[實用新型]一種新型電芬頓反應裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720286675.6
• 申請日: 2017-03-23
• 公開（公告）號: CN206616046U
• 公開（公告）日: 2017-11-07
• 發(fā)明（設計）人: 王艷秋;廉昇陽;呂艷麗;周暢;張政;曹詩瑜
• 申請（專利權(quán)）人: 遼寧科技大學
• 主分類號: C02F1/467
• 分類號: C02F1/467
• 代理公司: 鞍山嘉訊科技專利事務所21224
• 代理人: 張群

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及廢水處理裝置，特別涉及一種新型電芬頓反應裝置。

背景技術(shù)

芬頓法是處理各種難降解有機物應用最多的一種高級氧化技術(shù)，其可有效處理酚類、農(nóng)藥、印染、焦化及垃圾滲濾液等難降解廢水，但是藥劑成本較高。電芬頓法是近年來在芬頓基礎上發(fā)展的新技術(shù)，其實質(zhì)是用電化學法產(chǎn)生Fe²⁺或H₂O₂，或者同時產(chǎn)生組成Fenton試劑的這兩種物質(zhì)氧化分解有機物的方法，依靠電化學氧化法不僅可以深度處理廢水而且可以節(jié)省藥劑用量。但傳統(tǒng)電芬頓裝置如圖1所示，電極與攪拌轉(zhuǎn)子上下放置，為了避免電極觸碰到轉(zhuǎn)子，電極與反應槽底部要留出一定的空間，相對地減小了電極與液體接觸面積和不便于操作維護；處理設備電極間距不能準確靈活的控制，往往通過使用不同體積的反應槽體來改變電極間的距離而導致處理水量發(fā)生變化。

發(fā)明內(nèi)容

本實用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種新型電芬頓反應裝置，解決傳統(tǒng)電芬頓裝置極板間距不能準確靈活的控制而使用不同體積的反應槽體來改變電極間的距離而導致處理水量發(fā)生變化的問題。解決傳統(tǒng)電極與反應槽底部留出一定的空間，相對地減小了電極與液體接觸面積和不便于操作維護的問題。

為實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用以下技術(shù)方案實現(xiàn)：

一種新型電芬頓反應裝置，包括穩(wěn)壓電源，電極，反應槽，攪拌轉(zhuǎn)子，磁力攪拌器；所述反應槽放置于磁力攪拌器上方，反應槽內(nèi)平行設有兩個可移動的電極固定槽，連接穩(wěn)壓電源的兩電極分別置于兩電極固定槽內(nèi)，反應槽為長方體，其兩側(cè)邊上沿上設有滑移軌道，兩個電極固定槽沿滑移軌道滑動，電極固定槽內(nèi)的電極底邊與反應槽底面接觸，攪拌轉(zhuǎn)子放置于兩電極之間或兩電極外側(cè)。

所述的反應槽一側(cè)面槽口外沿上設有刻度。

所述的滑移軌道上設有供電極固定槽滑動的滑槽。

所述的電極固定槽兩側(cè)設有與滑移軌道上滑槽相配合的滑塊。

與現(xiàn)有的技術(shù)相比，本實用新型的有益效果是：

本實用新型電芬頓裝置電極與攪拌轉(zhuǎn)子互不影響，當極板間距很小時也可以進行攪拌，同時因為電極與攪拌轉(zhuǎn)子的相對位置由上下改為左右相對的，可以增大極板與液體的接觸面積同時便于對設備的操作和維護保養(yǎng)；極板間距可以通過電極固定槽自由的調(diào)節(jié)，不會因使用不同體積的反應槽體來改變電極間的距離而導致處理水量發(fā)生變化；極板間的間距可以直接從反應槽口上讀出,便于準確靈活的控制極板間距；具有良好的應用前景。

附圖說明

圖1為傳統(tǒng)電芬頓裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3為反應槽的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖4為電極固定槽的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：穩(wěn)壓電源1、電極2、原反應槽3、反應槽4、攪拌轉(zhuǎn)子5、磁力攪拌器 6、電極固定槽7、滑移軌道8、刻度9、滑槽10、滑塊11、導線12。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖對本實用新型的具體實施方式進一步說明：

如圖2-圖4，一種新型電芬頓反應裝置，包括穩(wěn)壓電源1，電極2，反應槽4，攪拌轉(zhuǎn)子5，磁力攪拌器6；反應槽4放置于磁力攪拌器6上方，反應槽4內(nèi)平行設有兩個可移動的電極固定槽7，兩電極2分別置于兩電極固定槽7內(nèi)，兩電極2通過導線12與穩(wěn)壓電源1的兩極相連，通過穩(wěn)壓電源1來控制極板間的電壓。

反應槽7為長方體，其兩側(cè)邊上沿上設有滑移軌道8，兩個電極固定槽7沿滑移軌道8滑動，電極固定槽7內(nèi)的電極底邊與反應槽4底面接觸，攪拌轉(zhuǎn)子5放置于兩電極之間或兩電極外側(cè)。

反應槽4一側(cè)面槽口外沿上設有刻度9。根據(jù)所需要的距離在反應前設定兩極板之間的距離，同時也便于在反應時進行監(jiān)察和調(diào)節(jié)極板間的距離。

如圖3，滑移軌道8設置在反應槽4內(nèi)沿上，滑移軌道8上設有供電極固定槽7滑動的滑槽10。

如圖4，電極固定槽7為框式結(jié)構(gòu)，具體形狀可以根據(jù)實際需要來進行調(diào)整，以便不影響液體的攪拌和液體跟電極的接觸。電極固定槽兩側(cè)設有與滑移軌道上滑槽相配合的滑塊11。

本裝置可根據(jù)電極固定槽7位置調(diào)整攪拌轉(zhuǎn)子位置，互不干涉，可以增大極板與液體的接觸面積同時便于操作和維護,極板間距可以自由地調(diào)節(jié),極板間的間距可以直接從反應槽上讀出,而且不會因為極板間距的變化而改變處理水量的體積。

上面所述僅是本實用新型的基本原理，并非對本實用新型作任何限制，凡是依據(jù)本實用新型對其進行等同變化和修飾，均在本專利技術(shù)保護方案的范疇之內(nèi)。