[實(shí)用新型]真空多弧鍍膜機(jī)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201720297148.5
• 申請(qǐng)日: 2017-03-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN206706195U
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-12-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱國(guó)朝;袁安素;沈?qū)W忠;溫振偉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 納獅新材料股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/32
• 分類號(hào): C23C14/32
• 代理公司: 北京律盟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司11287
• 代理人: 沈錦華

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種鍍膜機(jī)，尤其涉及一種真空多弧鍍膜機(jī)。

背景技術(shù)

目前，真空多弧鍍膜機(jī)是對(duì)金屬表面進(jìn)行鍍膜的專用設(shè)備，其可適用于鍍制耐磨損的涂層。現(xiàn)有技術(shù)的真空多弧鍍膜機(jī)，包括真空抽氣系統(tǒng)、真空室、真空室門、設(shè)置在真空室中的工件轉(zhuǎn)架以及設(shè)置在真空室體上的多個(gè)弧源裝置，可利用物理氣相沉積(以下簡(jiǎn)稱“PVD”)技術(shù)在工件表面沉積一層幾個(gè)微米薄的金屬層。隨著生活水平的提高，人們對(duì)于具有更加廣泛用途和性能的涂層需求也越來(lái)越大。

因此，需要提供一種可制作具有高硬度、良好的耐磨損性能以及可包含多種其它性能的涂層的鍍膜設(shè)備。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的之一在于提供真空多弧鍍膜機(jī)，其可制作具有經(jīng)納米功能粒子改性的PVD功能涂層的工件。

本實(shí)用新型的一實(shí)施例提供一真空多弧鍍膜機(jī)，其包括：真空抽氣系統(tǒng)、真空室、真空室門、設(shè)置在真空室中用于放置鍍膜產(chǎn)品的工件轉(zhuǎn)架以及設(shè)置在真空室中的弧源裝置，其中該弧源裝置包含與真空室固定連接的法蘭，其中該真空多弧鍍膜機(jī)還包括設(shè)置于該弧源裝置附近的納米粉末導(dǎo)入裝置。

在本實(shí)用新型的另一實(shí)施例中，該納米粉末導(dǎo)入裝置具有200至500微米的導(dǎo)管直徑。在本實(shí)用新型的又一實(shí)施例中，該真空抽氣系統(tǒng)包括低真空抽氣裝置和高真空抽氣裝置。在本實(shí)用新型的另一實(shí)施例中，該低真空抽氣裝置包括羅茨真空泵和機(jī)械真空泵。在本實(shí)用新型的又一實(shí)施例中，該高真空抽氣裝置包括維持真空泵和磁懸浮分子泵。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的真空多弧鍍膜機(jī)不僅能夠制造出具有多種性能的經(jīng)納米功能粒子改性的PVD功能涂層，還具有易于操作及制程簡(jiǎn)單的優(yōu)點(diǎn)。

附圖說(shuō)明

圖1是根據(jù)本實(shí)用新型一實(shí)施例的真空多弧鍍膜機(jī)的立式結(jié)構(gòu)示意圖

圖2是圖1所示的根據(jù)本實(shí)用新型一實(shí)施例的真空多弧鍍膜機(jī)的左視圖

具體實(shí)施方式

為更好的理解本實(shí)用新型的精神，以下結(jié)合本實(shí)用新型的部分優(yōu)選實(shí)施例對(duì)其作進(jìn)一步說(shuō)明。

圖1是根據(jù)本實(shí)用新型一實(shí)施例的真空多弧鍍膜機(jī)100的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是圖1所示的根據(jù)本實(shí)用新型一實(shí)施例的真空多弧鍍膜機(jī)100的左視圖。

如圖1所示，根據(jù)本實(shí)用新型一實(shí)施例的真空多弧鍍膜機(jī)100包括：真空抽氣系統(tǒng)10、真空室20、真空室門30、設(shè)置在真空室20中用于放置鍍膜產(chǎn)品的工件轉(zhuǎn)架40以及設(shè)置在真空室20中的弧源裝置50，其中該弧源裝置50包含與真空室20固定連接的法蘭52。請(qǐng)注意，圖1所展示的是立式結(jié)構(gòu)的真空多弧鍍膜機(jī)100，即，工件轉(zhuǎn)架40以垂直于地面的方式設(shè)置于該真空多弧鍍膜機(jī)100中。而本領(lǐng)域技術(shù)人員知曉，真空多弧鍍膜機(jī)100也可以設(shè)計(jì)為臥式結(jié)構(gòu)(未示出)，即，工件轉(zhuǎn)架40以平行于地面的方式設(shè)置于該真空多弧鍍膜機(jī)100中。該弧源裝置50的數(shù)量可以根據(jù)所需處理的工件數(shù)量以及大小進(jìn)行配置，并不受到附圖所展示的實(shí)施例的限制。

該弧源裝置50的附近設(shè)置有納米粉末導(dǎo)入裝置54，該納米粉末導(dǎo)入裝置54具有200微米至500微米的導(dǎo)管直徑。該納米粉末導(dǎo)入裝置54可將具有直徑約50微米的納米級(jí)的納米功能粉末導(dǎo)入至真空室20中，以在工件的表面形成經(jīng)納米功能粒子改性的PVD功能涂層。因此，使得具有一般PVD涂層的工件表面上增加了具有多種性能的經(jīng)納米功能粒子改性的PVD功能涂層。

該真空抽氣系統(tǒng)10還包括低真空抽氣裝置和高真空抽氣裝置。該低真空抽氣裝置包括羅茨真空泵60和機(jī)械真空泵62。該高真空抽氣裝置包括維持真空泵70和磁懸浮分子泵72。

本實(shí)用新型的技術(shù)內(nèi)容及技術(shù)特點(diǎn)已揭示如上，然而熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員仍可能基于本實(shí)用新型的教示及揭示而作種種不背離本實(shí)用新型精神的替換及修飾。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)不限于實(shí)施例所揭示的內(nèi)容，而應(yīng)包括各種不背離本實(shí)用新型的替換及修飾，并為本專利申請(qǐng)權(quán)利要求書所涵蓋。