[實用新型]一種激光刻邊設備有效
| 申請號: | 201720291511.2 | 申請日: | 2017-03-23 |
| 公開(公告)號: | CN206650098U | 公開(公告)日: | 2017-11-17 |
| 發明(設計)人: | 何達能;方結彬;陳剛 | 申請(專利權)人: | 浙江愛旭太陽能科技有限公司;廣東愛康太陽能科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 廣州知友專利商標代理有限公司44104 | 代理人: | 侯莉 |
| 地址: | 322000 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 激光 設備 | ||
1.一種激光刻邊設備,其特征在于:它包括用于放置至少一片硅片的固定平臺、可升降的下壓板和在固定平臺外圍設置的激光發生器,所述激光發生器可沿固定平臺外圍的圓周移動,所述下壓板為柱狀體并豎向設于固定平臺的正上方,所述激光發生器移動到位且其發射頭對準硅片的側面,同時下壓板下壓硅片,以便發射頭發射的激光去除硅片周邊的PN結。
2.根據權利要求1所述的激光刻邊設備,其特征在于:固定平臺的臺面內部中空,在臺面的上表面設有用于吸附固定硅片的真空吸附孔,所述真空吸附孔與臺面內部相通并和抽真空裝置連接。
3.根據權利要求2所述的激光刻邊設備,其特征在于:所述激光發生器為Nd:YAG激光器。
4.根據權利要求3所述的激光刻邊設備,其特征在于:所述激光發生器
所發出的激光的光斑直徑為10~250微米。
5.根據權利要求4所述的激光刻邊設備,其特征在于:所述激光發生器所發出的激光的波長為1064nm、532nm或355nm。
6.根據權利要求5所述的激光刻邊設備,其特征在于:所述固定平臺的臺面的形狀為圓形、四方形或六邊形。
7.根據權利要求6所述的激光刻邊設備,其特征在于:所述下壓板的橫截面的形狀是圓形、四方形、五邊形或六邊形。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





