[實用新型]一種電路板酸性蝕刻液循環(huán)再生回用設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720333340.5 | 申請日: | 2017-03-31 |
| 公開(公告)號: | CN206736359U | 公開(公告)日: | 2017-12-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 帥輝 | 申請(專利權(quán))人: | 東莞中盈環(huán)科節(jié)能科技有限公司 |
| 主分類號: | C23F1/46 | 分類號: | C23F1/46;C23F1/08;C25C1/12;C25C7/00 |
| 代理公司: | 東莞市創(chuàng)益專利事務(wù)所44249 | 代理人: | 李衛(wèi)平 |
| 地址: | 523000 廣東省東莞*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電路板 酸性 蝕刻 循環(huán) 再生 設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及廢液處理設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及電路板酸性蝕刻液處理設(shè)備。
背景技術(shù)
電路板酸性蝕刻液是一種高含銅、含酸、含氯的廢液,現(xiàn)有電路板酸性蝕刻液需轉(zhuǎn)移委外處理:生產(chǎn)硫酸銅、海綿銅等化工產(chǎn)品,容易造成廢液運輸途中的滴、漏、泄等二次污染;且現(xiàn)有的廢液處理技術(shù)均采用的是不可再生的傳統(tǒng)提煉處理技術(shù),處理生產(chǎn)過程中需要添加大量的鹽酸和蝕刻子液,造成生產(chǎn)成本過高。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的在于提供一種電路板酸性蝕刻液循環(huán)再生回用設(shè)備,減少二次污染,降低生產(chǎn)成本。
為達到上述目的,本實用新型采用如下技術(shù)方案:
一種電路板酸性蝕刻液循環(huán)再生回用設(shè)備,該設(shè)備具有中轉(zhuǎn)循環(huán)裝置、電解反應(yīng)槽、氯氣回收裝置,電解反應(yīng)槽內(nèi)分設(shè)電解陽極區(qū)和電解陰極區(qū),電解陽極區(qū)中設(shè)置有離子膜反應(yīng)發(fā)生室;電解反應(yīng)槽的輸入端連接中轉(zhuǎn)循環(huán)裝置,電解反應(yīng)槽的輸出端連接氯氣回收裝置,氯氣回收裝置再生的氯氣經(jīng)過中轉(zhuǎn)循環(huán)裝置輸送給生產(chǎn)線;所述離子膜反應(yīng)發(fā)生室為密閉空間。
上述方案進一步是:所述離子膜反應(yīng)發(fā)生室具有陽極板、離子膜、進液口、出液口、排氣口,高含銅廢液進入離子膜反應(yīng)發(fā)生室在離子膜及電場的作用下廢液中氯離子生成氯氣,亞銅離子被氧化為亞銅離子。
上述方案進一步是:所述電解反應(yīng)槽中在進出液之間間隔分布有離子膜反應(yīng)發(fā)生室和陰極板。
上述方案進一步是:該設(shè)備還包涵廢氣處理系統(tǒng),廢氣處理系統(tǒng)連接氯氣回收裝置的廢氣排放端,廢氣處理系統(tǒng)中具有強堿噴淋裝置與廢氣發(fā)生中和反應(yīng),從而實現(xiàn)廢氣達標(biāo)排放。
上述方案進一步是:所述的氯氣回收裝置通過射流裝置將氯氣安全返回再生液中利用。
采用上述結(jié)構(gòu),本實用新型實現(xiàn)在線的廢液處理,減少二次污染,達到提銅處理同時,還實現(xiàn)氯氣再生回收利用,降低生產(chǎn)成本。結(jié)構(gòu)簡單,投資成本低,符合產(chǎn)業(yè)利用,具有極佳的經(jīng)濟效益和社會效益。
