要求2-5中任一項所述的天線結構，其特征在于，所述第一電極和所述第二電極在所述第一襯底基板上的正投影交替設置。

16.一種通訊裝置，其特征在于，包括根據權利要求1-15中任一項所述的天線結構。