[實用新型]一種硅片翻轉沖洗裝置有效
| 申請號: | 201720304318.8 | 申請日: | 2017-03-27 |
| 公開(公告)號: | CN206676807U | 公開(公告)日: | 2017-11-28 |
| 發明(設計)人: | 袁西冰;趙馴峰;李長虹 | 申請(專利權)人: | 貴州大學 |
| 主分類號: | B08B3/02 | 分類號: | B08B3/02;H01L21/02;F26B21/00 |
| 代理公司: | 貴陽中新專利商標事務所52100 | 代理人: | 劉楠 |
| 地址: | 550025 貴州省貴*** | 國省代碼: | 貴州;52 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 硅片 翻轉 沖洗 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及機械技術領域,具體為一種硅片翻轉沖洗裝置。
背景技術
隨著大規模集成電路的發展、集成電路的集成度不斷提高、線寬不斷減小,集成電路對硅片表面的潔凈度、表面化學態、氧化膜厚度的要求也越來越高。半導體器件生產中的硅片必須經嚴格清洗,否則即使微量污染也會導致器件失效。
清洗的目的在于清除表面污染雜質,包括無機物和有機物。這些雜質有的以原子狀態或離子狀態,有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機污染物包括光刻膠、有機溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機污染物包括重金屬金、銅、鐵、鉻等,嚴重影響少數載流子壽命和表面電導;堿金屬和鈉等會引起嚴重漏電。顆粒污染包括硅渣、塵埃、細菌、微生物、有機膠體纖維等會導致各種缺陷。
現有的硅片沖洗裝置在清洗過程中硅片表面水噴淋不均勻,導致硅片表面有大量的藥液殘留,清洗效果不佳,工作效率低,用水量大,并且清洗后還需要取出烘干,浪費時間。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種硅片翻轉沖洗裝置,以解決上述背景技術中提出的噴淋不均勻,導致硅片表面有大量的藥液殘留,清洗效果不佳,工作效率低,用水量大,并且清洗后還需要取出烘干,浪費時間的問題。
為實現上述目的,本實用新型提供如下技術方案:一種硅片翻轉沖洗裝置,包括沖洗箱、沖洗箱門、電動機箱、控制面板、沖洗箱門鎖扣、電動機、傳動帶、支撐架、集水箱、出水口、二號轉軸、清洗液箱、抽水管、噴水管、一號轉軸、噴氣盒、熱風機、噴嘴和水泵,所述沖洗箱上設置有一個沖洗箱門,所述沖洗箱的一側設置有一個電動機箱,所述電動機箱的外側安裝有一個控制面板,所述沖洗箱門上設置有一個沖洗箱門鎖扣,所述電動機箱內安裝有一個電動機,所述電動機的一側設置有一根二號轉軸,所述電動機箱的底部安裝有兩根支撐架,所述沖洗箱的底部設置有一個出水口,所述出水口的底部設置有一個集水箱,所述沖洗箱的另一側設置有一個清洗液箱,所述清洗液箱的底部安裝有兩根支撐架,所述抽水管的一側嵌入清洗液箱內部,所述抽水管的另一側與水泵連接,所述噴水管的一側與水泵連接,所述噴水管的另一側嵌入到沖洗箱內部,且噴水管的另一側管壁上設置有若干個噴嘴,所述沖洗箱內部還安裝有一個一號轉軸,所述一號轉軸和二號轉軸通過傳動帶傳動連接,所述沖洗箱的頂部安裝有一個熱風機,所述熱風機通過管道與沖洗箱頂部內側的噴氣盒連接。
優選的,所述沖洗箱的底部為一個漏斗狀結構。
優選的,所述清洗液箱上設置有一個觀察窗。
優選的,所述一號轉軸和二號轉軸上設置有夾子。
優選的,所述噴氣盒的底部設置有若干個透氣小孔。
優選的,所述集水箱為可移動裝置,底部安裝有四個萬向輪。
與現有技術相比,本實用新型的有益效果是:該硅片翻轉沖洗裝置設有兩個轉軸,可以安裝更多的硅片,并且清洗箱內部的噴頭分布較均勻,清洗效果較好,工作效率高,用水量少,清洗箱頂部還安裝有一個熱風機,熱風機和清洗箱內部的噴氣盒連接,噴氣盒上設置有若干個小孔,噴氣范圍較廣,烘干效果較好,使用方便,設計較為人性化。
附圖說明
圖1為本實用新型結構示意圖;
圖2為本實用新型沖洗箱俯視結構示意圖;
圖3為本實用新型噴氣盒俯視結構示意圖。
圖中:沖洗箱-1;沖洗箱門-2;電動機箱-3;控制面板-4;沖洗箱門鎖扣-5;電動機-6;傳動帶-7;支撐架-8;集水箱-9;出水口-10;二號轉軸-11;清洗液箱-12;抽水管-13;噴水管-14;一號轉軸-15;噴氣盒-16;熱風機-17;噴嘴-18;水泵-19。
具體實施方式
下面將結合本實用新型實施例中的附圖,對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本實用新型保護的范圍。
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