[實用新型]一種新型電磁屏蔽膜

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720345716.4
• 申請日: 2017-04-05
• 公開（公告）號: CN207151084U
• 公開（公告）日: 2018-03-27
• 發(fā)明（設計）人: 徐強
• 申請（專利權）人: 合肥美凱電子有限公司
• 主分類號: H05K9/00
• 分類號: H05K9/00;G02B5/00;G02B5/20
• 代理公司: 南京縱橫知識產(chǎn)權代理有限公司32224
• 代理人: 董建林

技術領域

本實用新型涉及屏蔽膜領域，具體涉及一種新型電磁屏蔽膜。

背景技術

隨著城市信息化產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展，越來越多的電子產(chǎn)品采用大規(guī)模或超大規(guī)模集成電路，其內(nèi)部的電子部件之間相互接收的電磁波或從外部接收的電磁波都會對電子設備的運作產(chǎn)生嚴重干擾，降低運行效率，且由于需屏蔽的電磁頻譜越來越寬, 對電磁屏蔽效能的要求也越來越高, 單一材料已無法滿足當前電磁屏蔽的要求，進而推動了電磁屏蔽材料從單一材料向復合材料的方向發(fā)展。

目前電子產(chǎn)品外殼大多采用塑料制成，具有輕、薄和小的優(yōu)勢，但塑料制品的絕緣體屬性使其完全不具備屏蔽電磁波的功效，因此設計一種具有電磁波屏蔽功能的塑料對電子產(chǎn)品的持續(xù)發(fā)展具有重要意義。此外，為保證有較高的屏蔽效能，市場上的抗電磁干擾薄膜通常采用兩層以上的多層復合形式，主要由基層、絕緣層、金屬網(wǎng)層、導電膠層和保護層組成，但大都存在材料取用和結構設計欠妥、生產(chǎn)成本高、屏蔽性能及力學性能差的弊端。

實用新型內(nèi)容

為解決現(xiàn)有技術中存在的屏蔽性能及力學性能差的問題，本實用新型提供一種新型電磁屏蔽膜。

為實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用的技術方案為：

一種新型電磁屏蔽膜，包括由下至上順序設置的基層、絕緣層、金屬網(wǎng)層、入射層和保護層，金屬網(wǎng)層設有兩個且分別與絕緣層和入射層相接，兩個金屬網(wǎng)層之間設有導磁層，入射層包括由碳納米管和改性石墨構成的導電填料，保護層的下表面依次通過吸光層和近紅外遮蔽層與入射層相接。

進一步的，所述碳納米管和改性石墨的質(zhì)量比為1：7-1：2。

進一步的，所述入射層的體積電阻率為0 .1-10 Ω·cm，厚度為300-800 nm。

進一步的，所述絕緣層選自YD128 環(huán)氧樹脂、聚酰亞胺樹脂中的任一種。

進一步的，所述金屬網(wǎng)層為1Cr18Ni9Ti、銅箔、鎳箔的任一種，用于屏蔽電磁輻射和電磁的相互干擾。

進一步的，所述導磁層為非晶帶材，包括鈷鎳非晶軟磁合金、鐵鎳非晶軟磁合金中的任一種。

進一步的，所述近紅外遮蔽層選自納米銫鎢青銅粉、納米氧化錫銻中的一種或兩種的組合。

進一步的，所述吸光層為炭黑、石墨、氧化鐵黑中的一種或多種，吸光層的厚度為10-400 nm。

進一步的，所述基層和保護層分別為聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯中的一種或兩種，所述保護層為離型膜層。

與現(xiàn)有技術相比，本實用新型具有以下優(yōu)點：

本實用新型公開了一種新型電磁屏蔽膜，包括由下至上依次設置的基層、絕緣層、金屬網(wǎng)層、入射層和保護層，金屬網(wǎng)層有兩個且分別與絕緣層的上表面和入射層的下表面相接觸，兩個金屬網(wǎng)層之間設有導磁層，絕緣層的下表面與基層相接，保護層的下表面依次通過吸光層和近紅外遮蔽層與入射層的上表面相接。本實用新型提供的新型電磁屏蔽膜具有多層復合結構，結合高導電和高導磁材料，在保證絕緣層與金屬網(wǎng)層之間具有較高粘合力的同時有效阻止電磁波對鄰近線路及元件的干擾，提高電磁屏蔽性能和光吸收能力，保持色純度和高透光性，具有廣闊的應用前景。

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意圖；

其中，1-基層；2-絕緣層；3-金屬網(wǎng)層；4-導磁層；5-入射層；6-近紅外遮蔽層；7-吸光層；8-保護層。

具體實施方式

下面結合具體實施例對本實用新型作更進一步的說明。

名詞解釋：

聚對苯二甲酸乙二醇酯，英文簡稱：PET；聚萘二甲酸乙二醇酯，英文簡稱：PEN。

如圖1所示， 一種新型電磁屏蔽膜，包括由下至上依次設置的基層1、絕緣層2、金屬網(wǎng)層3、入射層5和保護層8，金屬網(wǎng)層3有兩個且分別與絕緣層2的上表面和入射層5的下表面相接觸，兩個金屬網(wǎng)層3之間設有導磁層4，絕緣層2的下表面與基層1相接，保護層8的下表面依次通過吸光層7和近紅外遮蔽層6與入射層5的上表面相接。