[實用新型]防靜電支撐體保護膜

有效

• 申請號: 201720309746.X
• 申請日: 2017-03-28
• 公開（公告）號: CN206635285U
• 公開（公告）日: 2017-11-14
• 發明（設計）人: 孫攀;王璽;王健
• 申請（專利權）人: 上海精涂新材料技術有限公司
• 主分類號: C09J7/02
• 分類號: C09J7/02
• 代理公司: 上海東亞專利商標代理有限公司31208
• 代理人: 董梅

技術領域

本實用新型涉及膠帶領域，具體涉及防靜電支撐體保護膜，為一種半導體及光學玻璃使用的特種支撐體保護膜。

背景技術

半導體及光學玻璃使用的特種支撐體保護膜需具有超高的粘力，可保證晶片在研磨、切割過程中不脫落、不飛散，并保護未加工部分。而在加工完畢后只要照射足夠的UV光線，即可減低其粘力，使該支撐體可以輕易撕下,使晶片可以在下一道生產工序正常使用。

然而傳統的支撐體保護膜并不具備防靜電性能，對于撕離時有防靜電要求的元器件，可能會因為靜電太大而對生產過程或元器件本身產生影響。

因此需要一種防靜電性能好的支撐體保護膜來滿足此類需求。

實用新型內容

針對現有技術的不足，本實用新型所要解決的技術問題是：提供一種防靜電支撐體保護膜，以有效解決了目前保護膜無法解決的UV處理后撕離會產生靜電的問題。

為達到上述目的，本實用新型所提供的防靜電支撐體保護膜，是通過以下技術方案實現的：一種防靜電支撐體保護膜，包括基材、壓敏膠層和離型膜，至少一面經過電暈處理的所述基材涂布有抗靜電壓敏膠層，抗靜電壓敏膠層上覆蓋有離型膜，其中，所述基材為厚度為25～200μm的PET或PO光學薄膜；所述抗靜電壓敏膠層為丙烯酸體系膠類壓敏膠且其內含有粒徑為0.05nm～50um的防靜電微粒的涂層，涂層厚度5～40μm。

本實用新型適用于晶片研磨、切割及電子零件的承載加工等，在具有普通支撐體保護膜性能，如：超高的剝離力，而經過充分的UV光照射后，則可降為超低的剝離力基礎上，剝離時不會產生靜電，可滿足被承載物處理加工過程中對防靜電的需求。

在上述方案基礎上，所述離型膜為PET離型膜，厚度為25～150um。

所述壓敏膠層采用丙烯酸體系膠類壓敏膠，所述防靜電顆粒為聚磺酸類、聚噻吩類、銀粉或者納米級鎳粉顆粒，所述防靜電微粒的添加比例為所述壓敏膠層質量的1～20%。

本實用新型的有益效果是：除具有支撐體保護膜的性能外，在經過UV光照減粘后，剝離時不會產生靜電，實現了防靜電功能，可滿足被承載物處理加工過程中對防靜電的需求。

附圖說明

圖1是防靜電支撐體保護膜的結構示意圖；

圖中標號說明：

1——基材；2——抗靜電壓敏膠層；3——離型膜。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型作進一步詳細說明。

如圖1所示，一種防靜電支撐體保護膜，用于晶片研磨、切割及電子零件的承載加工，包括基材1、壓敏膠層和離型膜3，至少一面經過電暈處理的基材1涂布有抗靜電壓敏膠層2，抗靜電壓敏膠層2上覆蓋有離型膜3，其中，所述基材1為厚度為25～200μm的PET或PO光學薄膜；所述抗靜電壓敏膠層2為丙烯酸體系膠類壓敏膠且其內含有粒徑為0.05nm～50um的防靜電微粒的涂層，涂層厚度5～40μm。

在本實施例中，所述抗靜電壓敏膠層2中含有的防靜電微粒可以為聚磺酸類、聚噻吩類、銀粉或者納米級鎳粉顆粒，防靜電微粒的添加比例為所述壓敏膠層2質量的1～20%。

所述離型膜3為PET離型膜，厚度為25～150um。

本實用新型的制作方法如下：

1）選擇厚度為25～200um的PET或PO光學薄膜作為基材1，至少一面經過電暈處理；

2）所述基材1的電暈處理過的一面涂布抗靜電壓敏膠層2，抗靜電壓敏膠層2上覆蓋厚度為25～150um的PET離型膜3。

在本實施例中，所述壓敏膠層2可以為丙烯酸類壓敏膠，其涂層厚度5—40um。

本實用新型所提供的防靜電支撐體保護膜可保證晶片在研磨、切割過程中不脫落、不飛散，并保護未加工部分。而在加工完畢后只要照射足夠的UV光線，即可減低其粘力，使該支撐體可以輕易撕下,使晶片可以在下一道生產工序正常使用。同時，可滿足被承載物處理加工過程中對防靜電的需求。

以上內容是結合具體的實施方式對本實用新型所作的進一步詳細說明，不能認定本實用新型的具體實施方式僅限于此，在本實用新型的上述指導下，本領域技術人員可以在上述實施例的基礎上進行各種改進和變形，而這些改進或者變形落在本實用新型的保護范圍內。