[實用新型]利用壓電致動的振蕩結構、投射MEMS系統

有效

• 申請號: 201720285939.6
• 申請日: 2017-03-22
• 公開（公告）號: CN206757183U
• 公開（公告）日: 2017-12-15
• 發明（設計）人: R·卡爾米納蒂;M·默利;S·康蒂
• 申請（專利權）人: 意法半導體股份有限公司
• 主分類號: G02B26/08
• 分類號: G02B26/08
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所11256
• 代理人: 王茂華

1.一種利用壓電致動的振蕩結構，其特征在于，所述振蕩結構包括：

第一扭轉彈性元件和第二扭轉彈性元件，所述第一扭轉彈性元件和第二扭轉彈性元件被限制到固定的支撐體的對應部分并且限定旋轉軸；

移動元件，所述移動元件被安排在所述第一與第二扭轉彈性元件之間并連接到所述第一和第二扭轉彈性元件，由于所述第一和第二可變形元件的扭轉，所述移動元件可圍繞所述旋轉軸旋轉；以及

第一控制區域，所述第一控制區域耦合到所述移動元件并且容納第一壓電致動器，所述第一壓電致動器被配置成用于在使用中引起所述第一控制區域的局部變形，所述局部變形生成所述第一和第二扭轉彈性元件的扭轉。

2.根據權利要求1所述的振蕩結構，其特征在于，所述移動元件包括：中心體、在所述中心體與所述第一扭轉彈性元件之間的第一連接區域、以及在所述中心體與所述第二扭轉彈性元件之間的第二連接區域，

所述第一控制區域相對于所述第一和第二連接區域被固定并且通過第一溝槽與所述中心體分開。

3.根據權利要求2所述的振蕩結構，其特征在于，所述第一和第二連接區域中的每一個都具有比所述第一和第二扭轉彈性元件中的每一個的扭轉剛性常數高的扭轉剛性常數。

4.根據權利要求3所述的振蕩結構，其特征在于，所述第一和第二連接區域中的每一個的所述扭轉剛性常數比所述第一和第二扭轉彈性元件中的每一個的所述扭轉剛性常數大至少一個數量級。

5.根據權利要求2至4中任一項所述的振蕩結構，其特征在于，進一步包括第二控制區域，所述第二控制區域耦合到所述移動元件并且容納第二壓電致動器，所述第二壓電致動器被配置成用于在使用中引起所述第二控制區域的局部變形，所述局部變形生成所述第一和第二扭轉彈性元件的扭轉，所述扭轉與由所述第一壓電致動器在使用中生成的所述扭轉相反。

6.根據權利要求5所述的振蕩結構，其特征在于，所述第二控制區域相對于所述第一和第二連接區域被固定并且通過第二溝槽與所述中心體分開。

7.根據權利要求2至4中任一項所述的振蕩結構，其特征在于，所述中心體容納反射鏡，所述振蕩結構形成微反射鏡。

8.根據權利要求5所述的振蕩結構，其特征在于，所述第一和第二控制區域與所述移動元件共面。

9.根據權利要求5所述的振蕩結構，其特征在于，所述第一和第二控制區域在與所述移動元件所在的平面平行的、位于低于所述移動元件所在的所述平面的高度上的平面中延伸。

10.根據權利要求5所述的振蕩結構，其特征在于，所述第一和第二控制區域在與所述移動元件所在的平面平行的、位于大于所述移動元件所在的所述平面的高度上的平面中延伸。

11.根據權利要求1至4、6、8至10中任一項所述的振蕩結構，其特征在于，進一步包括電子電路，所述電子電路操作性地耦合到所述第一壓電致動器，并且被配置成用于將所述第一壓電致動器偏置為驅動電壓從而生成并維持所述移動元件的振蕩。

12.一種投射MEMS系統，其特征在于，包括：

根據權利要求1至11中任一項所述的振蕩結構；

反射元件，所述反射元件被限制到所述移動元件，并且被設計成用于反射光束；

光源，所述光源可以被操作用于生成在所述反射元件上的入射光束；以及

圖像生成模塊，所述圖像生成模塊操作性地耦合到所述振蕩結構，用于生成與由所述反射元件所反射的光束相關聯的圖像的一部分。