[實(shí)用新型]堿性蝕刻液循環(huán)再生回用裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201720333372.5
• 申請(qǐng)日: 2017-03-31
• 公開（公告）號(hào): CN206721363U
• 公開（公告）日: 2017-12-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 帥輝
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東莞中盈環(huán)科節(jié)能科技有限公司
• 主分類號(hào): C23F1/46
• 分類號(hào): C23F1/46;C23F1/08;C25C1/12
• 代理公司: 東莞市創(chuàng)益專利事務(wù)所44249
• 代理人: 李衛(wèi)平

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及廢液處理設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是堿性蝕刻液處理裝置。

背景技術(shù)

作為電子工業(yè)、信息產(chǎn)業(yè)和家電行業(yè)的基礎(chǔ)，近 20 年來(lái)重污染行業(yè)之一的印制電路板行業(yè)紛紛向中國(guó)轉(zhuǎn)移，使得中國(guó)的 PCB（印制電路板）行業(yè)近年一直保持高于 10%的年增長(zhǎng)速度，目前有多種規(guī)模的 PCB 企業(yè)近 3000 家，年產(chǎn)量達(dá)到 2 億平方米，每年消耗精銅在 10萬(wàn)噸以上，產(chǎn)出的廢液（廢蝕刻液）中總銅量在 5 萬(wàn)噸以上，對(duì)社會(huì)尤其是 PCB 周邊地區(qū)的水資源構(gòu)成了嚴(yán)重的危害。蝕刻是 PCB 生產(chǎn)中耗藥水量較大的工序，也是產(chǎn)生廢液（即危險(xiǎn)廢物——廢蝕刻液，按國(guó)家環(huán)保總局的廢物分類命名）和廢水（即一次洗滌廢水和二次洗滌廢水）最大的工序；一般而言，每生產(chǎn)一平方米正常厚度（18μm）的雙面板消耗蝕刻液約為 2—3 升，并出廢蝕刻液 2—3 升、一次洗滌廢水 50—75 升、二次洗滌廢水 80——100 升。目前的做法是定時(shí)或不定時(shí)地從蝕刻槽排出部分銅含量很高的母液——廢蝕刻液，同時(shí)向其中添加新的蝕刻液。由于蝕刻的最佳銅濃度在 80—100 克/升，而外排時(shí)則希望銅濃度越高越好（常在 150——160 克/升），以盡可能提高蝕刻液利用效率，降低溶液總使用量，因此，不論是采用人工間歇排放工藝還是比重控制的連續(xù)排放工藝，實(shí)際生產(chǎn)中蝕刻液并未處于其最佳技術(shù)狀態(tài)。從經(jīng)濟(jì)成本上說(shuō)，目前的做法對(duì) PCB 企業(yè)不利，一方面需花可觀的錢購(gòu)買蝕刻液，外排廢蝕刻液交由有處理能力的企業(yè)無(wú)償或有償處理，增加了 PCB 企業(yè)的運(yùn)菅成本和環(huán)保壓力。

傳統(tǒng)的生產(chǎn)硫酸銅工藝乃是對(duì)廢蝕刻液進(jìn)行“殺雞取卵”的處理方案即破壞原蝕刻液的組份，且運(yùn)輸中存在二次污染、使得對(duì)蝕刻有用的成份（氨、氯化物、氯酸鹽、硫脲等）成為二次污染，加上銅提取過程無(wú)法避免的含銅廢水一起被排放，對(duì)區(qū)域性的水體系造成了嚴(yán)重的二次污染。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，本實(shí)用新型提供一種堿性蝕刻液循環(huán)再生回用裝置，在線處理，提升生產(chǎn)效率及質(zhì)量，降低生產(chǎn)成本。

為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案：

堿性蝕刻液循環(huán)再生回用裝置，該裝置具有廢液暫存槽、三級(jí)萃取槽、二級(jí)水洗滌槽、電解反應(yīng)槽、再生液調(diào)配槽、萃取油中轉(zhuǎn)槽，廢液暫存槽連接蝕刻生產(chǎn)線而收集蝕刻生產(chǎn)線排放的含銅廢液，廢液暫存槽的輸出端依次連接三級(jí)萃取槽、二級(jí)水洗滌槽、電解反應(yīng)槽，三級(jí)萃取槽萃取分離廢液中的銅離子，二級(jí)水洗滌槽將銅離子和萃取油分離，電解反應(yīng)槽對(duì)銅離子電解提銅；所述三級(jí)萃取槽所得的分離銅離子后的廢液轉(zhuǎn)移到再生液調(diào)配槽中，由再生液調(diào)配槽調(diào)配出合格的再生液后再送至蝕刻生產(chǎn)線使用；所述二級(jí)水洗滌槽分離出來(lái)的萃取油轉(zhuǎn)移到萃取油中轉(zhuǎn)槽中，萃取油中轉(zhuǎn)槽循環(huán)回送萃取油到三級(jí)萃取槽。

上述方案進(jìn)一步是：所述三級(jí)萃取槽中設(shè)有渦輪式定速混液旋轉(zhuǎn)器，三級(jí)萃取槽中每級(jí)萃取可降低廢液含銅25-30g/l。

上述方案進(jìn)一步是：所述二級(jí)水洗滌槽與電解反應(yīng)槽之間通過硫酸銅反萃取槽連接，電解反應(yīng)槽輸出端具有循環(huán)管路回接硫酸銅反萃取槽。

上述方案進(jìn)一步是：所述再生液調(diào)配槽與蝕刻生產(chǎn)線之間通過再生液暫存槽連接。

上述方案進(jìn)一步是：所述二級(jí)水洗滌槽排放的水洗液經(jīng)過洗滌水排放槽處理后排出。

采用上述結(jié)構(gòu)，本實(shí)用新型連接于生產(chǎn)線上，實(shí)現(xiàn)在線隨機(jī)封閉式循環(huán)運(yùn)行，從源頭污染預(yù)防，減少二次污染，達(dá)到對(duì)蝕刻廢液有價(jià)部分進(jìn)行回收，有用部分進(jìn)行完全回用，確保 PCB企業(yè)蝕刻工序在生產(chǎn)上品質(zhì)更穩(wěn)定、廢物零排放（清潔生產(chǎn)）、經(jīng)濟(jì)上成本大幅降低（≥75%）的實(shí)現(xiàn)；符合產(chǎn)業(yè)利用，具有極佳的經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益。

附圖說(shuō)明：

附圖1為本實(shí)用新型較佳實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖；

附圖2為圖1實(shí)施例的電解反應(yīng)槽結(jié)構(gòu)分解示意圖；

附圖3為本實(shí)用新型再一實(shí)施例的三級(jí)萃取槽、二級(jí)水洗滌槽、硫酸銅反萃取槽及電解反應(yīng)槽連接結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式：

以下將結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的構(gòu)思、具體結(jié)構(gòu)及產(chǎn)生的技術(shù)效果作進(jìn)一步說(shuō)明，以充分地了解本實(shí)用新型的目的、特征和效果。