[實用新型]真空電子槍鍍膜機有效
| 申請號: | 201720296484.8 | 申請日: | 2017-03-24 |
| 公開(公告)號: | CN206706194U | 公開(公告)日: | 2017-12-05 |
| 發明(設計)人: | 朱國朝;袁安素;沈學忠;溫振偉 | 申請(專利權)人: | 納獅新材料股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/30 | 分類號: | C23C14/30 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產權代理有限責任公司11287 | 代理人: | 沈錦華 |
| 地址: | 314200 浙江省嘉興市*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空 電子槍 鍍膜 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種鍍膜機,尤其涉及一種真空電子槍鍍膜機。
背景技術
目前,真空電子槍鍍膜機是對金屬表面進行鍍膜的專用設備,其可適用于鍍制耐磨損的涂層。現有技術的真空電子槍鍍膜機,包括真空抽氣系統、真空室、真空室門、設置在真空室中的工件轉架以及設置在真空室體上的多個電子槍,可利用物理氣相沉積(以下簡稱“PVD”)技術在工件表面沉積一層幾個微米薄的金屬層。隨著生活水平的提高,人們對于具有更加廣泛用途和性能的涂層需求也越來越大。
因此,需要提供一種可制作具有高硬度、良好的耐磨損性能以及可包含多種其它性能的涂層的鍍膜設備。
實用新型內容
本實用新型的目的之一在于提供真空電子槍鍍膜機,其可制作具有經納米功能粒子改性的PVD功能涂層的工件。
本實用新型的一實施例提供一真空電子槍鍍膜機,其包括:真空抽氣系統、真空室、真空室門、設置在真空室中用于放置鍍膜產品的工件轉架以及設置在真空室中的電子束蒸發裝置,其中該電子束蒸發裝置包含電子槍和裝有鍍膜材料的坩堝,其中,該真空電子槍鍍膜機還包括設置于該電子槍之上的納米粉末導入裝置。
在本實用新型的另一實施例中,該納米粉末導入裝置具有200至500微米的導管直徑。在本實用新型的又一實施例中,該真空抽氣系統包括低真空抽氣裝置和高真空抽氣裝置。在本實用新型的另一實施例中,該低真空抽氣裝置包括羅茨真空泵和機械真空泵。在本實用新型的又一實施例中,該高真空抽氣裝置包括維持真空泵和磁懸浮分子泵。
本實用新型實施例提供的真空電子槍鍍膜機不僅能夠制造出具有多種性能的經納米功能粒子改性的PVD功能涂層,還具有易于操作及制程簡單的優點。
附圖說明
圖1是根據本實用新型一實施例的真空電子槍鍍膜機的立式結構示意圖
圖2是圖1所示的根據本實用新型一實施例的真空電子槍鍍膜機的左視圖
具體實施方式
為更好的理解本實用新型的精神,以下結合本實用新型的部分優選實施例對其作進一步說明。
圖1是根據本實用新型一實施例的真空電子槍鍍膜機100的結構示意圖。圖2是圖1所示的根據本實用新型一實施例的真空電子槍鍍膜機100的左視圖。
如圖1所示,根據本實用新型一實施例的真空電子槍鍍膜機100包括:真空抽氣系統10、真空室20、真空室門30、設置在真空室20中用于放置鍍膜產品的工件轉架40以及設置在真空室20中的電子束蒸發裝置,其中該電子束蒸發裝置包含電子槍52和裝有鍍膜材料的坩堝54。請注意,圖1所展示的是立式結構的真空電子槍鍍膜機100,即,工件轉架40以垂直于地面的方式設置于該真空電子槍鍍膜機100中。而本領域技術人員知曉,真空電子槍鍍膜機100也可以設計為臥式結構(未示出),即,工件轉架40以平行于地面的方式設置于該真空電子槍鍍膜機100中。該電子槍52和裝有鍍膜材料的坩堝54的數量可以根據所需處理的工件數量以及大小進行配置,并不受到附圖所展示的實施例的限制。
該電子槍52的上方設置有納米粉末導入裝置56,該納米粉末導入裝置56具有200微米至500微米的導管直徑。該納米粉末導入裝置56可將具有直徑約50微米的納米級的納米功能粉末導入至真空室20中,以在工件的表面形成經納米功能粒子改性的PVD功能涂層。因此,使得具有一般PVD涂層的工件表面上增加了具有多種性能的經納米功能粒子改性的PVD功能涂層。
該真空抽氣系統10還包括低真空抽氣裝置和高真空抽氣裝置。該低真空抽氣裝置包括羅茨真空泵60和機械真空泵62。該高真空抽氣裝置包括維持真空泵70和磁懸浮分子泵72。
本實用新型的技術內容及技術特點已揭示如上,然而熟悉本領域的技術人員仍可能基于本實用新型的教示及揭示而作種種不背離本實用新型精神的替換及修飾。因此,本實用新型的保護范圍應不限于實施例所揭示的內容,而應包括各種不背離本實用新型的替換及修飾,并為本專利申請權利要求書所涵蓋。
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