[實用新型]自顯影種植義齒有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720318100.8 | 申請日: | 2017-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN207400816U | 公開(公告)日: | 2018-05-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 譚鸞君;徐國權(quán);王磊;張平;厲禎;李耀俊 | 申請(專利權(quán))人: | 上海市東方醫(yī)院 |
| 主分類號: | A61C8/00 | 分類號: | A61C8/00 |
| 代理公司: | 上海浦東良風專利代理有限責任公司 31113 | 代理人: | 陸盛菊 |
| 地址: | 200120 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯影 基臺 義齒 基底中心 內(nèi)腔 本實用新型 牙冠 中軸線 種植體 上部表面 螺紋連 顯影劑 基底 密封 種植 防護 直觀 量化 相距 檢查 | ||
本實用新型為一種自顯影種植義齒。它包括牙冠、基臺、種植體,所述種植體的頂部設(shè)有內(nèi)腔,所述基臺的下部通過螺紋連于所述內(nèi)腔內(nèi),所述牙冠固定在所述基臺上,所述內(nèi)腔的基底上設(shè)有第一顯影凹槽、第二顯影凹槽,所述第一顯影凹槽位于所述基底中心,所述第二顯影凹槽的中心與所述基底中心相距4mm;所述基臺的上部表面設(shè)有第三顯影凹槽,所述第三顯影凹槽的中心與所述基臺的中軸線之間的距離為5mm,所述基底中心位于所述基臺的中軸線上;所述第一顯影凹槽、第二顯影凹槽和第三顯影凹槽內(nèi)分別密封有顯影劑。本實用新型能精確直觀地顯示義齒位移角度,實現(xiàn)了義齒量化檢查和及時防護,結(jié)構(gòu)簡單,使用方便。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種醫(yī)用種植義齒,特別是公開一種自顯影種植義齒。
背景技術(shù)
在口腔醫(yī)學臨床工作中,由于齲齒和牙周炎等導致患者牙齒的掉落和缺失,為了恢復牙齒咀嚼機能,以往臨床比較新的修復技術(shù)采用種植義齒修復,一般種植義齒包括牙冠、基臺和種植體三部分組成,種植體植入牙槽骨內(nèi),基臺作為連接器連接牙冠和種植體,牙冠采用醫(yī)用粘結(jié)劑在基臺上。
種植牙和牙槽骨生長在一起,剛性一體連接,本身不會發(fā)生松動,或者轉(zhuǎn)動,牙冠由于和基臺采用粘結(jié),也可以看作是剛性連接,由于基臺是通過螺絲擰入種植體內(nèi)腔螺紋,是非剛性連接,所以兩大剛性體在長時間使用后勢必沿著基臺種植體的連接螺紋發(fā)生松動和/或角度位移 ,從而最后導致基臺離開初始安裝位置或脫落。造成患者使用不便和經(jīng)濟損失。
此前種植后,常規(guī)的種植牙檢查,主要是依據(jù)醫(yī)生的主觀判斷,例如:患者的自覺癥狀、臨床檢查叩診、咬合和松動度檢查,拍X片,結(jié)合個人經(jīng)驗,X片是二維的影像,將影響判斷的有效性,是沒有量化數(shù)據(jù)來進行補充的。因此,現(xiàn)有的種植體術(shù)后檢查技術(shù)無法及時、精確發(fā)現(xiàn)種植體的使用情況,無法得到準確的松動數(shù)據(jù),從而造成醫(yī)治的延后或者失去的補救時機,從而造成經(jīng)濟損失。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的在于解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題,提供一種能幫助醫(yī)生通過X光圖像準確判讀的種植義齒在使用期間的狀況,及時采取保護措施減少損失的自顯影種植義齒。
本實用新型是這樣實現(xiàn)的:一種自顯影種植義齒,包括牙冠、基臺、種植體,所述種植體的頂部設(shè)有內(nèi)腔,所述基臺的下部通過螺紋連于所述內(nèi)腔內(nèi),所述牙冠固定在所述基臺上,其特征在于:所述內(nèi)腔的基底上設(shè)有第一顯影凹槽、第二顯影凹槽,所述第一顯影凹槽位于所述基底中心,所述第二顯影凹槽的中心與所述基底中心相距4mm;所述基臺的上部表面設(shè)有第三顯影凹槽,所述第三顯影凹槽的中心與所述基臺的中軸線之間的距離為5mm,所述基底中心位于所述基臺的中軸線上;所述第一顯影凹槽、第二顯影凹槽和第三顯影凹槽內(nèi)分別密封有顯影劑。
所述第一顯影凹槽、第二顯影凹槽和第三顯影凹槽分別呈直徑為1~2mm、深度為1~2mm的圓筒狀。
所述顯影劑通過設(shè)于所述第一顯影凹槽、第二顯影凹槽和第三顯影凹槽頂部的光固化復合樹脂層密封。
本實用新型的有益效果是:通過種植體和基臺上的帶有顯影劑的第一顯影凹槽、第二顯影凹槽和第三顯影凹槽,在安裝后和使用一段時間后分別對本實用新型義齒進行X光下掃描成像,基于與種植體的第一顯影凹槽、第二顯影凹槽的位置固定,通過基臺的第三顯影凹槽的位置與第一顯影凹槽、第二顯影凹槽之間的位置變化,可以從顯影位置關(guān)系得到基臺相對種植體幾何中心角度變化,從而可以替代傳統(tǒng)主觀檢查的方法,實現(xiàn)了義齒量化檢查和及時防護,填補了該領(lǐng)域的空白。
附圖說明
圖1是本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是圖1的結(jié)構(gòu)爆炸示意圖。
圖3是第一顯影凹槽、第二顯影凹槽和第三顯影凹槽之間的相對位置變化示意圖。
其中:1、牙冠;
2、基臺;201、第三顯影凹;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海市東方醫(yī)院,未經(jīng)上海市東方醫(yī)院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201720318100.8/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種假牙植體
- 下一篇:單側(cè)咬合記錄印模托盤





