[實用新型]一種濕法云母研磨機有效
| 申請號： | 201720291523.5 | 申請日： | 2017-03-23 |
| 公開（公告）號： | CN206810381U | 公開（公告）日： | 2017-12-29 |
| 發明（設計）人： | 劉志勇;劉志明 | 申請（專利權）人： | 靈壽縣華晶云母有限公司 |
| 主分類號： | B02C7/04 | 分類號： | B02C7/04;B02C23/02;B02C23/16;B02C23/40 |
| 代理公司： | 北京神州華茂知識產權有限公司11358 | 代理人： | 張騰 |
| 地址： | 050502 河*** | 國省代碼： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 濕法 云母 研磨機 | ||
【權利要求書】：
1.一種濕法云母研磨機,包括機架，其特征在于，所述機架上設置有橫向設置的進料攪拌機構，所述進料攪拌機構一端設置有進料口，另一端連接濕法研磨機構，所述進料攪拌機構內沿進料攪拌機構殼體長度設置有攪拌螺旋，所述進料攪拌機構殼體具有預設的長度，所述攪拌螺旋連接第一動力部以驅動所述攪拌螺旋將物料從進料口輸送至濕法研磨機構，所述濕法研磨機構包括殼體，所述殼體上端設置有出料口，所述殼體內設置有篩網，所述篩網呈圓環狀，其靜置研磨盤與動置研磨盤分別設置于圓環狀篩網兩側的開口位置，以形成研磨腔，所述研磨腔一側連接進水管，所述研磨腔內設置有靜置研磨盤與動置研磨盤，所述靜置研磨盤豎向固定設置，所述動置研磨盤相對設置于靜置研磨盤一側且之間具有預設的間隔距離，所述動置研磨盤連接第二動力部以驅動其旋轉，所述動置研磨盤與靜置研磨盤相對一側表面分別設置有研磨齒，相對的兩個研磨齒之間交錯設置且具有預設的角度。
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