[實用新型]一種單芯片雙軸磁電阻線性傳感器有效
| 申請號: | 201720293521.X | 申請日: | 2017-03-24 |
| 公開(公告)號: | CN206671519U | 公開(公告)日: | 2017-11-24 |
| 發明(設計)人: | 詹姆斯·G·迪克;周志敏 | 申請(專利權)人: | 江蘇多維科技有限公司 |
| 主分類號: | G01R33/09 | 分類號: | G01R33/09 |
| 代理公司: | 蘇州創元專利商標事務所有限公司32103 | 代理人: | 孫仿衛,李萍 |
| 地址: | 215600 江蘇省蘇州市張家港*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 芯片 磁電 線性 傳感器 | ||
技術領域
本實用新型涉及磁性傳感器領域,特別涉及一種單芯片雙軸磁電阻線性傳感器。
背景技術
雙軸線性傳感器,用于測量空間外磁場在X-Y平面上沿著兩個正交方向如X和Y方向的磁場分量信息,可用于平面二維磁場輪廓測量,在磁場探測領域有廣泛應用。
雙軸磁電阻線性傳感器包括X和Y兩個單軸磁電阻線性傳感器,每一單軸X或Y磁電阻線性傳感器通常采用推挽式電橋結構以增強磁電阻線性傳感器的信號輸出,而推挽式電橋包括推磁電阻線性傳感單元和挽磁電阻線性傳感單元,且分別具有相反的磁場敏感方向。
對于MTJ類型的雙軸磁電阻線性傳感器,通常采用將一個具有單一磁場敏感方向,如X軸的磁電阻傳感單元切片,分別翻轉90、180和270度,以此來分別獲得Y軸推磁電阻傳感單元切片、X軸挽磁電阻傳感單元切片和Y軸挽磁電阻傳感器單元切片,再加上原來的X軸推磁電阻傳感單元切片。因此,雙軸磁電阻傳感器采用翻轉切片的方法將至少需要4片切片;其優點在于,制備方法簡單,只需要一個切片,而且對應一個鐵磁參考層結構;其缺點在于,需要操作4個切片在同一平面內進行精確定位,增加了由于操作失誤導致的傳感器的測量精度損失的可能性。
采用多層薄膜結構的鐵磁參考層的設計,通過改變與反鐵磁層交互耦合的鐵磁層和金屬間隔層構成的多層薄膜的層數,即,其中一個為奇數層,另一個為偶數層的方法,可以實現相反鐵磁參考層的推磁電阻傳感單元和挽磁電阻傳感單元的制造,對于正交的鐵磁參考層的取向,可以通過兩種不同反鐵磁層AF1以及AF2,通過兩次磁場熱退火來實現,其缺點在于,由于在沉積多層薄膜時需要引入至少四種多層薄膜結構和兩次磁場退火,增加了微加工工藝的復雜性。
中國專利申請號為CN201610821610.7的專利公開了一種采用激光程控加熱磁場退火的方法以實現對磁電阻傳感單元進行掃描、快速加熱反鐵磁層到阻塞溫度以上,同時在冷卻過程中可以沿任意方向施加磁場,可以逐個掃描、甚至逐片掃描實現磁電阻傳感單元沿任一方向的磁場敏感方向的定向,采用該方法可以實現在單一切片上的雙軸磁電阻傳感單元的四種具有正交取向的磁電阻傳感單元及其陣列的制造,從而克服了翻轉切片的精確定位和沉積多種磁多層薄膜結構的微加工工藝復雜性的難題,并可實現單芯片雙軸磁電阻線性傳感器的批量制造。
另一方面,中國專利公開號為CN104776794A的專利公開了一種單封裝的高強度磁場磁電阻角度傳感器,通過在磁電阻角度傳感單元的表面增加磁場衰減層的方法來增加磁電阻角度傳感單元的磁場測量范圍,因此,同樣,可以通過增加軟磁通量衰減器的方法,可以得到單芯片的雙軸高磁場強度磁電阻線性傳感器。
此外,在實際激光程控加熱磁退火過程中,由于磁電阻線性傳感單元在加工過程中可能存在的偏離圓形,各向異性分散,以及應力等因素,都可能使得實際的釘扎層磁化方向偏離所設定的+X,-X,+Y和-Y方向,因此還要求設定+X、-X軸磁電阻線性傳感單元和+Y、-Y軸磁電阻線性傳感單元釘扎層磁化方向之間夾角范圍。
發明內容
為了解決上述問題,本實用新型的目的是提出一種單芯片雙軸磁電阻線性傳感器,其具有結構緊湊、高精度,小尺寸,并可實現大幅度磁場工作范圍的優點。
為達到上述目的,本實用新型采用的技術方案是:
一種單芯片雙軸磁電阻線性傳感器,包括位于X-Y平面上的襯底、位于所述襯底上的推挽式X軸磁電阻線性傳感器和推挽式Y軸磁電阻線性傳感器,所述推挽式X軸磁電阻線性傳感器包含X推臂和X挽臂,所述推挽式Y軸磁電阻線性傳感器包含Y推臂和Y挽臂,所述X推臂、X挽臂、Y推臂和Y挽臂均分別包括至少一個磁場敏感方向沿+X、-X、+Y、-Y方向的磁電阻線性傳感單元陣列,所述磁電阻線性傳感單元陣列由至少一個磁電阻線性傳感單元組成,
所述推挽式X軸磁電阻線性傳感器和所述推挽式Y軸磁電阻線性傳感器具有共同的幾何中心,
所述磁電阻線性傳感單元為MTJ單元,所述磁電阻線性傳感單元具有相同的磁多層薄膜結構,所述磁多層薄膜結構自下而上包括種子層、下電極層、反鐵磁層、釘扎層、Ru層、參考層、非磁中間層、自由層、磁偏置層、上電極層和鈍化層,或者自下而上包括種子層、下電極層、反鐵磁層、參考層、非磁中間層、自由層、磁偏置層、上電極層和鈍化層,
所述反鐵磁層磁化方向通過激光程控加熱磁退火獲得,具有相同磁化方向的磁電阻線性傳感單元陣列相鄰設置,具有不同的磁場敏感的磁電阻線性傳感單元陣列之間具有隔熱間隙,
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