[實用新型]MEMS微反射鏡設備和電氣裝置有效
| 申請號： | 201720309648.6 | 申請日： | 2017-03-28 |
| 公開（公告）號： | CN206751385U | 公開（公告）日： | 2017-12-15 |
| 發明（設計）人： | E·杜奇;L·巴爾多;R·卡爾米納蒂;F·F·維拉 | 申請（專利權）人： | 意法半導體股份有限公司 |
| 主分類號： | B81B7/02 | 分類號： | B81B7/02 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務所11256 | 代理人： | 王茂華 |
| 地址： | 意大利阿格*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | mems 反射 設備 電氣 裝置 | ||
1.一種MEMS微反射鏡設備，其特征在于，包括采用半導體材料的單體本體，所述單體本體具有第一主表面和第二主表面，其中，所述單體本體具有從所述第二主表面延伸的開口并且包括單晶半導體材料的懸置膜，所述懸置膜在所述開口與所述單體本體的所述第一主表面之間延伸；
其中，所述懸置膜包括支撐框架和可移動質量塊，所述可移動質量塊由所述框架承載并且可圍繞與所述第一主表面平行的軸線旋轉；并且
反射區域在所述可移動質量塊之上延伸。
2.根據權利要求1所述的MEMS微反射鏡設備，其特征在于，進一步包括采用氧化物的電絕緣區域，所述電絕緣區域圍繞所述支撐框架在所述懸置膜周圍從所述第一主表面外圍地延伸至所述開口，所述電絕緣區域將所述支撐框架與周圍的固定支撐區域分離。
3.根據權利要求2所述的MEMS微反射鏡設備，其特征在于，所述電絕緣區域包括氧化物區域，所述氧化物區域完全環繞所述懸置膜并且大體上呈塊狀。
4.根據權利要求2所述的MEMS微反射鏡設備，其特征在于，所述電絕緣區域包括氧化物部分和孔。
5.一種電氣裝置，其特征在于，包括圖像投影模塊，所述圖像投影模塊包括根據權利要求1至4中任一項所述的MEMS微反射鏡設備以及被配置成用于生成指向所述反射區域的源光束的光源。
6.根據權利要求5所述的電氣裝置，其特征在于，進一步包括圖像捕獲模塊，所述圖像捕獲模塊可操作地耦合至所述圖像投影模塊并且被配置成用于捕獲與所述反射區域所反射的光束相關聯的圖像。
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