[實用新型]一種手機殼體噴砂治具及包括其的噴砂裝置

有效

• 申請號: 201720285695.1
• 申請日: 2017-03-23
• 公開（公告）號: CN206717674U
• 公開（公告）日: 2017-12-08
• 發明（設計）人: 李遠;李亞;蔡伯紅;彭真望;潘展智
• 申請（專利權）人: 惠州比亞迪實業有限公司
• 主分類號: B24C3/20
• 分類號: B24C3/20;B24C9/00;B24C5/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及機械加工技術領域，具體涉及一種手機殼體噴砂治具及包括其的噴砂裝置。

背景技術

在現有技術中，手機殼體工件的噴砂工藝包括正面噴砂和反面噴砂兩道工序。由于要進行反面噴砂，所以增加了一道工序，導致設備、人工和成本相應增加了一倍，而且會增加一次產品的中轉，會造成產品磕傷和碰傷，影響噴砂質量。

實用新型內容

本實用新型旨在至少在一定程度上解決上述技術中的技術問題之一。為此，本實用新型的第一目的在于提出一種手機殼體噴砂治具。該手機殼體噴砂治具可使正面噴砂和反面噴砂兩道工序同時進行，以此提高噴砂效率。本實用新型的第二目的在于提出一種噴砂裝置。

為達到上述目的，本實用新型一方面提出了一種手機殼體噴砂治具，其用于加工一種手機殼體工件，所述手機殼體工件的內端面上設有定位柱，其特征在于，所述手機殼體噴砂治具包括支撐架、第一定位塊、第二定位塊和夾緊塊，所述第一定位塊和夾緊塊安裝在所述支撐架的一端，所述第二定位塊安裝在所述支撐架的另一端；所述第二定位塊和第一定位塊的形狀為U型且與手機殼體工件的形狀相適應，所述第一定位塊上設有第一弧形凹部，所述夾緊塊設有第二弧形凹部，所述第一弧形凹部和第二弧形凹部用于夾緊所述定位柱。

在本實用新型所提供的手機殼體噴砂治具中，第二定位塊和第一定位塊的形狀設計為U型，以減少第一定位塊、第二定位塊與手機殼體工件的接觸面積，通過第一弧形凹部和第二弧形凹部的夾緊作用對手機殼體工件進行固定。因此，在對工件進行噴砂處理時，除了對手機殼體工件的外端面進行噴砂，還可以對手機殼體工件的不與第一定位塊、第二定位塊接觸的內端面的部分進行噴砂，做到同時對手機殼體工件兩面噴砂的操作，提高了噴砂工藝的效率，節省了人工和成本。

優選地，所述第一定位塊的上表面和第二定位塊的上表面均與所述手機殼體工件的內端面接觸，所述第一定位塊和第二定位塊的側面形狀均與所述手機殼體工件內側面的形狀相適應，所述第一定位塊和第二定位塊的側面與所述手機殼體工件內側面間隙配合。

所述第一定位塊和第二定位塊的側面與所述手機殼體工件內側面間隙配合，即第一定位塊與所述手機殼體工件內側面在配合時存在一定距離，第二定位塊與所述手機殼體工件內側面在配合時也存在一定距離，這樣設置既能一定程度上對手機殼體工件進行定位，又有利于手機殼體工件的取放。

優選地，所述支撐架包括：

第一U型臂，所述第一U型臂設置在所述支撐架的一端，所述第一U型臂的形狀與第一定位塊相適應，所述第一定位塊安裝在所述第一U型臂上；

第二U型臂，所述第二U型臂設置在所述支撐架的另一端，所述第二U型臂的形狀與第二定位塊相適應，所述第二定位塊安裝在所述第二U型臂上；

支撐梁，所述支撐梁的兩端分別與第一U型臂、第二U型臂固定。

支撐架的體積過大會影響噴砂的有效面積，使支撐架的形狀與定位塊（第一定位塊和第二定位塊）的形狀相適應可有效減少支撐架形狀對噴砂質量的影響。

優選地，所述支撐架設有凸塊，所述凸塊上設有槽孔，所述夾緊塊的一端設有第二弧形凹部，所述夾緊塊的另一端伸入所述槽孔，所述槽孔和夾緊塊之間設有復位彈簧，所述復位彈簧用以限制所述夾緊塊往遠離第一定位塊的方向移動。復位彈簧的設置有助于手機殼體噴砂治具固定手機殼體工件。

優選地，所述手機殼體噴砂治具還包括連接板、底座，所述連接板的上表面與所述支撐梁固定連接，所述連接板的下表面與所述底座的上表面固定連接。

優選地，所述連接板的下表面設有T型滑塊，所述底座的上表面均設有與所述T型滑塊相配合的T型滑槽。T型滑槽和T型滑塊的設置可使手機殼體噴砂治具的裝配更加穩固更加靈活。

優選地，所述T型滑塊和T型滑槽的表面附著有磁性物質，所述T型滑塊和T型滑槽可通過磁力連接在一起。

本實用新型另一方面提出了一種噴砂裝置，其包括以上所述任意一種手機殼體噴砂治具，還包括若干個噴槍，所述噴槍圍繞所述手機殼體噴砂治具設置，所述噴槍的噴射方向與水平面的夾角為50°~80°。

優選地，所述噴砂裝置還包括一旋轉機構，所述噴砂裝置還包括一旋轉機構，所述手機殼體噴砂治具的底部設有一轉軸，所述旋轉機構通過所述轉軸與所述手機殼體噴砂治具連接，所述旋轉機構用以驅動所述手機殼體噴砂治具繞所述轉軸旋轉。旋轉機構和轉軸的設置可使手機殼體噴砂治具360°旋轉，有助于對死角區域進行噴砂處理，提高噴砂裝置的靈活性的同時提高噴砂質量。

附圖說明