附圖說明:
附圖1為本實用新型較佳實施例結(jié)構(gòu)示意圖;
附圖2為圖1實施例的離子膜反應(yīng)發(fā)生室結(jié)構(gòu)示意圖;
附圖3為圖1實施例的電解反應(yīng)槽結(jié)構(gòu)分解示意圖。
具體實施方式:
以下將結(jié)合附圖對本實用新型的構(gòu)思、具體結(jié)構(gòu)及產(chǎn)生的技術(shù)效果作進一步說明,以充分地了解本實用新型的目的、特征和效果。
參閱圖1、2、3所示,系本實用新型的較佳實施例示意圖,本實用新型有關(guān)一種電路板酸性蝕刻液循環(huán)再生回用設(shè)備,該設(shè)備具有中轉(zhuǎn)循環(huán)裝置1、電解反應(yīng)槽2、氯氣回收裝置3,電解反應(yīng)槽2內(nèi)分設(shè)電解陽極區(qū)21和電解陰極區(qū)22,電解陽極區(qū)21中設(shè)置有離子膜反應(yīng)發(fā)生室3;電解反應(yīng)槽的輸入端連接中轉(zhuǎn)循環(huán)裝置1,電解反應(yīng)槽的輸出端連接氯氣回收裝置4,氯氣回收裝置4再生的氯氣經(jīng)過中轉(zhuǎn)循環(huán)裝置1輸送給生產(chǎn)線6。所述離子膜反應(yīng)發(fā)生室3為密閉空間,為氯氣回收利用創(chuàng)造條件。
圖1、2、3所示,本實施例中,所述離子膜反應(yīng)發(fā)生室3具有陽極板31、離子膜32、進液口33、出液口34、排氣口35,高含銅廢液進入離子膜反應(yīng)發(fā)生室3在離子膜32及電場的作用下廢液中氯離子生成氯氣,亞銅離子被氧化為亞銅離子。排氣口35輸出氯氣到氯氣回收裝置4,氯氣回收裝置4再生的氯氣經(jīng)過中轉(zhuǎn)循環(huán)裝置1輸送給生產(chǎn)線6,達到再生利用,環(huán)保、降低生產(chǎn)成本。本實施例進一步地:還包涵廢氣處理系統(tǒng)5,廢氣處理系統(tǒng)5連接氯氣回收裝置4的廢氣排放端,廢氣處理系統(tǒng)5中具有強堿噴淋裝置與廢氣發(fā)生中和反應(yīng)。生產(chǎn)中大部分氯氣在氯氣回收裝置的作用下被再生回用,少許氯氣及其他氣體在廢氣處理系統(tǒng)5中經(jīng)強堿噴淋裝置與廢氣發(fā)生中和反應(yīng),從而實現(xiàn)廢氣達標(biāo)排放。
圖1、3所示,本實施例中,所述電解反應(yīng)槽2中在進出液之間間隔分布有離子膜反應(yīng)發(fā)生室3和陰極板23。電解反應(yīng)槽2的廢液來自中轉(zhuǎn)循環(huán)裝置1,在電解反應(yīng)槽2內(nèi)添加添加劑輔助電解反應(yīng)。電解反應(yīng)槽2的電解陽極區(qū)21提供電荷作用于銅離子反應(yīng)。電解陰極區(qū)22得到金屬陰極銅,大幅降低蝕刻液中的銅含量。
本實施例中,所述離子膜反應(yīng)發(fā)生室3控制所產(chǎn)生的氯氣送至氯氣回收裝置4,所述的氯氣回收裝置4通過射流裝置將氯氣安全返回再生液中利用;通過射流裝置將回收氯氣重新溶入再生蝕刻液中提高再生蝕刻液的氧化能力,提升作業(yè)效率及質(zhì)量,降低生產(chǎn)成本。
當(dāng)然,本實用新型還可有其他多種實施例,在不背離本實用新型精神及其實質(zhì)的情況下,熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員當(dāng)可根據(jù)本實用新型作出各種相應(yīng)的改變和變型,但這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本實用新型所附的權(quán)利要求的保護范圍。
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