[實用新型]氣基豎爐還原裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720301929.7 | 申請日: | 2017-03-24 |
| 公開(公告)號: | CN206607261U | 公開(公告)日: | 2017-11-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 馮魯興;鄧君;唐敬坤;韓志彪;曹志成;汪勤亞;吳道洪 | 申請(專利權(quán))人: | 江蘇省冶金設(shè)計院有限公司 |
| 主分類號: | C21B13/02 | 分類號: | C21B13/02 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11201 | 代理人: | 黃德海 |
| 地址: | 210007 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氣基豎爐 還原 裝置 | ||
1.一種氣基豎爐還原裝置,其特征在于,包括:
爐體,所述爐體的頂部具有用于排出爐頂氣及輸入待還原的物料的爐頂口;
加熱倉,所述加熱倉具有物料進口、物料出口、氣體出口,所述物料出口與所述爐頂口相連;
爐頂開關(guān)件,所述爐頂口開關(guān)件設(shè)在所述爐體與所述加熱倉之間;
儲料倉,所述儲料倉與所述物料進口相連以向所述加熱倉輸入物料;
氣封系統(tǒng),所述氣封系統(tǒng)設(shè)在所述加熱倉與所述儲料倉之間以限制所述加熱倉內(nèi)氣體向所述儲料倉流動。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣基豎爐還原裝置,其特征在于,還包括:流量調(diào)節(jié)件,所述流量調(diào)節(jié)件設(shè)在所述加熱倉的氣體出口處。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣基豎爐還原裝置,其特征在于,所述加熱倉包括由上到下依次設(shè)置的分散區(qū)、加熱區(qū)和出料區(qū),所述物料進口和所述氣體出口均連通所述分散區(qū),所述物料出口連通所述出料區(qū)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氣基豎爐還原裝置,其特征在于,所述出料區(qū)的橫截面向下逐漸減小。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣基豎爐還原裝置,其特征在于,所述加熱倉的高度為2-18米。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣基豎爐還原裝置,其特征在于,所述加熱倉的壁面上設(shè)有保溫層。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣基豎爐還原裝置,其特征在于,所述加熱倉內(nèi)鄰近所述物料進口處設(shè)有布料件。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣基豎爐還原裝置,其特征在于,所述加熱倉上在所述氣體出口處設(shè)有粉塵過濾器。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣基豎爐還原裝置,其特征在于,所述加熱倉的高度可調(diào)或者橫截面積大小可調(diào)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣基豎爐還原裝置,其特征在于,所述氣封系統(tǒng)為加壓系統(tǒng)。
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